抛光盘配方技术资料,抛光磨盘,抛光液,抛光机
[A27147-0058-0001、抛光刷，抛光方法，抛光装置及磁盘用玻璃基板的制造方法
摘要、一种抛光刷，所述抛光刷用于一面向中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面部分上供应抛光液，一面使抛光刷与前述玻璃基板的内周侧端面接触旋转进行抛光的抛光方法。该抛光刷(20)，相对于其轴心(21)大致正交的方向上突出设置毛状材料(22)，两个外径D1、D2不同的部分在轴向方向上交替地排列配置，同时，构成其小直径D2的部分的毛状材料的硬度比构成大直径D1的部分的毛状材料的硬度大。为此，用树脂加固构成抛光刷(20)中的小直径D2的部分的毛状材料。
[A27147-0073-0002、一种平面玻璃用多排盘刷清洗、抛光机
摘要、一种平面玻璃用多排盘刷清洗、抛光机。它是利用安装在抛光轮安装梁体上的多个抛光盘形毛刷作旋转运动以及往复平动，从而对玻璃平面进行除污、抛光，为镀银作准备。它设计合理，结构简单，制作容易，操作方便生 产效果好。它包括减速机(1)、安装座(2)及下架体(16)，其特征是在下架体(16)的导轨座(6)的梁架(7)上部连接齿轮电机(10)，在梁架(7)上连接多个抛光头(8)，在抛光头(8)上部连接皮带轮(11)，在抛光头(8)下部连接盘形毛刷(9)；齿轮电机(10)通过三角皮带(12)连接第一个抛光轮(8)上的皮带轮(11-1)；并以此类推，多条三角皮带(12)把多个抛光头(8)上的皮带轮(11)连接成为一个整体。
[A27147-0074-0003、一种金刚磨盘及带金刚磨盘的抛光机，一种金刚磨盘及带金刚磨盘的抛光机，包括电动机、转动轴、转动盘、升降气缸和金刚磨盘等。金刚磨盘是由一个环形刀架和若干个金刚刀头组成的金刚刀头焊接在环形刀架上金刚刀头是用金刚砂制成的，坚硬耐用。工作时金刚磨盘在电动机的驱动下高速旋转金刚刀头对瓷砖或石材表面进行磨削，磨削力的大小由控制转动轴升降的升降气缸正、反压力来调节。这种金刚磨盘结构简单，使用寿命长，使用这种金刚磨盘的抛光机，对瓷砖或石材的表面磨削平整。
[A27147-0070-0004、多盘位多粒宝石研磨抛光装置
摘要、一种多盘位多粒宝石研磨抛光装置，至少包括：环形机架；装设在环形机架上的至少两个研磨抛光盘；装设在环形机架中间的大转盘以及至少两个装设在大转盘上对应于研磨抛光盘的夹持宝石的自动机头。宝石的研磨抛光形成环形流水线式自动循环作业。
[A27147-0080-0005、磨盘装卸方便可靠的抛光机
摘要、磨盘装卸方便可靠的抛光机，包括磨盘以及动力轴，动力轴的下端固定有连接磨盘的安装座，其主要特点是安装座的底面开设有凹腔，磨盘的顶面固置有凸台，凸台插入凹腔内，凸台与凹腔的形状使得当凸台插入凹腔后即被周向固定，在凸台的顶面开设有敞口，敞口的侧壁面呈卡槽形，在凹腔内设置有可径向伸缩的弹簧销，当凸台插入凹腔后，弹簧销顶压在凸台敞口的卡槽中，以此将凸台轴向固定在凹腔内，在弹簧销上固置有手柄。由于磨盘连接结构不存在方向性，所以更换磨盘时无需区分磨盘的旋转方向，同时也避免了由各种原因造成的磨盘与安装座之间发生相对转动，致使磨盘意外脱落的危险，提高了磨盘连接的可靠性。
[A27147-0052-0006、计算机硬盘基片抛光速率的控制方法
摘要、本发明公开了一种计算机硬盘基片抛光速率的控制方法。包括以下步骤，其中原料为重量％：将粒径20～60nm的SiO2溶胶用去离子水稀释，去离子水含量5～50％；边搅拌边加入1～10％的醇醚类表面活性剂、1～10％的FA，O螯合剂；用pH调节剂使pH值在11.5～13.5范围内；加入10～25ml的氧化剂；使用上述抛光液在40～60℃温度、40～120rpm转速、0.1～0.2MPa、200～800ml，min流量的抛光工艺条件下，在抛光机上对基片进行抛光8～10min。本发明用于提高存储器硬盘的磁盘基片的去除速率，使用碱性抛光液同时解决现有的以三氧化二铝为磨料的酸性抛光液的所存在的高损伤和凸凹选择比差问题。
[A27147-0040-0007、金相抛光机磨抛光盘
摘要、本实用新型提供一种金相抛光机磨抛光盘，其磨抛光盘为合金砂盘，磨抛光盘通过固定环定位纤维绒面，支撑盘由多对磁铁块吸附联接磨抛光盘。利用磁铁的引力，实现支撑盘和磨抛光盘的无噪声传动，实现了磨抛光盘平稳、无噪声同步运转，减小了磨抛光盘的跳动量，提高了研磨抛光机精度，且易于更换磨抛光盘。
[A27147-0053-0008、使用化学机械抛光工艺制作自对准接触焊盘的方法
