0098-0001、 一种化学镀镍复合添加剂
摘要、 本发明提供了一种化学镀镍复合添加剂，其特征在于：每升水溶液中所含物质的重量为：*、酒石酸中的一种或两种之和为100-400g，苹果酸⑷樗嶂械囊恢只蛄街种臀?00-300g，乙酸钠200-400g，*、*的一种或两种之和为200-400g*、丁二酸中的一种或两种之和为50-200g，氧化钼、硫脲、*中的一种或两种之和为20-100mg。本发明提供的一种化学镀镍复合添加剂，只需使用镍盐、次磷酸盐和复合添加剂就可以进行化学镀镍加工。在化学镀镍过程中，只需根据镍盐的消耗量按比例补加镍盐、次磷酸盐和复合添加剂就可以维持镀液的镀速和稳定性，避免了大量分析调整多种成分的麻烦，使用非常方便。用这种复合添加剂配制的镀液使用寿命可达6-8个周期，镀层均匀光亮。
0169-0002、 一种钛-镍-碳系反应喷涂复合粉末及其制备工艺
摘要、 一种钛-镍-碳系反应喷涂复合粉末及其制备工艺，属于金属陶瓷复合涂层制备技术中的制粉工艺。本发明采用蔗糖作为碳的前驱体，经过一定温度下的碳化，形成原料粉末周围被碳包覆的Ti-Ni-C系反应喷涂复合粉末。其工艺过程是，Ti粉、Ni粉与蔗糖按配比混合→湿磨→混合湿磨后的浆料烘干→烘干的块状物质进行分步碳化→破碎筛分。这不仅解决目前反应热喷涂制备碳化物金属复合涂层时的反应喷涂粉末中反应组元分离问题，而且蔗糖作为碳的前驱体，其碳化温度低，生成的碳纯度高，碳化过程中污染小，工业化可行性更高。选择Ni作为金属基体可以明显减少较大颗粒TiC团聚物的出现提高涂层的耐磨性能。
0173-0003、 用于直流溅射的电极模板及微图形化方法
本发明公开了一种用于直流溅射的电极模板及微图形化方法，该方法不用通过半导体光刻这一复杂的过程，而是采用已经图形化的不锈钢薄片作为模板，再经片状磁铁将其紧密吸附在硅片的上方，最后通过直流溅射的方法，在硅片上一次性得到图形化的电极。该方法简单使用，避免了由于直流溅射Pt、Ti或Au等电极材料而造成光刻胶不易去除的技术难题。同时由于不锈钢模板紧密吸附在硅片的上方，不会出现电极材料向四周扩散的现象，使图形化后的电极图形准确、轮廓分明。
0045-0004、 高熔点金属皮柔性陶瓷丝材的火焰喷涂方法
摘要、 高熔点金属皮柔性陶瓷丝材的火焰喷涂方法，它涉及一种热喷涂工艺。本发明是这样实现的：a.将药芯粉末用高能球磨机充分混合搅拌；b.将带状药皮放入卷盘内，将药芯放入药芯粉末注入装置中，制成管状药芯丝材；c.对曲轴喷涂部位的轴径进行表面粗化处理；d.在制丝机上安装火焰喷涂送丝轮，将管状药芯丝材装入轮内并穿入喷枪嘴中，将喷枪与压缩空气阀、*、氧气管线连接好；e.调节送丝速度、*、氧气、压缩空气的压力和流量；f.将曲轴装配在专用旋转工作台上，喷涂时曲轴进行旋转，采用手工操作方式进行喷涂，用曲轴磨床对涂层进行成型加工。本发明具有生产设备简单、制造方便、成本低廉的优点。
0052-0005、 磁控溅射方法制备碳化硅薄膜工艺
摘要、 一种磁控溅射方法制备碳化硅薄膜工艺，其特征在于，包括如下步骤：1)选择Si单晶为衬底材料，选择碳化硅为靶材；2)将SiゾС牡撞牧纤腿氪趴亟ι湟牵?)加温，生长碳化硅薄膜；4)退火；5)完成制备碳化硅薄膜工艺。
0091-0006、 重型汽车齿轮气体渗碳方法
摘要、 本发明涉及重型汽车齿轮气体渗碳技术，属于金属材料化学热处理技术领域。本发明公开了一种重型汽车齿轮气体渗碳方法，其特别之处在于：气体渗碳采用碳势脉冲式气体渗碳。本发明克服了传统气体渗碳工艺在高碳势下完成渗碳，在低碳势下完成扩散的弱点。工件淬火后可获得良好的渗层碳浓度梯度分布、硬度梯度分布和渗碳层组织，渗碳件在硬度梯度平缓时，在复杂应力条件下，可获得更高的使用寿命。
0190-0007、 处理基材的含水试剂、基材处理方法和已处理的基材
摘要、 本发明公开一种用于基材处理的含水试剂，其特征在于其包括选自脱乙酰壳多糖和脱乙酰壳多糖衍生物中的脱乙酰壳多糖中的至少一种脱乙酰壳多糖组分(A)和含有选自Ti、Zr、Hf、Mo、W、Se、Ce、Fe、Cu、Zn、V和三价Cr中的至少一种金属的金属化合物(B)。该试剂可用于改进金属材料与如薄膜或涂层的树脂涂布层之间的粘合，也可改进这种金属材料的耐腐蚀性和耐金属材料溶剂性等。
0009-0008、 薄膜的制造方法及制造装置、薄膜层叠体和电子元件
摘要、 一种形成薄膜的方法，在该方法中，在真空中在支撑体上形成金属等的薄膜时，在薄膜的形成之前，从喷嘴孔作为蒸汽流在薄膜上施加形成图形用的构图材料并在支撑体上附着了该液化物之后形成薄膜，这样来施加构图材料，使得从多个喷嘴孔施加的构图材料在支撑体上进行一体化。可形成即使图形宽度变宽、在图形端部处的模糊程度也小的图形。
