抗蚀剂类工艺生产工艺及应用
(CD33509-0418-0001)光致抗蚀剂的去除方法以及半导体元件的制造方法
(CD33509-0194-0002)正型光致抗蚀剂剥离液组合物
(CD33509-0492-0003)化学放大型抗蚀剂组合物
(CD33509-0471-0004)形成抗反射薄膜的组合物层状产品和抗蚀剂图案的形成方法
(CD33509-0295-0005)描绘图形、抗蚀剂图形的形成方法和曝光装置控制方法
(CD33509-0184-0006)光致抗蚀剂用显影液
(CD33509-0381-0007)光致抗蚀剂剥离用组合物及剥离光致抗蚀剂的方法
(CD33509-0288-0008)一种适合于酸产生剂的盐及含有它的化学放大型抗蚀剂组合物
(CD33509-0199-0009)生产光致抗蚀剂组合物用成膜树脂的方法
(CD33509-0331-0010)感光性热固性树脂组合物和涂覆有抗蚀剂的印刷配线板及其制造方法
(CD33509-0429-0011)使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置
(CD33509-0264-0012)正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法
(CD33509-0260-0013)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0139-0014)杯间苯二酚芳烃化合物以及由其构成的光致抗蚀剂基材及其组合物
(CD33509-0140-0015)感光性树脂组合物和使用其的感光性部件抗蚀剂图案的形成方法印刷配线板的制造方法和等离子显示面板用间隔壁的制造方法
(CD33509-0397-0016)光致抗蚀剂残渣、聚合物残渣除去组合物和残渣除去方法
(CD33509-0477-0017)光致抗蚀剂组合物用的溶解速率改性剂
(CD33509-0104-0018)用于光致抗蚀剂溶解液的消泡剂组合物
(CD33509-0368-0019)包括含有氟氨磺酰的聚合物的负性抗蚀剂组合物
(CD33509-0064-0020)化学增强的抗蚀剂组合物
(CD33509-0356-0021)负型抗蚀剂组合物及图像形成方法
(CD33509-0095-0022)使用化学放大抗蚀剂的透明导电膜的形成方法
(CD33509-0262-0023)正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
(CD33509-0374-0024)用于确定最佳抗蚀剂厚度的方法
(CD33509-0486-0025)适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
(CD33509-0238-0026)抗蚀剂填入方法和半导体器件的制造方法
(CD33509-0181-0027)高分子化合物、光致抗蚀剂材料及图案形成方法
(CD33509-0350-0028)光致抗蚀剂图案的形成方法以及修整方法
(CD33509-0322-0029)使用双层光刻抗蚀剂作为用于光学存储的新材料
(CD33509-0052-0030)共聚物树脂其制备方法及用其制成的光致抗蚀剂
(CD33509-0380-0031)含有金属卤化物腐蚀抑制剂的碱性后等离子体蚀刻/灰化残余物去除剂和光致抗蚀剂剥离组合物
(CD33509-0001-0032)化学放大型正性抗蚀剂组合物
(CD33509-0055-0033)用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物
(CD33509-0020-0034)抗蚀剂组合物
(CD33509-0126-0035)去除光致抗蚀剂、蚀刻残余物的BARC的配制料
(CD33509-0280-0036)正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图案的方法
(CD33509-0501-0037)用于形成光交联固化的抗蚀剂下层膜的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物
(CD33509-0011-0038)除去光致抗蚀剂的洗涤液
(CD33509-0024-0039)使用在水溶液中具有高当量电导率的导电材料的抗蚀剂剥离剂组合物
(CD33509-0109-0040)具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法
(CD33509-0480-0041)抗蚀剂图案的形成方法
(CD33509-0151-0042)光致抗蚀剂掩膜形成方法
(CD33509-0414-0043)适合于酸生成剂的盐和含有其的化学放大型抗蚀剂组合物
(CD33509-0089-0044)正型光致抗蚀剂层及其使用方法
(CD33509-0378-0045)用于浸渍光刻的聚合物、含有它的光致抗蚀剂组合物、制备半导体器件的方法及半导体器件
(CD33509-0434-0046)形成抗蚀图案的方法、正型抗蚀剂组合物和层状产品
(CD33509-0142-0047)纳米图案形成方法其中所使用的固化抗蚀剂膜和包含该抗蚀剂膜的制品
(CD33509-0214-0048)正型抗蚀剂组合物
(CD33509-0120-0049)光致抗蚀剂元件的形成方法
(CD33509-0399-0050)抗蚀剂除去方法以及抗蚀剂除去装置
(CD33509-0488-0051)三层抗蚀剂有机层蚀刻
(CD33509-0360-0052)光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法
(CD33509-0344-0053)抗蚀剂组合物以及用于除去抗蚀剂的有机溶剂
(CD33509-0387-0054)使用化学辅助回流来减小光致抗蚀剂的线缘粗糙度
(CD33509-0256-0055)光敏性树脂组合物及用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂、光敏性射线遮挡膜
(CD33509-0507-0056)光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置
(CD33509-0257-0057)厚抗蚀剂图案的形成方法
(CD33509-0069-0058)N链烷醇烷氧基烷酰胺化合物、抗蚀剂脱除剂、用于脱除抗蚀剂的组合物及其制备方法
(CD33509-0300-0059)化学放大正性抗蚀剂组合物、卤代酯衍生物及其生产方法
