，清洗，清洗器，清洗用，清洗半导体工艺0121-0001、具多用途密闭式洗净、真空干燥的方法及其装置
摘要、一种具多用途密闭式洗净、真空干燥的方法，是以洗净、真空干燥的装置，使用低溶解空气的洗净液及排液真空法使洗净容器产生真空，使空气压力对制程方法的影响降至最低，并利用一般液体的沸点随压力下降而降低、及液体饱和蒸气压力随温度下降而降低并造成压力差等特性，以控热及排热装置来调整真空洗净容器内的温度及蒸气压力，以便於在同一装置内实施湿式洗净、干式洗净、真空加热干燥、及真空冷冻干燥的功能，并能回收干式洗净使用的低压气体及回收洗净液等废溶液达到环保及节约能源的方法及其装置。
0083-0002、借助于涂漆装置清洗输漆管路的方法和设备
摘要、本发明阐述一种借助于涂漆装置清洗输漆管路(1、的方法和设备，该输漆管路由至少一储漆器(2，9、连接到一涂漆器(3、，并在工作阶段时在该方向上使漆流过该管路。在处于各工作阶段之间的清洗阶段期间，通过该输送管路(1、挤压一清洗剂。按本发明一种惰性气体例如氮被用作气体，而且在清洗阶段最后注入该惰性气体。该惰性气体将保留在该输送管路(1、内，直至每次持续的工作阶段开始。
0157-0003、一种电励移进磁场洗涤方法
本发明涉及一种电励移进磁场洗涤方法，尤其是利用电励移进磁场来洗涤物品的方法。本发明是在物品容器内增加移进磁场发生装置，并使产生的移进磁场能作用物品容器内的物品和洗涤液，由于洗涤液中有大量的带电离子，带电离子会受到移进磁场的作用力，在力的作用下，带电离子一边振动，一边向移进磁场方向运动，由此产生物品与物品上的污垢的相对运动作用力有了这个作用力，就可以让污垢从物品上脱离，完成洗涤物品作用。本发明优点有：洗涤去污垢作用强、大大减小噪音、使物品的洗涤磨损更低、结构简单、洗涤速度快等等。
0145-0004、电子设备无触摸空气压力在线清洗方法
摘要、一种电子设备无触摸空气压力在线清洗方法，涉及一种电子设备的清洗方法。为了解决现有电子设备清洗方法的清洗不彻底，以及不能在线清洗等缺点，本发明提供一种不用将电子设备的板子拔下就可以将电子设备内的灰尘在线彻底清除的电子设备无触摸空气压力在线清洗方法。本发明首先把空气压力泵与变色硅胶及油水分离器连接，再安装上绝缘防静电探头，由操作人员打开气门，将干燥的气体吹出。将绝缘防静电探头对准设备内板子的表面及板口缝隙，将过滤后的干燥气体吹入设备内部。将排风设备的进风口对准设备的另一与其相通的缝隙。本发明安全可靠，不存在腐蚀及绝缘不良的问题成本低，不存在污染转移的问颗。
0027-0005、具有塑料管柱的罐清洗装置
摘要、一种管罐清洗装置(10、包括一连接到多个管柱(12、上的供应管道或集管(11、。该管柱(12、由塑料制成，且通过一细长的金属支撑件(22、固定在罐清洗装置的框架上，该支撑件被焊接到管清洗装置的框架上。该金属支撑件(22、吸收喷流(31、的力，从而防止管柱(12、在使用过程中移动和弯曲。
0172-0006、等离子体反应室的干式清洁方法
摘要、一种等离子体反应室的干式清洁方法，适用于金属蚀刻工艺。首先，将一具有一金属层的基底置入一等离子体反应室。接着，蚀刻基底上的金属层。最后自等离子体反应室移出基底并实施一干式清洗程序。其首先，借由氧气形成的等离子体清洁等离子体反应室内壁。随后，借由氯气及氯化硼气体形成的等离子体清洁等离子体反应室的上电极及下电极。再以氟化硫气体及氧气形成的等离子体清洁等离子体反应室内壁。最后，于等离子体反应室通入及抽取作为迫除气体的氧气及*气。
0006-0007、钝化金属化层的方法
摘要、经过蚀刻金属化层处理的半导体晶片包括蚀刻后的残留物，这些残留物将用写罅康模茫?，２溶解在其中的含氟溶液予以清除。另外，采用有大量的Ｏ３溶解在其中的溶剂将曾经用来清除残留物的含氟溶液（或其它类似的溶液）从晶片上冲洗掉。在每种情况下金属化层的凹坑都会减少。
0030-0008、蒸发器的在线机械自动清洗技术
摘要、本发明涉及的是一种蒸发器的在线机械自动清洗技术。主要由安装在加热管内的自转清洗纽带以及产生自然循环大推动力的助推器、大深度的沸腾室、碎泡板组、阻汽板、回流循环管段等部件组成。能够在生产运行时借助自转纽带实行自动清洗，克服现有蒸发器结垢严重需要周期清洗的缺陷，具有蒸发能力大、能耗低、无需强制循环、结构简单的优点。适用于制糖、制盐、化工、制药、冶金等部门的蒸发过程。