0131-0009、 利用化学气相渗透使多孔基质致密化的方法和装置
摘要、 将用于致密化的基质装载于烘箱的装载区中，并在烘箱内加热，以使其温度升高至一定的温度，在该温度下由进入烘箱一端的反应气体中所含的前体气体形成所需的基质材料。在其已进入烘箱后，通过使反应气体经过位于烘箱内反应气体流动方向上的装载区上游的气体加热区域，而加热反应气体。在本发明中，在进入烘箱前预加热反应气体，从而在进入烘箱时，将反应气体升高至在室温和要将基质加热到的温度之间的中间温度。
0197-0010、 一种金刚石锥尖及其制作方法
摘要、 本发明公开了一种金刚石锥尖及其制备方法，该金刚石锥尖哂谐ぞ侗仍?-8之间、尖部曲率半径低于50纳米，底部直径为100纳米到几十微米。其制备方法为：取一块硅衬底，其上涂敷一层保护材料层；利用聚焦离子束刻蚀技术在其上刻蚀出用于制作金刚石锥尖相应的圆锥状孔的硅模板；再采用腐蚀剂将制作有圆锥状孔的硅模板上的保护材料层完全清洗溶解掉；用传统方法生长连续的金刚石膜，得到金刚石锥尖。该金刚石锥尖具有耐磨损、硬度高和可控的形状，是用于场发射器件、扫描探针系统以及纳米压印和微型工具领域的理想结构。该方法与已有制作金刚石尖的方法相比，具有制作工艺简单、效率高、应用领域广等优点，而且可以批量生产。
0115-0011、 制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法
0142-0012、 用离子注入工艺处理印制线路板用钻嘴的方法
0005-0013、 镀锌钝化液及制备方法
0039-0014、 新型类金刚石薄膜沉积工艺
0212-0015、 卷绕式真空蒸镀方法及卷绕式真空蒸镀装置
0126-0016、 真空电弧镀制备高温防护涂层的方法
0106-0017、 薄膜沉积装置
0109-0018、 软磁铁氧体磁心磁控溅射真空镀银工艺
0101-0019、 钛合金表面耐磨涂层的火焰喷焊工艺方法
0123-0020、 连接磁性靶和背衬板的方法以及磁性靶
0060-0021、 用于制造埃级和大纵横比的功能性薄片的方法
0031-0022、 镁和/或镁合金的表面处理方法及镁和/或镁合金制品
0063-0023、 倒置化学气相沉积(CVD)的装置
0188-0024、 后表面氟化处理的非晶碳薄膜疏水材料的制备方法
0199-0025、 一种金属表面保护液
0139-0026、 微层耐热材料的制造方法
0205-0027、 用于向一种基片涂敷涂料的真空模块(及其变体)和模块系统
0003-0028、 化学镀稀土钴硼合金镀层材料、其制备方法及镀层的形成方式
0016-0029、 用于镁合金的抗腐蚀、无铬酸盐转化涂层
0195-0030、 表层或局部梯度强化耐磨锰钢复合材料及制备工艺
0083-0031、 铜质制冷件无铬钝化剂
0204-0032、 MgO蒸镀材料及其制造方法
0116-0033、 镁及镁合金氟聚合物协合涂层处理工艺
0050-0034、 一种疏水和防紫外线辐射透明薄膜及其制备
0033-0035、 离子渗氮炉
0201-0036、 反应等离子喷涂纳米晶氮化钛涂层的方法
0071-0037、 真空线源蒸发镀膜方法及其装置
0029-0038、 电子束熔炼难熔金属粉末制备耐高温功能梯度材料的方法
0208-0039、 细微图案修补方法和细微图案修补装置
0051-0040、 太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法
0093-0041、 以阴极射线法制造镀层的装置
0021-0042、 含有内压控制系统的常压晶片加工反应器及方法
0020-0043、 用于在溅射薄膜中产生均匀、各向同性应力的方法和装置
0179-0044、 提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法
0128-0045、 一种防油管与油管接箍腐蚀、粘扣新技术工艺
0024-0046、 TiN/SiO2纳米多层膜及其制备方法
0118-0047、 铝及铝合金化学镀镍与电镀复合镀层结构技术
0165-0048、 电著涂装上漆方法
0012-0049、 溅射源、溅射装置和溅射方法
0151-0050、 在连续镀锌处理中控制钢带上的镀层重量的装置
0007-0051、 镁及镁合金高耐蚀性复合镀层及其制备工艺
0163-0052、 输送前体物质的方法和容器
0180-0053、 制备纳米薄膜的方法
0075-0054、 化学气相沉积法制备洋葱状富勒烯
0027-0055、 溅镀机台及其溅镀载台
0015-0056、 催化剂组合物和沉积方法
0203-0057、 式Mn+1AXn化合物的合成...