摘要、一种制作自对准接触焊盘的方法，包括：在半导体衬底上形成导电线和覆盖层的叠层，并形成覆盖叠层的侧壁的间隔层和填充叠层之间的间隙并暴露覆盖层的顶部的绝缘层；刻蚀覆盖层以形成波纹状凹槽；以与覆盖层的材料不同的材料形成多个第一刻蚀掩模以填充波纹状凹槽，而不覆盖绝缘层顶部；以及形成具有开口区的第二刻蚀掩模，所述开口区暴露出第一刻蚀掩模的一些以及绝缘层中位于第一刻蚀掩模之间的那部分。所述方法还包括：使用第一和第二掩模刻蚀由开口区所暴露的绝缘层部分以形成多个开口孔；除去第二刻蚀掩模；形成填充开口孔的导电层以覆盖残留的第一刻蚀掩模；以及将覆盖层用作为抛光终点在导电层上执行化学机械抛光工艺以除去第一刻蚀掩模，从而形成多个彼此分离的、填充开口孔的SAC焊盘。
[A27147-0017-0009、抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
摘要、一种用于存储器硬盘用基片的抛光组合物，包含下列组分：(a)水，(b)至少一种选自聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物的化合物，(c)至少一种选自下列的化合物：*、亚*、硫酸、盐酸、钼酸、氨基磺酸、甘氨酸、*酸、苯乙醇酸、丙二酸、抗坏血酸、谷氨酸、二羟乙酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸、马来酸、*以及它们的盐，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和碳化硅的磨料。
[A27147-0063-0010、一种内循环冷却抛光盘
摘要、本发明公开了无土栽培领域中一种营养液补充和调整的设备与方法。该设备，包括水源、供水电磁阀、电子水表、供水管路、混液泵、EC传感器、pH传感器、液位传感器、营养液池、计量泵、供肥电磁阀、母液罐、控制设备。通过对营养液的储量、EC值和pH值变化的实时监控，采取相应的补肥、补酸、补水措施，来实现无土栽培过程中营养液的调整和补充，保证营养液的正常供给。本发明所采用的方法和设备简单、成本低、实用、易实现、效果好。
[A27147-0061-0011、用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物
[A27147-0004-0012、金相试样磨光、抛光电磁吸盘
[A27147-0010-0013、制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
[A27147-0015-0014、显像屏抛光盘及其制造方法
[A27147-0001-0015、一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
[A27147-0041-0016、多功能盘皿抛光机，[A27147-0067-0017、一种车辆清洗抛光盘
[A27147-0054-0018、碱性计算机硬盘抛光液及其生产方法
[A27147-0028-0019、预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘
[A27147-0085-0020、现场金相用抛光盘
[A27147-0003-0021、一种转盘式多工位自动抛光机
[A27147-0035-0022、硅片抛光机头吸盘
[A27147-0084-0023、一种刷抛光大盘用的刷子
[A27147-0007-0024、借研磨抛光系统制造存储盘或半导体器件和抛光垫
[A27147-0029-0025、速换抛光盘
[A27147-0045-0026、将弹性带设置到在研磨或抛光晶片时所使用的夹盘上的工具
[A27147-0079-0027、平面抛光磨盘快速修正盘
[A27147-0019-0028、磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
[A27147-0081-0029、一种新型磨盘式陶瓷抛光机
[A27147-0056-0030、大直径高精度玻璃抛光机的自动移盘机构
[A27147-0020-0031、用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
[A27147-0050-0032、主动抛光盘面形控制的力控制方法及其设备
[A27147-0048-0033、抛光盘、抛光机及制造半导体器件的方法
[A27147-0014-0034、抛光盘、抛光机、抛光方法及制造半导体器件的方法
[A27147-0068-0035、车辆清洗抛光盘
[A27147-0012-0036、制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法，[A27147-0072-0037、宝石磨削抛光盘
