(1001359-0014-0001)高温立式双端离子镀膜机
(资料说明）高温立式双端离子镀膜机，它包括镀膜室和安装在镀膜室中的溅射靶，其特征是在镀膜室的进料口及出料口均安装有高温加热器，镀膜室内的两侧安装有溅射靶极，溅射靶极立式安装。本实用新型的溅射镀膜机可以镀制对于温度要求较高的涂层，并且镀出的膜层附着力较高，由于被镀工件位于溅射靶极的中间，所以可以在被镀件的两面同时镀制膜层，可以提高工作效率一倍以上，也可以用来镀制复合膜层，并且占地面积较小。
(1001359-0012-0002)多弧型离子镀膜机
(资料说明）一种多弧型离子镀膜机，其镀膜室由内外两同轴放置的圆柱状筒壁构成的环形镀膜空间，在筒体内外壁上均装有蒸发离化源。镀膜室内装有加热器，镀膜室顶部装有带传动装置和工件架的上盖。这种镀膜机装机容量大，生产效率高，适用于镀制不锈钢板及其制品等，也适用于镀制大尺寸环状或筒状大型工件的表面。
(1001359-0028-0003)平面离子源增强沉积镀膜机
(资料说明）
(1001359-0016-0004)制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机
(资料说明）一种用于金属表面处理可制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机。它是在常规的真空离子镀膜机上再配置射频(Ｒ．Ｆ）磁控溅射靶，将其与多个电弧蒸发靶、多个多种直流(Ｄ．Ｃ）磁控溅射靶有机地组合在一个真空室内，制备出既有金属相又有陶瓷相特性的多层多种复合膜，尤其是能镀制出透明陶瓷保护膜，使金属表面改性达到高耐磨损、强耐腐蚀的目的。
(1001359-0001-0005)一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
(资料说明）一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器，它包括单片机、触摸显示单元、A/D转换单元、D/A转换单元、放大器单元、驱动单元、继电器单元和开关量输入单元。该控制器可由现场操作者通过触摸显示屏输入制定的镀膜生产工艺，控制器按照工艺流程，通过控制真空多弧离子镀膜机的真空压强、电弧源电流、镀膜室温度、工件负偏压、充气流量以及真空泵、电磁阀门等设备，实现镀膜机的智能一体化控制，使真空镀膜工艺得到稳定保证镀膜质量和设备安全。
(1001359-0018-0006)等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
(资料说明）等离子体型多弧源－磁控溅射镀膜机，它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有Ｅ型电子*，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。本实用新型的优点有：由于生产工艺的简化和设备投资的减小，使产品的生产成本得到降低。消除了原生产工艺对环境的污染及对人体所产生的有害影响，可以在仿金饰件外镀制保护膜，可以提高其使用寿命。
(1001359-0020-0007)离子束溅射镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种离子束溅射镀膜装置。由镀膜室、离子*、旋转靶、衬底夹持架等组成，镀膜室为圆筒形，离子*位于镀膜室顶部，镀膜室中部倾斜４５°角安装旋转把，离子*引出栅轴心线与旋转把一面靶材中心点位于同一垂直轴线上，镀膜室中部同一高度向右侧安装衬底夹持架，在其上样品表面与反射束流方向垂直，离子*与旋转靶及旋转靶与衬底夹持架间装有档板，镀膜室底部与真空抽气装置连接。它操作方便，镀膜质量高，用于制备Ｘ射线、软Ｘ射线光学超薄多层膜。
(1001359-0007-0008)等离子镀膜机点弧自控装置
(资料说明）本实用新型是一种等离子镀膜机点弧自控装置。它在现有技术的基础上进行了改进。仅采用一个继电器，直接利用点弧信号来控制点弧时间，该继电器两工作电压控制端，一端取自弧电源的负端，另一端通过限流电阻连接在弧电源的正端,从而解决了原有装置存在的引弧丝易烧断和引弧丝易与基体粘结等问题。本实用新型结构简单，成本降低，工作可靠、经实际应用，引弧效果良好。
(1001359-0015-0009)旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
(资料说明）一种旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机，在镀膜室中央安装旋转磁控柱状弧源。主要由镀膜室、工件转架、旋转磁控柱状弧源、进气系统、弧源电源、烘烤加热源、引弧针系统、真空系统、工件偏压电源组成。柱弧源由管状金属材料作靶材、管内安装数根条形永磁体，永磁体在靶管内作旋转运动。弧斑呈线状沿柱弧靶全长分布，并沿柱弧靶面扫描。旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机有立式结构、卧式结构、箱式结构。设备结构简单操作简便。适于镀氮化钛涂层。应用于超硬涂层刀具和钛金精饰品等领域。
(1001359-0005-0010)多蒸发离化源离子镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种多蒸发离化源离子镀膜机，属于离子镀表面沉积技术。该镀膜室为筒式结构，室壁与镀膜室底座焊接或螺接，镀膜室置于底座上。加热器焊封在镀膜室底座或侧盖的中心或四周。镀膜室的另一端有密封盖或门。多个(二个以上）蒸发离化源沿筒体轴线方向等距离布置在室壁的四周。真空排气系统与镀膜室相联。蒸发离化源由磁铁、靶材、引弧丝、冷却水套等组成。本实用新型设计的镀膜机构简单、通用性强，可以用于大型工件镀层。