0068-0058、 汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
0057-0059、 不锈钢表面激光组装镍基纳米WC/Co复合镀层的方法
0147-0060、 镍磷化学镀方法及其化学镀溶液
0025-0061、 Ti-AL-O-N硬质复合涂层及其制备方法
0125-0062、 一种铝硅钇扩散合金化涂层的制备方法
0149-0063、 耐腐蚀性材料及其制造方法
0134-0064、 施涂涂层的方法
0177-0065、 一种配置气体离子源的真空离子镀膜机
0191-0066、 表面处理的金属板和表面处理剂
0043-0067、 用于半导体制造设备的清洁气体以及使用该气体的清洁方法
0129-0068、 用于镀覆线材的设备
0135-0069、 清洁和刷新具有金属涂层的室部件
0171-0070、 稀土、碳、氮三元共渗剂及其配制方法
0214-0071、 使用螺旋自谐振线圈的电离物理汽相沉积装置
0187-0072、 一种在铝及其合金表面上形成转化膜的环保型工艺
0096-0073、 薄膜沉积反应器
0159-0074、 离子注入电铸结构材料及其制备方法
0030-0075、 涂覆腹板状材料的真空涂覆设备
0105-0076、 一种可提高巨磁电阻效应的自旋阀制备方法
0184-0077、 化学镀镍溶液和以其制备镀镍层的方法及铝合金轮毂镀层
0160-0078、 连续表面处理装置用电极架结构
0117-0079、 复合等离子体表面处理装置
0040-0080、 用于称出存储容器中剩余物质量的装置
0076-0081、 一种制备大面积高质量金刚石膜中抗裂纹的方法
0078-0082、 等离子体增强式化学气相沉积处理方法
0070-0083、 超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的物理气相沉积制备方法
0089-0084、 用于微电子、微型光电子或微型机械器件的支撑件
0032-0085、 泥浆泵缸套内壁喷熔装置及其方法
0216-0086、 生铁部件和钢部件表面镀铝方法
0035-0087、 抗铁磁材料膜和包括其的磁阻效应器件
0154-0088、 整体式的可拆卸屏蔽罩组件
0209-0089、 高温防护层
0202-0090、 钢铁材料氟聚合物协合涂层处理工艺
0059-0091、 连续生产热镀锌彩色涂层钢板的方法
0074-0092、 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的工艺
0085-0093、 向铸铁涂覆耐磨防腐涂层的方法
0053-0094、 一种金属离子源
0150-0095、 一种碳化物/铁基合金复合涂层及其反应钎涂工艺
0215-0096、 用于沉积不含镍和铬（VI）的金属消光层的方法
0178-0097、 薄膜复合制备方法与装置
0114-0098、 用于制备大面积均匀薄膜的非线性热丝结构
0046-0099、 稀土氧化物改性的渗铬涂层及制备方法和应用
0056-0100、 表面处理薄膜
0138-0101、 氧化镁蒸镀材料
0042-0102、 高强溅射靶及其制造方法
0065-0103、 制造钛合金提升阀的方法
0119-0104、 一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
0004-0105、 制备钛酸锶钡铁电薄膜的方法
0095-0106、 紫外发射增强的氧化锌薄膜的制备方法
0148-0107、 一种制备金属碳化物硬面涂层的方法及其应用
0099-0108、 除锈和金属表面预处理涂料
0041-0109、 一种对抽油泵泵筒柱塞泵阀耐高温腐蚀、高温磨损新技术工艺
0155-0110、 在真空条件下处理物体的多腔室装置、对该装置抽真空的方法及其抽真空系统
0026-0111、 磁控溅射镀膜夹具及其使用方法
0022-0112、 耐剥离性、滑动性和耐划伤性优良的镀锌钢板及其制造方法
0143-0113、 用离子注入工艺处理印制线路板用铣刀的方法
0072-0114、 制备纳米带和星形纳米材料的方法
0137-0115、 直流电场加速固体粉末渗硼的方法与装置
0082-0116、 镁合金硫酸镍主盐镀液及其化学镀工艺
0100-0117、 等离子室插入环
0198-0118、 成型金属制品及制备具有氧化覆盖层的成型金属制品的方法
0102-0119、 反应等离子喷涂反应室装置
0145-0120、 用于平面矩形或方形基片的真空-处理设备
0120-0121、 溅射成膜装置
0189-0122、 高纯度镍或镍合金靶及其制造方法
0176-0123、 合金靶材磁控溅射法制备CoSi2薄膜的方法
0062-0124、 用化学蒸气沉积技术沉积氮化硅膜和氧氮化硅膜的方法
0153-0125、 工件镀层加工的改进方法
0036-0126、 用于蒸发有机电发光层的蒸发源
0002-0127、 镁及镁合金化学镀镀液配方
0200-0128、 节能型常温快速磷化液
0038-0129、 固体有机金属化合物的填充方法及填充容器
0108-0130、 射频磁控溅射法制备γ-LiAlO2单晶薄膜覆盖层衬...