0014-0009、油槽的清洁方法以及实现该方法的装置
摘要、本发明涉及一种储存原油的浮动顶盖式油槽（１）的清洁方法。按照这种方法，将油槽中油泥渣（３）上方部分清空用浮动顶盖（２）上所带的喷管（５）将油槽（１）中剩下的原油吸出然后重新注入油槽（１），同时用马达驱动每一个喷管旋转。喷管的所述注入操作在原油空间中产生扰动，从而重新使所述油泥渣（３）悬浮到原油中去。本发明还涉及一种实现所述方法的装置。
0100-0010、掩膜母版清洁法
摘要、本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术，清洁液由下列组分配比而成：双氧水1份，浓硫酸0.5-3份，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次自然风干即可，经过此法清洗的母版表面非常干净，无异物、无油渍、无灰尘、无水汽，可保证一次性清洗干净，而且清洁液可多次重复使用，使用周期为一个月，是一种省时、省力、高效的清洁掩膜母版的方法。
0168-0011、空气淋浴装置
0173-0012、蒸气喷射清洁器
0050-0013、管道清刷装置
0057-0014、从基材中除去有机材料的方法
0093-0015、三元射频脉冲管道清洗法及其装置
0189-0016、氮化硼坩埚的化学清洗
0112-0017、压缩气体洗净系统的流体驱动搅拌器
0021-0018、静电集油尘设备的电极装置清洁方法及其装置
0085-0019、玻璃杯冲洗和冷却装置
0007-0020、食品处理设备及食品处理方法
0034-0021、用于处理诸如半导体晶片之类的工件的工艺和设备
0110-0022、使用受控的气溶胶及气体来干燥和清洁物体的改进
0142-0023、在移动物体的预定部位注入产品的装置
0101-0024、超声波清洗处理器
0018-0025、处理微电子工件的微环境反应器
0206-0026、基板处理装置及基板处理方法
0208-0027、探针洗净装置
0200-0028、锭翼清洗机
0015-0029、一种大型硫酸储罐清洗的方法
0161-0030、用于从物体的微结构中清除残余物的方法和组合物
0133-0031、其中已经处理和/或产生含（甲基）丙烯酸的有机溶剂的设备的清洁方法
0162-0032、清洁方法
0075-0033、氧化锆陶瓷插针深内孔道清洗方法
0183-0034、刻蚀剂烟排出装置
0124-0035、于激光标记加工机上除去灰烟的方法与系统
0188-0036、一种多功能免拆清洗方法及其清洗装置
0203-0037、洗净装置及洗净方法
0008-0038、电机轴承清洗装置
0179-0039、表面处理设备和方法及用该设备进行接线的设备和方法
0072-0040、新式清洗沉积喷出头的方法与设备
0187-0041、蒸汽处理装置
0103-0042、涮瓶机
0043-0043、填料环清洗装置
0026-0044、半导体自动处理系统
0184-0045、涡旋水流式清洗网衣的方法及清洗器
0061-0046、物体处理机
0024-0047、带有软管卷筒的高压清洗器械
0192-0048、清洗电子元件的装置和方法
0044-0049、排水管清洗方法及其装置
0081-0050、半导体制造设备干洗时期判定系统、干洗方法和干洗系统
0013-0051、气暴式脱脂方法
0012-0052、清除半导体封装设备中模具表面污物的方法
0164-0053、机械车间真空除尘系统及其控制器
0115-0054、液处理装置及液处理方法
0019-0055、用于清洗半导体晶片的装置和方法
0105-0056、内窥镜用的清洗器
0151-0057、光纤部件清洁器
0003-0058、工业净化装置
0136-0059、晶片容器清洗设备
0205-0060、超声波分布在流体中实现超声清洗
0147-0061、高压清洗机
0163-0062、从表面上去除微粒的清洗方法、清洗装置和光刻投影装置
0065-0063、解除阀的被卡住状态
0022-0064、半导体制造装置用氟橡胶类成型制品的洗涤方法和被洗涤的成型制品
0004-0065、清洁系统
0186-0066、大规格轴承及轴承箱体大流量高压立式清洗机
0059-0067、低成本可液化气体洗净方法