(1001359-0023-0011)一种配置气体离子源的真空离子镀膜机
(1001359-0027-0012)加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
(1001359-0004-0013)多功能离子镀膜机
(1001359-0017-0014)多用途蚌形双室离子镀膜机
(1001359-0030-0015)一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极
(1001359-0009-0016)双端磁控溅射离子镀膜机
(1001359-0021-0017)加有离子源的有机蒸发镀膜装置
(1001359-0026-0018)真空离子镀膜机
(1001359-0002-0019)分立双室离子镀膜机
(1001359-0006-0020)多弧型离子镀膜机
(1001359-0022-0021)汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
(1001359-0019-0022)蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
(1001359-0003-0023)钛铝涂层用多弧离子镀膜机
(1001359-0013-0024)旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机
(1001359-0031-0025)视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机
(1001359-0024-0026)自动镀膜多弧离子镀膜机
(1001359-0025-0027)纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
(1001359-0029-0028)双面一次成膜真空离子溅镀机
(1001359-0032-0029)一种等离子体蒸发镀膜机
(1001359-0011-0030)旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
(1001359-0008-0031)柱状靶等离子镀膜机
(1001359-0010-0032)多弧型离子镀膜机
制作方法 离子镀膜机生产加工制备工艺技术 制作工艺离子镀膜机生产加工制备工艺技术
配方比例 离子镀膜机生产加工制备工艺技术 技术研究应用参考离子镀膜机生产加工制备工艺技术
(资料说明）高温立式双端离子镀膜机，它包括镀膜室和安装在镀膜室中的溅射靶，其特征是在镀膜室的进料口及出料口均安装有高温加热器，镀膜室内的两侧安装有溅射靶极，溅射靶极立式安装。本实用新型的溅射镀膜机可以镀制对于温度要求较高的涂层，并且镀出的膜层附着力较高，由于被镀工件位于溅射靶极的中间，所以可以在被镀件的两面同时镀制膜层，可以提高工作效率一倍以上，也可以用来镀制复合膜层，并且占地面积较小。
(1001359-0012-0002)多弧型离子镀膜机
(资料说明）一种多弧型离子镀膜机，其镀膜室由内外两同轴放置的圆柱状筒壁构成的环形镀膜空间，在筒体内外壁上均装有蒸发离化源。镀膜室内装有加热器，镀膜室顶部装有带传动装置和工件架的上盖。这种镀膜机装机容量大，生产效率高，适用于镀制不锈钢板及其制品等，也适用于镀制大尺寸环状或筒状大型工件的表面。
(1001359-0028-0003)平面离子源增强沉积镀膜机
(资料说明）
(1001359-0016-0004)制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机
(资料说明）一种用于金属表面处理可制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机。它是在常规的真空离子镀膜机上再配置射频(Ｒ．Ｆ）磁控溅射靶，将其与多个电弧蒸发靶、多个多种直流(Ｄ．Ｃ）磁控溅射靶有机地组合在一个真空室内，制备出既有金属相又有陶瓷相特性的多层多种复合膜，尤其是能镀制出透明陶瓷保护膜，使金属表面改性达到高耐磨损、强耐腐蚀的目的。
(1001359-0001-0005)一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
(资料说明）一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器，它包括单片机、触摸显示单元、A/D转换单元、D/A转换单元、放大器单元、驱动单元、继电器单元和开关量输入单元。该控制器可由现场操作者通过触摸显示屏输入制定的镀膜生产工艺，控制器按照工艺流程，通过控制真空多弧离子镀膜机的真空压强、电弧源电流、镀膜室温度、工件负偏压、充气流量以及真空泵、电磁阀门等设备，实现镀膜机的智能一体化控制，使真空镀膜工艺得到稳定保证镀膜质量和设备安全。
(1001359-0018-0006)等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
(资料说明）等离子体型多弧源－磁控溅射镀膜机，它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有Ｅ型电子*，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。本实用新型的优点有：由于生产工艺的简化和设备投资的减小，使产品的生产成本得到降低。消除了原生产工艺对环境的污染及对人体所产生的有害影响，可以在仿金饰件外镀制保护膜，可以提高其使用寿命。