(CD33509-0174-0060)光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0312-0061)用于去除(光致)抗蚀剂的组合物
(CD33509-0342-0062)用于印刷构图抗蚀剂层的组合物和方法
(CD33509-0365-0063)在抗蚀剂剥离室中从衬底上除去抗蚀剂的方法
(CD33509-0293-0064)化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0063-0065)用于光致抗蚀剂的交联单体及使用其制备光致抗蚀剂聚合物的方法
(CD33509-0309-0066)正型抗蚀剂组合物以及其中使用的化合物
(CD33509-0128-0067)化学放大型正性抗蚀剂组合物
(CD33509-0463-0068)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0396-0069)高分子化合物、含有该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案形成方法
(CD33509-0299-0070)光致抗蚀剂树脂组合物
(CD33509-0034-0071)从印刷电路板上清除抗蚀剂的方法
(CD33509-0389-0072)超支化聚合物及其制造方法、以及含有该超支化聚合物的抗蚀剂组合物
(CD33509-0311-0073)用于形成图案的抗蚀剂及使用其形成图案的方法
(CD33509-0426-0074)抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂用聚合物的制造方法、抗蚀剂组合物、及形成有图案的基板的制造方法
(CD33509-0078-0075)正型光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0367-0076)感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷电路板的制造方法以及光固化物的去除方法
(CD33509-0363-0077)正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法
(CD33509-0452-0078)抗蚀剂组合物
(CD33509-0143-0079)正型抗蚀剂组合物的制备方法、正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
(CD33509-0433-0080)高分子化合物、酸发生剂、正型抗蚀剂组合物、和抗蚀图案形成方法
(CD33509-0123-0081)光致抗蚀剂用聚合性化合物、其聚合物以及含有该聚合物的光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0225-0082)应用多层光致抗蚀剂层结构的光刻工艺
(CD33509-0447-0083)抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置
(CD33509-0190-0084)抗蚀剂组合物
(CD33509-0499-0085)用于厚的光致抗蚀剂层的可显影底涂组合物
(CD33509-0216-0086)光致抗蚀剂剥离剂组合物
(CD33509-0249-0087)改进的光致抗蚀剂
(CD33509-0037-0088)用于供给光致抗蚀剂的系统
(CD33509-0457-0089)深UV用光致抗蚀剂组合物及其方法
(CD33509-0339-0090)液浸曝光处理用抗蚀剂组合物及使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图形形成方法
(CD33509-0289-0091)焊锡抗蚀剂油墨组合物
(CD33509-0019-0092)基于近红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程的方法和再生光致抗蚀剂剥离剂成分的方法
(CD33509-0410-0093)抗蚀剂组合物
(CD33509-0176-0094)具有高耐热性的光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0481-0095)正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
(CD33509-0132-0096)使用溶剂体系内的自组装单层除去高剂量离子注入光致抗蚀剂
(CD33509-0178-0097)系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
(CD33509-0147-0098)光致酸生成剂、含它的光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法
(CD33509-0483-0099)正性干膜光致抗蚀剂以及用于制备该光致抗蚀剂的组合物
(CD33509-0263-0100)抗蚀剂剥离剂
(CD33509-0464-0101)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0138-0102)光致抗蚀剂显影液及使用该显影液的基板的制造方法
(CD33509-0149-0103)化学放大型抗蚀剂组合物
(CD33509-0222-0104)用于双层光刻的低硅排气抗蚀剂
(CD33509-0298-0105)化学放大正性光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0431-0106)适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物
(CD33509-0083-0107)金属离子含量低的44′－[1－[4－[1－(4－羟基苯基)－1－甲基乙基、苯基、－11－亚乙基、双酚及其光敏抗蚀剂组合物
(CD33509-0203-0108)用于干膜抗蚀剂的热稳定的光固化树脂组合物
(CD33509-0346-0109)感光树脂组合物和使用该感光树脂组合物的干膜抗蚀剂
(CD33509-0102-0110)化学放大抗蚀剂聚合物及使用该聚合物的抗蚀剂组合物
(CD33509-0248-0111)抗蚀剂剥离剂组合物
(CD33509-0204-0112)具有改进型抗蚀剂及/或蚀刻轮廓特征的介电膜用蚀刻方法