0167-0131、 涂布金属的基底的后处理
0047-0132、 采煤机用镐齿的齿体强化工艺
0206-0133、 用于通过原子层沉积来沉积铜膜的挥发性铜(II)配合物
0023-0134、 采用电接触加热法在钢管内表面获得渗铝层的方法
0127-0135、 处理工件的装置
0107-0136、 磁控溅射装置
0011-0137、 在基片上生成光滑铟锡氧化物层的方法及一种基片铟锡氧化物覆层
0017-0138、 形成纳米复合层的方法
0158-0139、 溅射装置
0019-0140、 真空蒸镀装置、真空蒸镀方法及获得的有机电子荧光元件
0058-0141、 铸铝表面激光组装纳米Al2O3
0087-0142、 合金化热镀锌钢板的制造方法和合金化热镀锌钢板
0048-0143、 一种TiOxNy高效太阳能光热转换薄膜的制备方法
0168-0144、 高强度耐腐蚀辊件生产工艺
0196-0145、 用脉冲电弧等离子体蒸发离化源制备纳米多层膜的方法
0207-0146、 无机/有机薄膜的沉积方法
0192-0147、 一种热喷涂锌铝合金线材及其制备方法
0001-0148、 阴极溅射设备
0104-0149、 多弧等离子镀膜工艺
0132-0150、 形成压花非晶形膜的光解转化方法
0161-0151、 连续表面处理装置被处理物移送方法
0079-0152、 多沉积步骤的高浓度等离子化学气相沉积方法
0124-0153、 监测利用含有一种或多种烃的反应性气体的工艺过程的方法
0121-0154、 磁控溅射制备(HA＋Zro2＋Y2
0182-0155、 布线修复设备
0193-0156、 不锈钢（11Cr17）滑片（或叶片）的盐浴软氮化处理
0211-0157、 用离子束对聚合物金属和陶瓷材料进行表面改性的装置
0170-0158、 钛铝共渗的渗剂及其共渗方法
0069-0159、 相变温度可调的氧化钒薄膜的制备方法
0122-0160、 用于挥发性/热敏感固体和液体化合物的蒸发器/输送容器
0092-0161、 童车的塑料轮毂真空镀膜工艺
0037-0162、 降低沉积反应室腔体内氟残留的方法
0166-0163、 涂装后的耐蚀性与涂装鲜映性优异的镀锌钢板
0174-0164、 基于转速调制的提高薄膜厚度均匀性的方法
0061-0165、 降低颗粒物损失的多孔吸气剂器件及其制备方法
0162-0166、 SiC覆膜碳系材料及SiC包覆用碳系材料
0181-0167、 一维酞菁化合物纳米薄膜及其制备方法
0028-0168、 氢化物气相外延生长氮化镓膜中的低温插入层及制备方法
0013-0169、 化学气相沉积处理装置
0146-0170、 PECVD沉积低应力SiN薄膜工艺
0006-0171、 镍基自熔性合金－稀土复合涂层材料及其制备方法
0103-0172、 金属表面渗硼层的快速制备方法
0097-0173、 热梯度化学气相沉积法制备炭/炭复合材料
0008-0174、 气体渗碳方法
0055-0175、 镀锌用三价铬蓝白色钝化剂及其制造方法
0090-0176、 用于多个半导体衬底的高压处理室
0210-0177、 一种在Ti3SiC2材料表面...