[A27147-0078-0038、一种汽车美容羊毛抛光打磨盘
[A27147-0034-0039、砂片打磨抛光盘
[A27147-0082-0040、带有真空吸盘的抛光机
[A27147-0016-0041、显像屏封接面抛光盘及其制造方法
[A27147-0005-0042、磁盘浮动块用的抛光夹具
[A27147-0033-0043、带试样自转卡盘自动滴液抛光机
[A27147-0030-0044、硬质抛光盘
[A27147-0064-0045、抛光盘及其抛光方法
[A27147-0021-0046、氧化铈抛光盘及其制造方法
[A27147-0055-0047、精密双面抛光机的上抛光盘传动机构
[A27147-0043-0048、宝石磨削抛光盘
[A27147-0037-0049、夹送盘式圆钢修磨抛光机
[A27147-0057-0050、一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法
[A27147-0086-0051、砂光机抛光托盘紧固螺栓铆接结构
[A27147-0024-0052、一种基于压电陶瓷驱动器的变形抛光磨盘
[A27147-0059-0053、圆盘抛光机
[A27147-0036-0054、一种新型抛光磨盘
[A27147-0049-0055、从底盘上去除CMP抛光垫的设备和方法
[A27147-0008-0056、压电致动的化学机械抛光托盘，[A27147-0083-0057、圆盘抛光机
[A27147-0044-0058、抛光垫与抛光盘之间的气泡检测方法
[A27147-0046-0059、抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
[A27147-0018-0060、抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
[A27147-0047-0061、采用主动压力抛光盘磨制非球面光学镜面的方法
[A27147-0062-0062、一种用于硬盘盘基片的抛光组合物
[A27147-0071-0063、环抛光机磨盘调平传力装置
[A27147-0051-0064、用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液
[A27147-0022-0065、具有激光限定的电解抛光弱化线的反向作用破裂盘及形成该弱化线的方法
[A27147-0031-0066、转动式打磨抛光软盘
[A27147-0032-0067、圆盘式多功能打磨抛光机
[A27147-0026-0068、有色金属棒材抛光机抛光盘
[A27147-0039-0069、一种用于硅片无蜡抛光的整体式抛光陶瓷盘
[A27147-0077-0070、抛光机的磨盘转轴升降机构
[A27147-0006-0071、一种用于化学-机械抛光的抛光盘及其制造方法
[A27147-0013-0072、制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
[A27147-0069-0073、金相抛光机磁性磨抛光盘
[A27147-0042-0074、一种新型盘式抛光磨头
[A27147-0038-0075、精密双面抛光机的上抛光盘传动机构
[A27147-0075-0076、大直径高精度玻璃抛光机的自动移盘机构，[A27147-0076-0077、抛光机的磨盘转轴升降机构
[A27147-0002-0078、磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
[A27147-0065-0079、一种抛光盘
[A27147-0023-0080、晶片卡盘和抛光电镀托座之间的测量对准
[A27147-0027-0081、一种抛光盘
[A27147-0025-0082、双面抛光机行星盘
[A27147-0009-0083、制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
[A27147-0066-0084、多盘万向打蜡抛光机
[A27147-0060-0085、旋光性表面的精细机械加工工具的抛光圆盘及其生产方法
[A27147-0011-0086、用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
[A27147-0087-0087、一种双零件盘水钻元件精磨抛光机