(CD33509-0124-0113)细线抗蚀剂剥离方法
(CD33509-0432-0114)含氟化合物、含氟聚合物、抗蚀剂组合物、抗蚀剂保护膜组合物
(CD33509-0421-0115)适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物
(CD33509-0041-0116)含N-乙烯基内酰胺衍生物的共聚物、其制法及光致抗蚀剂
(CD33509-0029-0117)薄膜器件工艺形成凹状光致抗蚀剂剥离外形的方法及器件
(CD33509-0066-0118)用于化学增强抗蚀剂的树脂
(CD33509-0343-0119)除去抗蚀剂的方法和除去抗蚀剂的装置
(CD33509-0290-0120)正性光致抗蚀剂和形成光致抗蚀剂的方法
(CD33509-0390-0121)从半导体基片上去除光致抗蚀剂、蚀刻和/或灰化残留物、或污染物的方法
(CD33509-0482-0122)抗蚀剂组合物
(CD33509-0277-0123)用于远紫外光刻的光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0270-0124)一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺
(CD33509-0005-0125)抗蚀剂图形增厚材料、抗蚀剂图形及其形成方法以及半导体器件及其制造方法
(CD33509-0032-0126)聚丁二烯系正型抗蚀剂及合成方法
(CD33509-0053-0127)光致抗蚀剂材料和用由其构成抗蚀图形的半导体装置制法
(CD33509-0371-0128)低多分散性可光成像的丙烯酸类聚合物、光致抗蚀剂和微平版印刷法
(CD33509-0449-0129)从蚀刻晶片脱模光致抗蚀剂的方法
(CD33509-0284-0130)正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法
(CD33509-0229-0131)抗蚀剂剥离装置
(CD33509-0114-0132)用于形成光交联固化的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成组合物
(CD33509-0358-0133)抗蚀剂组合物和在基材上形成图案的方法
(CD33509-0485-0134)适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物
(CD33509-0411-0135)抗蚀剂材料和微加工方法
(CD33509-0351-0136)采用浸渍溶剂的抗蚀剂组合物评价方法
(CD33509-0012-0137)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0110-0138)适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物
(CD33509-0183-0139)光致抗蚀剂用显影液
(CD33509-0424-0140)抗蚀剂组合物
(CD33509-0058-0141)用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层
(CD33509-0334-0142)进行抗蚀剂工艺校准/优化和DOE优化的方法
(CD33509-0237-0143)LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法
(CD33509-0444-0144)除去光致抗蚀剂和后蚀刻残留物的气体混合物及其应用
(CD33509-0219-0145)旋涂材料层的平坦化方法及光致抗蚀剂层的制造方法
(CD33509-0210-0146)用作光致抗蚀剂的具有带稠合4-元碳环的多环基团的氟化聚合物和用于微石印术的方法
(CD33509-0044-0147)抗蚀剂的显影方法以及显影装置
(CD33509-0275-0148)正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
(CD33509-0036-0149)用于光敏抗蚀剂层的显影剂
(CD33509-0296-0150)光致抗蚀剂剥离剂
(CD33509-0324-0151)利用等离子体选择性地去除涂覆于形成在衬底上的负型光致抗蚀剂上的聚酰亚胺配向层并再利用衬底的方法
(CD33509-0144-0152)抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置、抗蚀剂组合物的涂敷装置以及抗蚀剂组合物
(CD33509-0323-0153)正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法
(CD33509-0045-0154)酚甲醛缩合物的分馏和由其生产的光敏抗蚀剂组合物
(CD33509-0003-0155)用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法
(CD33509-0127-0156)含氧杂环丁烷的化合物、光致抗蚀剂组合物、制备图案的方法、以及喷墨打印头
(CD33509-0107-0157)光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0496-0158)感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷电路板的制造方法
(CD33509-0057-0159)高耐热照射敏感性抗蚀剂组合物
(CD33509-0221-0160)作为抗蚀剂的琥珀酸半酰胺
(CD33509-0233-0161)精细图案形成方法和抗蚀剂表层处理剂
(CD33509-0206-0162)抗蚀剂组合物
(CD33509-0283-0163)抗蚀剂组合物层压材料和形成抗蚀图案的方法
(CD33509-0051-0164)使用含聚合物的光致抗蚀剂的半导体装置及其制备方法
(CD33509-0148-0165)光致抗蚀剂组合物、图案化薄膜的方法和制备液晶显示器面板的方法
(CD33509-0508-0166)一种制作等离子显示面板时层叠干膜抗蚀剂的装置
(CD33509-0207-0167)用作光致抗蚀剂的具有稠合的4-元杂环的多环基团的氟化单体氟化聚合物和用于微石印术的方法
(CD33509-0268-0168)光致抗蚀剂移除组合物
(CD33509-0402-0169)使具有面涂层的深紫外线光致抗蚀剂成像的方法及其材料