0081-0178、 镁合金化学镀镍溶液及其施镀方法
0186-0179、 金属材料表面处理用组合物和处理方法
0088-0180、 镁合金无氰镀铜化学镀镍与电镀工艺
0156-0181、 单晶片腔室中的无辐射率变化泵送板套件
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0152-0183、 晶片的背面端与电子部件或子组件的永久粘附
0213-0184、 双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置
0172-0185、 在金属表面加工迷彩图形的方法
0054-0186、 真空镀膜设备
0175-0187、 一种平面磁控溅射-多工位镀膜装置
0157-0188、 连续表面处理装置的煤气分配结构
0111-0189、 绝缘材料零部件等离子体注入方法及其注入装置
0140-0190、 真空镀膜机中修正挡板的自动切换装置
0164-0191、 化学汽相沉积设备
0136-0192、 铁锅表面高温氧化方法
0010-0193、 通过阴极沉积获得的非蒸发性吸气多层沉积物及其制造方法
0073-0194、 一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
0112-0195、 镀膜夹具的计算机控制装置
0141-0196、 金属离子注入机
0133-0197、 不锈钢除去氧化皮后的表面精加工方法
0194-0198、 高速钢（W6Mo5Cr4V2）滑片（或叶片）的盐浴软氮化处理
0077-0199、 用于多个基板的固持器和具有该固持器的腔室
0064-0200、 镁合金成型制品的铝锌系表面耐蚀涂层结构及其制备工艺
0183-0201、 表面波激发等离子体CVD系统
0185-0202、 化学镀镍磷合金镀液及其镀覆工艺
0084-0203、 镁合金磷化溶液及其磷化工艺
0094-0204、 一种锑掺杂多元氧化物透明导电膜的制备方法
0014-0205、 高纯度烷基镓的制备
0044-0206、 用银催化剂和无电金属组合物金属化非导电表面
0018-0207、 热压成型方法,其电镀钢材及其制备方法
0110-0208、 一种细长管筒内表面溅射沉积涂层方法
0086-0209、 等离子喷涂制备纳米涂层的方法
0080-0210、 借助不反应涂层选择性或完全钝化工件和设备部件的方法
0113-0211、 一种合金及金属间化合物表面改性的方法
0067-0212、 增加铝基扩散涂层的断裂韧性的方法
0049-0213、 表面抗菌耐磨制品
0130-0214、 废弃溅射靶的修复
0144-0215、 用离子注入工艺处理印制线路板用铣刀的方法
0034-0216、 于工具上镀膜同时形成标记的方法
0217-0217、 活塞环的热喷涂
摘要、 本发明提供了一种化学镀镍复合添加剂，其特征在于：每升水溶液中所含物质的重量为：*、酒石酸中的一种或两种之和为100-400g，苹果酸⑷樗嶂械囊恢只蛄街种臀?00-300g，乙酸钠200-400g，*、*的一种或两种之和为200-400g*、丁二酸中的一种或两种之和为50-200g，氧化钼、硫脲、*中的一种或两种之和为20-100mg。本发明提供的一种化学镀镍复合添加剂，只需使用镍盐、次磷酸盐和复合添加剂就可以进行化学镀镍加工。在化学镀镍过程中，只需根据镍盐的消耗量按比例补加镍盐、次磷酸盐和复合添加剂就可以维持镀液的镀速和稳定性，避免了大量分析调整多种成分的麻烦，使用非常方便。用这种复合添加剂配制的镀液使用寿命可达6-8个周期，镀层均匀光亮。
0169-0002、 一种钛-镍-碳系反应喷涂复合粉末及其制备工艺
摘要、 一种钛-镍-碳系反应喷涂复合粉末及其制备工艺，属于金属陶瓷复合涂层制备技术中的制粉工艺。本发明采用蔗糖作为碳的前驱体，经过一定温度下的碳化，形成原料粉末周围被碳包覆的Ti-Ni-C系反应喷涂复合粉末。其工艺过程是，Ti粉、Ni粉与蔗糖按配比混合→湿磨→混合湿磨后的浆料烘干→烘干的块状物质进行分步碳化→破碎筛分。这不仅解决目前反应热喷涂制备碳化物金属复合涂层时的反应喷涂粉末中反应组元分离问题，而且蔗糖作为碳的前驱体，其碳化温度低，生成的碳纯度高，碳化过程中污染小，工业化可行性更高。选择Ni作为金属基体可以明显减少较大颗粒TiC团聚物的出现提高涂层的耐磨性能。