(1001359-0020-0007)离子束溅射镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种离子束溅射镀膜装置。由镀膜室、离子*、旋转靶、衬底夹持架等组成，镀膜室为圆筒形，离子*位于镀膜室顶部，镀膜室中部倾斜４５°角安装旋转把，离子*引出栅轴心线与旋转把一面靶材中心点位于同一垂直轴线上，镀膜室中部同一高度向右侧安装衬底夹持架，在其上样品表面与反射束流方向垂直，离子*与旋转靶及旋转靶与衬底夹持架间装有档板，镀膜室底部与真空抽气装置连接。它操作方便，镀膜质量高，用于制备Ｘ射线、软Ｘ射线光学超薄多层膜。
(1001359-0007-0008)等离子镀膜机点弧自控装置
(资料说明）本实用新型是一种等离子镀膜机点弧自控装置。它在现有技术的基础上进行了改进。仅采用一个继电器，直接利用点弧信号来控制点弧时间，该继电器两工作电压控制端，一端取自弧电源的负端，另一端通过限流电阻连接在弧电源的正端,从而解决了原有装置存在的引弧丝易烧断和引弧丝易与基体粘结等问题。本实用新型结构简单，成本降低，工作可靠、经实际应用，引弧效果良好。
(1001359-0015-0009)旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
(资料说明）一种旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机，在镀膜室中央安装旋转磁控柱状弧源。主要由镀膜室、工件转架、旋转磁控柱状弧源、进气系统、弧源电源、烘烤加热源、引弧针系统、真空系统、工件偏压电源组成。柱弧源由管状金属材料作靶材、管内安装数根条形永磁体，永磁体在靶管内作旋转运动。弧斑呈线状沿柱弧靶全长分布，并沿柱弧靶面扫描。旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机有立式结构、卧式结构、箱式结构。设备结构简单操作简便。适于镀氮化钛涂层。应用于超硬涂层刀具和钛金精饰品等领域。
(1001359-0005-0010)多蒸发离化源离子镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种多蒸发离化源离子镀膜机，属于离子镀表面沉积技术。该镀膜室为筒式结构，室壁与镀膜室底座焊接或螺接，镀膜室置于底座上。加热器焊封在镀膜室底座或侧盖的中心或四周。镀膜室的另一端有密封盖或门。多个(二个以上）蒸发离化源沿筒体轴线方向等距离布置在室壁的四周。真空排气系统与镀膜室相联。蒸发离化源由磁铁、靶材、引弧丝、冷却水套等组成。本实用新型设计的镀膜机构简单、通用性强，可以用于大型工件镀层。
(1001359-0023-0011)一种配置气体离子源的真空离子镀膜机
(1001359-0027-0012)加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
(1001359-0004-0013)多功能离子镀膜机
(1001359-0017-0014)多用途蚌形双室离子镀膜机
(1001359-0030-0015)一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极
(1001359-0009-0016)双端磁控溅射离子镀膜机
(1001359-0021-0017)加有离子源的有机蒸发镀膜装置
(1001359-0026-0018)真空离子镀膜机
(1001359-0002-0019)分立双室离子镀膜机
(1001359-0006-0020)多弧型离子镀膜机
(1001359-0022-0021)汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
(1001359-0019-0022)蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
(1001359-0003-0023)钛铝涂层用多弧离子镀膜机
(1001359-0013-0024)旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机
(1001359-0031-0025)视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机
(1001359-0024-0026)自动镀膜多弧离子镀膜机
(1001359-0025-0027)纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
(1001359-0029-0028)双面一次成膜真空离子溅镀机
(1001359-0032-0029)一种等离子体蒸发镀膜机
(1001359-0011-0030)旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
(1001359-0008-0031)柱状靶等离子镀膜机
(1001359-0010-0032)多弧型离子镀膜机
制作方法 离子镀膜机生产加工制备工艺技术 制作工艺离子镀膜机生产加工制备工艺技术
配方比例 离子镀膜机生产加工制备工艺技术 技术研究应用参考离子镀膜机生产加工制备工艺技术
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