0048-0068、洗净夹具及使用它的洗净方法
0130-0069、干法交联生产线管道清理方法及其清理球
0017-0070、一种利用控制气体浓度的处理液湿法处理电子元件的方法
0111-0071、高转速百万赫频率带域超音波清洗
0122-0072、容器清洗器
0106-0073、高压去毛刺清洗方法及其设备
0150-0074、利用换向隔膜电解水的洗涤方法及其装置
0160-0075、基板处理装置
0025-0076、喷气射流除尘清扫方法及其装置
0099-0077、用于光纤熔接器的电极清洁装置
0108-0078、从固态表面除去粒子的原地模块
0143-0079、附着于玻璃面的异物的除去方法及除去装置
0182-0080、化学机械研磨机台的调节器清洗装置
0159-0081、集尘器
0074-0082、手提式蒸汽清洁枪
0134-0083、一种利用微波清洁材料表面的方法及其装置
0002-0084、清洗包装机所用方法与设备
0084-0085、风管积尘固化法及专用固化剂
0156-0086、压力清洗机装置
0135-0087、一种清除口香糖污迹的方法
0092-0088、声波吹灰器
0028-0089、索轨道在墙面喷涂清洗方面的应用
0055-0090、干冰清洗方法和干冰清洗装置
0058-0091、一种聚酯装置酯化缩聚工序的清洗方法
0052-0092、容器清洗装置
0070-0093、啤酒管线的清洁
0010-0094、被测定工件的自动清洗装置及设有该装置的自动生产系统
0190-0095、超声波清洗装置以及超声波清洗方法
0011-0096、全部表面可偏压和/或温度控制的静电屏蔽射频等离子源
0128-0097、基板洗净方法及洗净装置
0180-0098、多功能清洁建筑表面的装置
0176-0099、一种锚系式海洋光学仪器窗口防生物附着装置
0042-0100、洗净用的海绵辊
0056-0101、清洗方法和设备、被清洗的清洗物体和进料斗
0068-0102、供水管道内壁除垢机
0038-0103、洗涤方法和液晶装置和制造方法
0127-0104、电子照相感光体用基体的清洗方法及清洗装置
0193-0105、套用式清洁用品
0154-0106、中空纤维分离膜的超声波清洗装置
0095-0107、薄膜的剥离方法，薄膜的剥离装置以及显示装置面板的制造方法
0035-0108、带有拉抻纤维尖端的拭子
0041-0109、管道清洗设备
0117-0110、清洁用标签片和具有清洁功能的输送件
0032-0111、基板表面处理装置
0051-0112、超纯溶剂清洗用的多组份容器组件
0097-0113、废弃口香胶清除方法
0139-0114、使用氢氟碳和/或氢氯氟碳化合物进行清洁的方法
0020-0115、提供脉动流体的装置和方法
0077-0116、液晶显示器单元输送装置
0029-0117、高压气体管道除垢及护壁方法
0170-0118、清洗设备
0079-0119、擦尘机
0158-0120、晶片电子器件的清洗干燥方法及装置
0152-0121、全自动清洗机
0069-0122、管端处理工具
0196-0123、塑料瓶洗瓶机
0064-0124、使用组合化学品原位清洗半导体制造装置的方法和系统
0202-0125、去除化学反应器上的沉积物的方法
0023-0126、一种中央空调清洗方法
0120-0127、高压气、水管道除垢及护壁方法
0031-0128、轮换吸尘式叠层除尘器
0073-0129、眼科元件洗涤或水合的方法和仪器
0049-0130、半导体晶片兆赫声波清洗用去离子水的控温充气
0116-0131、清洁片、使用清洁片的输送件、使用清洁片与输送件的基片处理设备清洁方法
0104-0132、物品的洗涤方法与洗涤装置
0191-0133、基片清洁装置和基片处理设备
0082-0134、清蜡过程全自动智能测控的方法及装置
0167-0135、超临界流体工艺条件的原位监控方法和装置
0138-0136、光学介质的脱金属工艺
0125-0137、清洁片及其输运元件、以及衬底处理设备清洁方法
0169-0138、清洗安装透镜前表面的方法和装置
0039-0139、框格传感器及用一多路元件阵列对一框格进行传感的方法
0091-0140、负压等离子体装置及负压等离子体清洗方法
0174-0141、蒸汽清洁器
0123-0142、移动机体内的排水管清洗系统