0173-0003、 用于直流溅射的电极模板及微图形化方法
本发明公开了一种用于直流溅射的电极模板及微图形化方法，该方法不用通过半导体光刻这一复杂的过程，而是采用已经图形化的不锈钢薄片作为模板，再经片状磁铁将其紧密吸附在硅片的上方，最后通过直流溅射的方法，在硅片上一次性得到图形化的电极。该方法简单使用，避免了由于直流溅射Pt、Ti或Au等电极材料而造成光刻胶不易去除的技术难题。同时由于不锈钢模板紧密吸附在硅片的上方，不会出现电极材料向四周扩散的现象，使图形化后的电极图形准确、轮廓分明。
0045-0004、 高熔点金属皮柔性陶瓷丝材的火焰喷涂方法
摘要、 高熔点金属皮柔性陶瓷丝材的火焰喷涂方法，它涉及一种热喷涂工艺。本发明是这样实现的：a.将药芯粉末用高能球磨机充分混合搅拌；b.将带状药皮放入卷盘内，将药芯放入药芯粉末注入装置中，制成管状药芯丝材；c.对曲轴喷涂部位的轴径进行表面粗化处理；d.在制丝机上安装火焰喷涂送丝轮，将管状药芯丝材装入轮内并穿入喷枪嘴中，将喷枪与压缩空气阀、*、氧气管线连接好；e.调节送丝速度、*、氧气、压缩空气的压力和流量；f.将曲轴装配在专用旋转工作台上，喷涂时曲轴进行旋转，采用手工操作方式进行喷涂，用曲轴磨床对涂层进行成型加工。本发明具有生产设备简单、制造方便、成本低廉的优点。
0052-0005、 磁控溅射方法制备碳化硅薄膜工艺
摘要、 一种磁控溅射方法制备碳化硅薄膜工艺，其特征在于，包括如下步骤：1)选择Si单晶为衬底材料，选择碳化硅为靶材；2)将SiゾС牡撞牧纤腿氪趴亟ι湟牵?)加温，生长碳化硅薄膜；4)退火；5)完成制备碳化硅薄膜工艺。
0091-0006、 重型汽车齿轮气体渗碳方法
摘要、 本发明涉及重型汽车齿轮气体渗碳技术，属于金属材料化学热处理技术领域。本发明公开了一种重型汽车齿轮气体渗碳方法，其特别之处在于：气体渗碳采用碳势脉冲式气体渗碳。本发明克服了传统气体渗碳工艺在高碳势下完成渗碳，在低碳势下完成扩散的弱点。工件淬火后可获得良好的渗层碳浓度梯度分布、硬度梯度分布和渗碳层组织，渗碳件在硬度梯度平缓时，在复杂应力条件下，可获得更高的使用寿命。
0190-0007、 处理基材的含水试剂、基材处理方法和已处理的基材
摘要、 本发明公开一种用于基材处理的含水试剂，其特征在于其包括选自脱乙酰壳多糖和脱乙酰壳多糖衍生物中的脱乙酰壳多糖中的至少一种脱乙酰壳多糖组分(A)和含有选自Ti、Zr、Hf、Mo、W、Se、Ce、Fe、Cu、Zn、V和三价Cr中的至少一种金属的金属化合物(B)。该试剂可用于改进金属材料与如薄膜或涂层的树脂涂布层之间的粘合，也可改进这种金属材料的耐腐蚀性和耐金属材料溶剂性等。
0009-0008、 薄膜的制造方法及制造装置、薄膜层叠体和电子元件
摘要、 一种形成薄膜的方法，在该方法中，在真空中在支撑体上形成金属等的薄膜时，在薄膜的形成之前，从喷嘴孔作为蒸汽流在薄膜上施加形成图形用的构图材料并在支撑体上附着了该液化物之后形成薄膜，这样来施加构图材料，使得从多个喷嘴孔施加的构图材料在支撑体上进行一体化。可形成即使图形宽度变宽、在图形端部处的模糊程度也小的图形。
0131-0009、 利用化学气相渗透使多孔基质致密化的方法和装置
摘要、 将用于致密化的基质装载于烘箱的装载区中，并在烘箱内加热，以使其温度升高至一定的温度，在该温度下由进入烘箱一端的反应气体中所含的前体气体形成所需的基质材料。在其已进入烘箱后，通过使反应气体经过位于烘箱内反应气体流动方向上的装载区上游的气体加热区域，而加热反应气体。在本发明中，在进入烘箱前预加热反应气体，从而在进入烘箱时，将反应气体升高至在室温和要将基质加热到的温度之间的中间温度。
0197-0010、 一种金刚石锥尖及其制作方法
