01、电容绝缘膜及其制造方法、电容元件及其制造方法和半导体存储装置及其制造方法
02、高介电常数绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜叠层电容器及薄膜电容元件的制造方法
03、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
04、绝缘膜以及半导体器件的制造方法
05、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
06、低介电常数绝缘膜的制造
07、绝缘膜的形成方法及其形成系统、半导体装置的制造方法
08、辐射敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制备方法
09、在基板上形成绝缘膜的方法、半导体装置的制造方法和基板处理装置
10、绝缘膜成形方法、绝缘膜成形装置和等离子体膜成形装置
11、半导体集成电路用绝缘膜研磨剂组合物及半导体集成电路的制造方法
12、形成半导体基体上的绝缘膜的方法
13、栅极绝缘膜的形成方法、存储介质、计算机程序
14、绝缘膜的形成方法
15、形成含硅绝缘膜的CVD方法和装置
16、TFT-Lsy用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法
17、检测绝缘膜的方法和装置，对其打孔的装置及控制方法
18、生产绝缘膜的涂料组合物、使用该涂料组合物制备绝缘膜的方法、由其得到的用于半导体器件的绝缘膜及含有该绝......
19、含有有机硅烷、有机硅氧烷化合物形成的绝缘膜用材料、其制造方法和半导体器件
20、形成有机绝缘膜的组合物及用其形成有机绝缘膜图案的方法
21、形成层间绝缘膜用的射线敏感性树脂组合物和层间绝缘膜
22、有机硅氧烷树脂以及使用该有机硅氧烷树脂的绝缘膜
23、薄膜电容元件用组合物、高介电常数的绝缘膜、薄膜电容元件、薄膜积层电容器、电路和电子仪器
24、形成绝缘性能改进的绝缘膜的方法
25、硅氧烷基树脂及用其制造的半导体的层间绝缘膜
26、包含锗的硅氧烷基树脂和使用该树脂的半导体器件用间层绝缘膜
27、硅氧烷基的树脂和使用其制造的半导体器件的层间绝缘膜
28、新颖的硅氧烷基树脂和使用该树脂形成的间层绝缘膜
29、半导体装置的绝缘膜形成方法及半导体装置
30、基底绝缘膜的形成方法
31、绝缘膜成膜用原料及使用该原料的成膜方法
32、多官能环状硅酸盐（或酯）化合物，由该化合物制得的基于硅氧烷的聚合物和使用该聚合物制备绝缘膜的方法
33、光敏性聚酰亚胺树脂组合物、使用该组合物的绝缘膜、其制造方法及使用绝缘膜的电子器件
34、具有改善的机械特性的绝缘膜合成物
35、有机无机混合绝缘膜的形成方法
36、有机硅酸盐聚合体和含有该有机硅酸盐聚合体的绝缘膜
37、层间绝缘膜及其形成方法以及聚合物组合物
38、辐射敏感树脂组合物，形成有图案绝缘膜的形成方法，装配有该膜的有源矩阵板和平板显示设备，和生产平板显示......
39、绝缘膜的蚀刻方法
40、在硅基底中形成绝缘膜的方法
41、多孔膜形成用组合物、多孔膜及其制造方法、层间绝缘膜和半导体装置
42、有机绝缘膜、其制造方法、使用该有机绝缘膜的半导体器件及其制造方法
43、绝缘膜氮化方法、半导体装置及其制造方法、基板处理装置和基板处理方法
44、非取向型电磁钢板的制备方法及所用的绝缘膜形成剂
45、耐热绝缘膜和绝缘方法
46、有机绝缘膜的蚀刻方法和双波纹处理方法
47、形成半导体器件的层间绝缘膜的方法
48、用于半导体装置中的绝缘膜和半导体装置
49、通过电子束辐射制作绝缘膜线路图形的方法
50、用牺牲可流动氧化物双嵌埋形成多共面金属，绝缘膜的方法
51、介电常数降低的改进二氧化硅绝缘膜及其形成方法
52、金属高温绝缘膜
53、形状记忆合金表面原位制备绝缘膜
54、非取向型电磁钢板、其制备方法及所用绝缘膜形成剂
55、改进了高温下收缩性的双轴取向绝缘膜
56、用于形成绝缘膜的涂料组合物，用此涂料组合物涂覆的未取向电工钢板，以及在该钢板上形成该绝缘膜的方法
57、绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法
58、用于透明绝缘膜的糊料和其制造方法、等离子显示板和其制造方法
59、绝缘膜的形成方法及半导体器件的制造方法
60、低介电常数绝缘膜及其形成方法，以及使用它的电路
61、栅绝缘膜的形成方法
62、绝缘膜形成材料，绝缘膜，形成绝缘膜的方法及半导体器件
63、低介电常数绝缘膜用组合物、绝缘膜形成方法及电子零件
64、绝缘膜刻蚀装置
65、绝缘膜的制造装置
66、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
67、低介电常数绝缘膜形成用材料、低介电常数绝缘膜、低介电常数绝缘膜的形成方法及半导体器件
68、电池以及引线绝缘膜
69、绝缘膜的形成方法和半导体装置的制造方法
70、一种制备绝缘膜和显示器的射线敏感组合物
71、含低介电常数绝缘膜的半导体装置的制造方法
72、绝缘膜用材料，绝缘膜用罩光清漆，以及绝缘膜和采用该膜或该清漆的半导体装置
73、耐热性树脂的预聚体，耐热性树脂，绝缘膜和半导体装置
74、有机硅酸酯聚合物和从其得到的绝缘膜
75、半导体装置的层间绝缘膜的形成方法
76、绝缘膜材料、多层互连结构及其制造方法和半导体器件的制造方法
77、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
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07、绝缘膜的形成方法及其形成系统、半导体装置的制造方法
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14、绝缘膜的形成方法
15、形成含硅绝缘膜的CVD方法和装置
16、TFT-Lsy用层间有机绝缘膜用丙烯酸类共聚物树脂的制造方法
17、检测绝缘膜的方法和装置，对其打孔的装置及控制方法
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56、用于形成绝缘膜的涂料组合物，用此涂料组合物涂覆的未取向电工钢板，以及在该钢板上形成该绝缘膜的方法
57、绝缘膜形成用涂料及用该涂料的等离子显示板的制造方法
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62、绝缘膜形成材料，绝缘膜，形成绝缘膜的方法及半导体器件
63、低介电常数绝缘膜用组合物、绝缘膜形成方法及电子零件
64、绝缘膜刻蚀装置
65、绝缘膜的制造装置
66、含有机硅烷化合物的绝缘膜用材料及其制法及半导体装置
67、低介电常数绝缘膜形成用材料、低介电常数绝缘膜、低介电常数绝缘膜的形成方法及半导体器件
68、电池以及引线绝缘膜
69、绝缘膜的形成方法和半导体装置的制造方法
70、一种制备绝缘膜和显示器的射线敏感组合物
71、含低介电常数绝缘膜的半导体装置的制造方法
72、绝缘膜用材料，绝缘膜用罩光清漆，以及绝缘膜和采用该膜或该清漆的半导体装置
73、耐热性树脂的预聚体，耐热性树脂，绝缘膜和半导体装置
74、有机硅酸酯聚合物和从其得到的绝缘膜
75、半导体装置的层间绝缘膜的形成方法
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77、放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法
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