(CD33509-0048-0170)用于制备抗蚀剂的新方法
(CD33509-0239-0171)抗蚀剂剥离用组合物
(CD33509-0251-0172)LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法
(CD33509-0125-0173)记录介质主盘用正型抗蚀剂组合物以及使用了该组合物的记录介质主盘的制造方法及母版的制造方法
(CD33509-0253-0174)用于光致抗蚀剂的剥离组合物
(CD33509-0287-0175)光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法
(CD33509-0006-0176)光致抗蚀剂残渣除去液组合物
(CD33509-0385-0177)抗蚀剂层积体的形成方法
(CD33509-0494-0178)用于微细加工的激光抗蚀剂转移
(CD33509-0197-0179)抗蚀剂残渣去除液组合物及半导体电路元件的制造方法
(CD33509-0200-0180)滤色片用分散有颜料的抗蚀剂组合物
(CD33509-0189-0181)用于检查对带电粒子有反应的抗蚀剂的系统和方法
(CD33509-0220-0182)抗蚀剂图案形成法及装置、图案基板制法和显示装置制法
(CD33509-0039-0183)新的光致抗蚀剂共聚物
(CD33509-0081-0184)含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0474-0185)抗蚀剂用化合物及放射线敏感性组合物
(CD33509-0313-0186)用于抗蚀剂剥离室的裸铝隔板
(CD33509-0071-0187)烷氧基N－羟基烷基链酰胺作为抗蚀剂脱除剂的用途
(CD33509-0391-0188)用于EUV负性光致抗蚀剂的低排气和非-交联聚合物系列
(CD33509-0165-0189)正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
(CD33509-0187-0190)半导体器件的制造方法及用于剥离抗蚀剂的清洗装置
(CD33509-0401-0191)抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法以及抗蚀剂用聚合物用原料化合物
(CD33509-0152-0192)正性光致抗蚀剂组合物、厚膜光致抗蚀剂层压材料、用于制备厚膜抗蚀剂图案的方法以及用于制备接线端子的方法
(CD33509-0303-0193)光致抗蚀剂层的显影方法
(CD33509-0080-0194)正型光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0035-0195)光抗蚀剂组合物及应用该组合物产生图形的方法
(CD33509-0337-0196)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0462-0197)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0156-0198)剥离抗蚀剂的方法
(CD33509-0386-0199)负性抗蚀剂组合物
(CD33509-0407-0200)间苯二酚杯芳烃化合物、光致抗蚀剂基材及其组合物
(CD33509-0164-0201)化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
(CD33509-0245-0202)抗蚀剂材料和微加工方法
(CD33509-0224-0203)193nm抗蚀剂
(CD33509-0428-0204)采用正性电子抗蚀剂制备金属纳米电极的方法
(CD33509-0201-0205)化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法
(CD33509-0046-0206)酚甲醛缩合物的分馏和由其生产的光敏抗蚀剂组合物
(CD33509-0316-0207)光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣的除去组合物
(CD33509-0318-0208)LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法
(CD33509-0252-0209)抗蚀剂组合物
(CD33509-0025-0210)光致抗蚀剂残渣除去液组合物
(CD33509-0185-0211)光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法
(CD33509-0506-0212)酞菁类颜料微粒及其制造方法、颜料分散光致抗蚀剂、着色转印材料、滤色器及液晶显示装置
(CD33509-0412-0213)对光刻衬底上的正色调抗蚀剂层进行构图的方法
(CD33509-0417-0214)有机防反射涂料聚合物及有机防反射涂料组合物以及形成光致抗蚀剂图案的方法
(CD33509-0460-0215)印刷用抗蚀剂及使用该抗蚀剂的构图方法
(CD33509-0265-0216)正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形的形成方法
(CD33509-0121-0217)正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法
(CD33509-0370-0218)光致抗蚀剂组合物
(CD33509-0456-0219)用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物
(CD33509-0422-0220)有机膜组合物和抗蚀剂图案形成方法
(CD33509-0436-0221)除去光致抗蚀剂残余物的pH缓冲含水清洁组合物和方法
(CD33509-0281-0222)避免ZEP520电子抗蚀剂产生裂纹的方法
(CD33509-0425-0223)内酯化合物、含内酯的单体、它们的聚合物、使用该聚合物的抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的图形形成方法
(CD33509-0398-0224)用于去除透明导电膜及光致抗蚀剂的剥离液组合物
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