摘要、 本发明公开了一种金刚石锥尖及其制备方法，该金刚石锥尖哂谐ぞ侗仍?-8之间、尖部曲率半径低于50纳米，底部直径为100纳米到几十微米。其制备方法为：取一块硅衬底，其上涂敷一层保护材料层；利用聚焦离子束刻蚀技术在其上刻蚀出用于制作金刚石锥尖相应的圆锥状孔的硅模板；再采用腐蚀剂将制作有圆锥状孔的硅模板上的保护材料层完全清洗溶解掉；用传统方法生长连续的金刚石膜，得到金刚石锥尖。该金刚石锥尖具有耐磨损、硬度高和可控的形状，是用于场发射器件、扫描探针系统以及纳米压印和微型工具领域的理想结构。该方法与已有制作金刚石尖的方法相比，具有制作工艺简单、效率高、应用领域广等优点，而且可以批量生产。
0115-0011、 制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法
0142-0012、 用离子注入工艺处理印制线路板用钻嘴的方法
0005-0013、 镀锌钝化液及制备方法
0039-0014、 新型类金刚石薄膜沉积工艺
0212-0015、 卷绕式真空蒸镀方法及卷绕式真空蒸镀装置
0126-0016、 真空电弧镀制备高温防护涂层的方法
0106-0017、 薄膜沉积装置
0109-0018、 软磁铁氧体磁心磁控溅射真空镀银工艺
0101-0019、 钛合金表面耐磨涂层的火焰喷焊工艺方法
0123-0020、 连接磁性靶和背衬板的方法以及磁性靶
0060-0021、 用于制造埃级和大纵横比的功能性薄片的方法
0031-0022、 镁和/或镁合金的表面处理方法及镁和/或镁合金制品
0063-0023、 倒置化学气相沉积(CVD)的装置
0188-0024、 后表面氟化处理的非晶碳薄膜疏水材料的制备方法
0199-0025、 一种金属表面保护液
0139-0026、 微层耐热材料的制造方法
0205-0027、 用于向一种基片涂敷涂料的真空模块(及其变体)和模块系统
0003-0028、 化学镀稀土钴硼合金镀层材料、其制备方法及镀层的形成方式
0016-0029、 用于镁合金的抗腐蚀、无铬酸盐转化涂层
0195-0030、 表层或局部梯度强化耐磨锰钢复合材料及制备工艺
0083-0031、 铜质制冷件无铬钝化剂
0204-0032、 MgO蒸镀材料及其制造方法
0116-0033、 镁及镁合金氟聚合物协合涂层处理工艺
0050-0034、 一种疏水和防紫外线辐射透明薄膜及其制备
0033-0035、 离子渗氮炉
0201-0036、 反应等离子喷涂纳米晶氮化钛涂层的方法
0071-0037、 真空线源蒸发镀膜方法及其装置
0029-0038、 电子束熔炼难熔金属粉末制备耐高温功能梯度材料的方法
0208-0039、 细微图案修补方法和细微图案修补装置
0051-0040、 太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法
0093-0041、 以阴极射线法制造镀层的装置
0021-0042、 含有内压控制系统的常压晶片加工反应器及方法
0020-0043、 用于在溅射薄膜中产生均匀、各向同性应力的方法和装置
0179-0044、 提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法
0128-0045、 一种防油管与油管接箍腐蚀、粘扣新技术工艺
0024-0046、 TiN/SiO2纳米多层膜及其制备方法
0118-0047、 铝及铝合金化学镀镍与电镀复合镀层结构技术
0165-0048、 电著涂装上漆方法
0012-0049、 溅射源、溅射装置和溅射方法
0151-0050、 在连续镀锌处理中控制钢带上的镀层重量的装置
0007-0051、 镁及镁合金高耐蚀性复合镀层及其制备工艺
0163-0052、 输送前体物质的方法和容器
0180-0053、 制备纳米薄膜的方法
0075-0054、 化学气相沉积法制备洋葱状富勒烯
0027-0055、 溅镀机台及其溅镀载台
0015-0056、 催化剂组合物和沉积方法
0203-0057、 式Mn+1AXn化合物的合成...