15542181913抛光盘配方技术资料，抛光磨盘，抛光液，抛光机 15542181913抛光盘配方技术资料，抛光磨盘，抛光液，抛光机 15542181913 抛光盘配方技术资料，抛光磨盘，抛光液，抛光机 15542181913抛光盘配方技术资料，抛光磨盘，抛光液，抛光机 ，
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摘要、一种抛光刷，所述抛光刷用于一面向中心部具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的内周侧端面部分上供应抛光液，一面使抛光刷与前述玻璃基板的内周侧端面接触旋转进行抛光的抛光方法。该抛光刷(20)，相对于其轴心(21)大致正交的方向上突出设置毛状材料(22)，两个外径D1、D2不同的部分在轴向方向上交替地排列配置，同时，构成其小直径D2的部分的毛状材料的硬度比构成大直径D1的部分的毛状材料的硬度大。为此，用树脂加固构成抛光刷(20)中的小直径D2的部分的毛状材料。
[A27147-0073-0002、一种平面玻璃用多排盘刷清洗、抛光机
摘要、一种平面玻璃用多排盘刷清洗、抛光机。它是利用安装在抛光轮安装梁体上的多个抛光盘形毛刷作旋转运动以及往复平动，从而对玻璃平面进行除污、抛光，为镀银作准备。它设计合理，结构简单，制作容易，操作方便生 产效果好。它包括减速机(1)、安装座(2)及下架体(16)，其特征是在下架体(16)的导轨座(6)的梁架(7)上部连接齿轮电机(10)，在梁架(7)上连接多个抛光头(8)，在抛光头(8)上部连接皮带轮(11)，在抛光头(8)下部连接盘形毛刷(9)；齿轮电机(10)通过三角皮带(12)连接第一个抛光轮(8)上的皮带轮(11-1)；并以此类推，多条三角皮带(12)把多个抛光头(8)上的皮带轮(11)连接成为一个整体。
[A27147-0074-0003、一种金刚磨盘及带金刚磨盘的抛光机，一种金刚磨盘及带金刚磨盘的抛光机，包括电动机、转动轴、转动盘、升降气缸和金刚磨盘等。金刚磨盘是由一个环形刀架和若干个金刚刀头组成的金刚刀头焊接在环形刀架上金刚刀头是用金刚砂制成的，坚硬耐用。工作时金刚磨盘在电动机的驱动下高速旋转金刚刀头对瓷砖或石材表面进行磨削，磨削力的大小由控制转动轴升降的升降气缸正、反压力来调节。这种金刚磨盘结构简单，使用寿命长，使用这种金刚磨盘的抛光机，对瓷砖或石材的表面磨削平整。
[A27147-0070-0004、多盘位多粒宝石研磨抛光装置
摘要、一种多盘位多粒宝石研磨抛光装置，至少包括：环形机架；装设在环形机架上的至少两个研磨抛光盘；装设在环形机架中间的大转盘以及至少两个装设在大转盘上对应于研磨抛光盘的夹持宝石的自动机头。宝石的研磨抛光形成环形流水线式自动循环作业。
[A27147-0080-0005、磨盘装卸方便可靠的抛光机
摘要、磨盘装卸方便可靠的抛光机，包括磨盘以及动力轴，动力轴的下端固定有连接磨盘的安装座，其主要特点是安装座的底面开设有凹腔，磨盘的顶面固置有凸台，凸台插入凹腔内，凸台与凹腔的形状使得当凸台插入凹腔后即被周向固定，在凸台的顶面开设有敞口，敞口的侧壁面呈卡槽形，在凹腔内设置有可径向伸缩的弹簧销，当凸台插入凹腔后，弹簧销顶压在凸台敞口的卡槽中，以此将凸台轴向固定在凹腔内，在弹簧销上固置有手柄。由于磨盘连接结构不存在方向性，所以更换磨盘时无需区分磨盘的旋转方向，同时也避免了由各种原因造成的磨盘与安装座之间发生相对转动，致使磨盘意外脱落的危险，提高了磨盘连接的可靠性。
[A27147-0052-0006、计算机硬盘基片抛光速率的控制方法
摘要、本发明公开了一种计算机硬盘基片抛光速率的控制方法。包括以下步骤，其中原料为重量％：将粒径20～60nm的SiO2溶胶用去离子水稀释，去离子水含量5～50％；边搅拌边加入1～10％的醇醚类表面活性剂、1～10％的FA，O螯合剂；用pH调节剂使pH值在11.5～13.5范围内；加入10～25ml的氧化剂；使用上述抛光液在40～60℃温度、40～120rpm转速、0.1～0.2MPa、200～800ml，min流量的抛光工艺条件下，在抛光机上对基片进行抛光8～10min。本发明用于提高存储器硬盘的磁盘基片的去除速率，使用碱性抛光液同时解决现有的以三氧化二铝为磨料的酸性抛光液的所存在的高损伤和凸凹选择比差问题。
[A27147-0040-0007、金相抛光机磨抛光盘
摘要、本实用新型提供一种金相抛光机磨抛光盘，其磨抛光盘为合金砂盘，磨抛光盘通过固定环定位纤维绒面，支撑盘由多对磁铁块吸附联接磨抛光盘。利用磁铁的引力，实现支撑盘和磨抛光盘的无噪声传动，实现了磨抛光盘平稳、无噪声同步运转，减小了磨抛光盘的跳动量，提高了研磨抛光机精度，且易于更换磨抛光盘。