0155-0143、衬底保持装置、衬底处理设备以及释放衬底的方法
0060-0144、低成本可液化气体洗净系统
0037-0145、洁用刮刀
0144-0146、全洗机
0148-0147、基板处理装置及基板清洗设备
0086-0148、带光催化和/或亲水涂层的基材
0153-0149、多功能SARS病毒医患“零距离”隔离房
0178-0150、通风管道清扫机器人
0204-0151、多工位全自动超声清洗装置
0166-0152、晶圆清洗的旋转湿制程及其设备
0088-0153、金属管新型清洗工艺
0114-0154、带有溶剂吹扫的化学品运送箱
0118-0155、家电蒸汽发生器的排空和清洗工具
0109-0156、清洗机复式搓瓶机构
0131-0157、用于制造平板显示器的带有液体混合喷嘴的清洗装置
0033-0158、锥形织物签
0054-0159、干冰清洗方法和装置以及由干冰清洗的部件或装置
0080-0160、风管喷射弹丸除尘法
0040-0161、火力发电厂灰管道清洁方法
0089-0162、针清洗系统
0087-0163、基板的洗涤方法，基板洗涤装置以及零件的安装方法
0141-0164、处理电子元件的方法及装置
0171-0165、大规格轴承及轴承箱体大流量高压卧式清洗机
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0132-0167、使用等离子清洁液晶显示器的方法与装置
0036-0168、特种环保、保健、省电、节水型超强去污清洗机
0094-0169、罐内自动清洗装置
0066-0170、旋流引射式洗涤节水器
0201-0171、医用或药用橡胶塞的清洗处理方法和装置
0129-0172、光处理装置
0140-0173、带防护罩机构的倒置压力容器
0005-0174、基片清洗方法和基片清洗液
0126-0175、超声波清洗组件
0149-0176、污水处理沉淀池积水槽污垢自动清扫机
0199-0177、制程装置排水回收系统及方法
0195-0178、超声波洗涤机以及具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴
0102-0179、一种用于空调和其它用途的清洁管路的装置
0181-0180、吸附式环保楷净机
0063-0181、气泡旋水流介质全自动洗涤机
0067-0182、除去原油槽中的淤渣、并从中回收油的方法
0185-0183、清洗硅表面的方法以及用此方法制造薄膜晶体管的方法
0207-0184、洗涤材料及采用该洗涤材料的洗涤方法
0047-0185、多功能清洗模块及应用该模块的清洗设备
0146-0186、基板处理装置及基板清洗方法
0045-0187、清洗方法、半导体器件的制造方法及有源矩阵型显示器件的制造方法
0137-0188、刮拭器
0053-0189、清洗阀门或管道的方法
0098-0190、胶球连续清洗凝汽器的收球网
0001-0191、海绵片
0107-0192、局部去除敷在半透明或透明基底上的敷层的方法
0175-0193、瞬间加热式蒸气清洁器
0113-0194、一种动力环保清洗器及其清洗方法
0009-0195、清洗有水落管的的管道的方法和设备
0119-0196、高楼自动清洗装置
0046-0197、一种喷射式除水垢的方法
0194-0198、液晶显示装置元件组装自动气浴清洁装置及方法
0016-0199、高层楼宇玻璃幕墙清洗机
0071-0200、一种光洁表面的清洁方法和清洁用品
0062-0201、从细粒状土壤、粘土和粉砂中去除污染物的设备和方法
0078-0202、超高压带电机器人清扫刷子的自动对心装置
0165-0203、使用微乳液除去有机和/或无机污垢清洗固体表面的方法
0198-0204、有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法
0076-0205、一种管道透析碎石疏通装置
0090-0206、子弹式油管清洗工艺
0096-0207、超声波清洗玻璃慢拉脱水方法
0197-0208、间隙旋转式塑料瓶清洗机
0209-0209、可控喷液清洁刷
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