0068-0058、 汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
0057-0059、 不锈钢表面激光组装镍基纳米WC/Co复合镀层的方法
0147-0060、 镍磷化学镀方法及其化学镀溶液
0025-0061、 Ti-AL-O-N硬质复合涂层及其制备方法
0125-0062、 一种铝硅钇扩散合金化涂层的制备方法
0149-0063、 耐腐蚀性材料及其制造方法
0134-0064、 施涂涂层的方法
0177-0065、 一种配置气体离子源的真空离子镀膜机
0191-0066、 表面处理的金属板和表面处理剂
0043-0067、 用于半导体制造设备的清洁气体以及使用该气体的清洁方法
0129-0068、 用于镀覆线材的设备
0135-0069、 清洁和刷新具有金属涂层的室部件
0171-0070、 稀土、碳、氮三元共渗剂及其配制方法
0214-0071、 使用螺旋自谐振线圈的电离物理汽相沉积装置
0187-0072、 一种在铝及其合金表面上形成转化膜的环保型工艺
0096-0073、 薄膜沉积反应器
0159-0074、 离子注入电铸结构材料及其制备方法
0030-0075、 涂覆腹板状材料的真空涂覆设备
0105-0076、 一种可提高巨磁电阻效应的自旋阀制备方法
0184-0077、 化学镀镍溶液和以其制备镀镍层的方法及铝合金轮毂镀层
0160-0078、 连续表面处理装置用电极架结构
0117-0079、 复合等离子体表面处理装置
0040-0080、 用于称出存储容器中剩余物质量的装置
0076-0081、 一种制备大面积高质量金刚石膜中抗裂纹的方法
0078-0082、 等离子体增强式化学气相沉积处理方法
0070-0083、 超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的物理气相沉积制备方法
0089-0084、 用于微电子、微型光电子或微型机械器件的支撑件
0032-0085、 泥浆泵缸套内壁喷熔装置及其方法
0216-0086、 生铁部件和钢部件表面镀铝方法
0035-0087、 抗铁磁材料膜和包括其的磁阻效应器件
0154-0088、 整体式的可拆卸屏蔽罩组件
0209-0089、 高温防护层
0202-0090、 钢铁材料氟聚合物协合涂层处理工艺
0059-0091、 连续生产热镀锌彩色涂层钢板的方法
0074-0092、 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的工艺
0085-0093、 向铸铁涂覆耐磨防腐涂层的方法
0053-0094、 一种金属离子源
0150-0095、 一种碳化物/铁基合金复合涂层及其反应钎涂工艺
0215-0096、 用于沉积不含镍和铬（VI）的金属消光层的方法
0178-0097、 薄膜复合制备方法与装置
0114-0098、 用于制备大面积均匀薄膜的非线性热丝结构
0046-0099、 稀土氧化物改性的渗铬涂层及制备方法和应用
0056-0100、 表面处理薄膜
0138-0101、 氧化镁蒸镀材料
0042-0102、 高强溅射靶及其制造方法
0065-0103、 制造钛合金提升阀的方法
0119-0104、 一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
0004-0105、 制备钛酸锶钡铁电薄膜的方法
0095-0106、 紫外发射增强的氧化锌薄膜的制备方法
0148-0107、 一种制备金属碳化物硬面涂层的方法及其应用
0099-0108、 除锈和金属表面预处理涂料
0041-0109、 一种对抽油泵泵筒柱塞泵阀耐高温腐蚀、高温磨损新技术工艺
0155-0110、 在真空条件下处理物体的多腔室装置、对该装置抽真空的方法及其抽真空系统
0026-0111、 磁控溅射镀膜夹具及其使用方法
0022-0112、 耐剥离性、滑动性和耐划伤性优良的镀锌钢板及其制造方法
0143-0113、 用离子注入工艺处理印制线路板用铣刀的方法
0072-0114、 制备纳米带和星形纳米材料的方法
0137-0115、 直流电场加速固体粉末渗硼的方法与装置
0082-0116、 镁合金硫酸镍主盐镀液及其化学镀工艺
0100-0117、 等离子室插入环
0198-0118、 成型金属制品及制备具有氧化覆盖层的成型金属制品的方法
0102-0119、 反应等离子喷涂反应室装置
0145-0120、 用于平面矩形或方形基片的真空-处理设备
0120-0121、 溅射成膜装置
0189-0122、 高纯度镍或镍合金靶及其制造方法
0176-0123、 合金靶材磁控溅射法制备CoSi2薄膜的方法
0062-0124、 用化学蒸气沉积技术沉积氮化硅膜和氧氮化硅膜的方法
0153-0125、 工件镀层加工的改进方法
0036-0126、 用于蒸发有机电发光层的蒸发源
0002-0127、 镁及镁合金化学镀镀液配方
0200-0128、 节能型常温快速磷化液
0038-0129、 固体有机金属化合物的填充方法及填充容器
0108-0130、 射频磁控溅射法制备γ-LiAlO2单晶薄膜覆盖层衬...
0167-0131、 涂布金属的基底的后处理
0047-0132、 采煤机用镐齿的齿体强化工艺
0206-0133、 用于通过原子层沉积来沉积铜膜的挥发性铜(II)配合物
0023-0134、 采用电接触加热法在钢管内表面获得渗铝层的方法
0127-0135、 处理工件的装置
0107-0136、 磁控溅射装置
0011-0137、 在基片上生成光滑铟锡氧化物层的方法及一种基片铟锡氧化物覆层
0017-0138、 形成纳米复合层的方法
0158-0139、 溅射装置
0019-0140、 真空蒸镀装置、真空蒸镀方法及获得的有机电子荧光元件
0058-0141、 铸铝表面激光组装纳米Al2O3
0087-0142、 合金化热镀锌钢板的制造方法和合金化热镀锌钢板
0048-0143、 一种TiOxNy高效太阳能光热转换薄膜的制备方法
0168-0144、 高强度耐腐蚀辊件生产工艺
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0001-0148、 阴极溅射设备
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0182-0155、 布线修复设备
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0141-0196、 金属离子注入机
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0183-0201、 表面波激发等离子体CVD系统
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0034-0216、 于工具上镀膜同时形成标记的方法
0217-0217、 活塞环的热喷涂
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