[A27147-0053-0008、使用化学机械抛光工艺制作自对准接触焊盘的方法
摘要、一种制作自对准接触焊盘的方法，包括：在半导体衬底上形成导电线和覆盖层的叠层，并形成覆盖叠层的侧壁的间隔层和填充叠层之间的间隙并暴露覆盖层的顶部的绝缘层；刻蚀覆盖层以形成波纹状凹槽；以与覆盖层的材料不同的材料形成多个第一刻蚀掩模以填充波纹状凹槽，而不覆盖绝缘层顶部；以及形成具有开口区的第二刻蚀掩模，所述开口区暴露出第一刻蚀掩模的一些以及绝缘层中位于第一刻蚀掩模之间的那部分。所述方法还包括：使用第一和第二掩模刻蚀由开口区所暴露的绝缘层部分以形成多个开口孔；除去第二刻蚀掩模；形成填充开口孔的导电层以覆盖残留的第一刻蚀掩模；以及将覆盖层用作为抛光终点在导电层上执行化学机械抛光工艺以除去第一刻蚀掩模，从而形成多个彼此分离的、填充开口孔的SAC焊盘。
[A27147-0017-0009、抛光存储器硬盘用基片的抛光组合物及抛光方法
摘要、一种用于存储器硬盘用基片的抛光组合物，包含下列组分：(a)水，(b)至少一种选自聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物的化合物，(c)至少一种选自下列的化合物：*、亚*、硫酸、盐酸、钼酸、氨基磺酸、甘氨酸、*酸、苯乙醇酸、丙二酸、抗坏血酸、谷氨酸、二羟乙酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸、马来酸、*以及它们的盐，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和碳化硅的磨料。
[A27147-0063-0010、一种内循环冷却抛光盘
摘要、本发明公开了无土栽培领域中一种营养液补充和调整的设备与方法。该设备，包括水源、供水电磁阀、电子水表、供水管路、混液泵、EC传感器、pH传感器、液位传感器、营养液池、计量泵、供肥电磁阀、母液罐、控制设备。通过对营养液的储量、EC值和pH值变化的实时监控，采取相应的补肥、补酸、补水措施，来实现无土栽培过程中营养液的调整和补充，保证营养液的正常供给。本发明所采用的方法和设备简单、成本低、实用、易实现、效果好。
[A27147-0061-0011、用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物
[A27147-0004-0012、金相试样磨光、抛光电磁吸盘
[A27147-0010-0013、制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
[A27147-0015-0014、显像屏抛光盘及其制造方法
[A27147-0001-0015、一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
[A27147-0041-0016、多功能盘皿抛光机，[A27147-0067-0017、一种车辆清洗抛光盘
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[A27147-0007-0024、借研磨抛光系统制造存储盘或半导体器件和抛光垫
[A27147-0029-0025、速换抛光盘
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[A27147-0019-0028、磁盘基板抛光用组合物及其生产方法
[A27147-0081-0029、一种新型磨盘式陶瓷抛光机
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[A27147-0048-0033、抛光盘、抛光机及制造半导体器件的方法
[A27147-0014-0034、抛光盘、抛光机、抛光方法及制造半导体器件的方法
[A27147-0068-0035、车辆清洗抛光盘
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[A27147-0034-0039、砂片打磨抛光盘
[A27147-0082-0040、带有真空吸盘的抛光机
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[A27147-0064-0045、抛光盘及其抛光方法
[A27147-0021-0046、氧化铈抛光盘及其制造方法
[A27147-0055-0047、精密双面抛光机的上抛光盘传动机构
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