0014-0001、静电吸盘以及静电吸盘用的电极片
0049-0002、一种用于晶片静电吸附的六相电源装置
0015-0003、槽车静电接地联锁装置
0018-0004、静电吸盘和处理装置
0020-0005、静电吸盘
0012-0006、静电吸盘
0033-0007、双极型静电吸盘
0013-0008、静电吸附电极、基板处理装置和静电吸附电极的制造方法
0038-0009、静电吸盘
0024-0010、静电吸盘的制造方法
0021-0011、多层静电吸盘及其制造方法
0011-0012、静电吸盘和处理装置
0026-0013、基片载置台用静电吸盘及其所用的电极、以及具备它们的处理系统
0019-0014、静电吸盘组件和冷却系统
0046-0015、一种静电吸盘的清洗方法
0041-0016、具有双温度区的静电吸盘的衬底支架
0027-0017、包括电阻层、微沟槽和介电层的高性能静电吸盘
0050-0018、防静电真空吸笔
0034-0019、用于真空处理装置的静电吸盘、具有该静电吸盘的真空处理装置、及其制造方法
0007-0020、静电吸盘
0029-0021、静电吸附电极和处理装置
0051-0022、一种用于晶片夹持的静电卡盘
0025-0023、静电吸盘装置用电极板和使用它的静电吸盘装置
0004-0024、支持晶片的方法、移开晶片的方法及静电吸盘装置
0040-0025、具有双温度区的静电吸盘的衬底支架
0002-0026、静电吸盘基座及其制造方法
0010-0027、利用面积匹配电极的静电检测吸盘
0003-0028、采用平面薄膜电极的静电吸盘
0005-0029、多层静电吸盘及制造方法
0045-0030、工件移送方法和静电吸盘装置以及基板粘贴方法
0031-0031、施加单相方波交流吸附电压时通过使用力延迟在具有微加工表面的J-R静电吸盘上吸附和释放半导体晶圆
0008-0032、测定用于最佳静电吸盘箝位电压的晶片翘曲的方法和装置
0006-0033、静电吸盘和应用了静电吸盘的样品处理方法及装置
0035-0034、静电吸盘
0036-0035、静电吸盘及其制造方法
0001-0036、高纯度低电阻的静电吸盘
0032-0037、静电吸盘、薄膜制造设备及制造方法和衬底表面处理方法
0037-0038、静电吸盘
0016-0039、静电吸尘吸发器
0048-0040、可拆卸静电吸盘
0039-0041、用于清洁离子注入机的静电吸盘的装置
0042-0042、带加热器的静电吸盘以及带加热器的静电吸盘的制造方法
0023-0043、等离子体处理装置及静电吸盘的制造方法
0022-0044、移开晶片的方法及静电吸盘装置
0043-0045、静电吸盘装置
0044-0046、一种清洗静电吸盘的方法
0030-0047、在静电吸盘上吸附半导体晶圆
0047-0048、用于静电吸盘的防护装置
0009-0049、全部表面可偏压和/或温度控制的静电屏蔽射频等离子源
0028-0050、具有非烧结ALN的静电吸盘及其制备方法
0017-0051、静电吸盘和处理装置
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