技术资料、研磨液生产加工工艺制备技术大全
作者：百创科技 能源燃料来源：本站原创 点击数： 更新时间：2021/4/23
(1006210-0017-0001) 半导体器件的制造方法及其中使用的研磨液
(技术说明) 一种制造半导体器件的方法，其绝缘膜的抛光率有所改进，且能产生较少的缺陷。在这种制造方法中，将杂质引进第一绝缘膜，然后通过抛光第一绝缘膜表面而进行平面化。因此，在引进了杂质的第一绝缘膜的部分其抛光率改进了，而且在其中也不易产生缺陷。
(1006210-0041-0002) 轴承钢球的小液量研磨设备
(技术说明) 本实用新型公开了一种轴承钢球的小液量研磨设备，包括研磨机床、大液箱、小液箱、循环泵以及输液系统，所述研磨机床上的研磨液回流出口与大液箱之间还连接有小液箱，小液箱与大液箱之间设有转换阀；用它来实施小液量循环研磨液研磨法，以高效率地生产出高质量的轴承钢球。
(1006210-0046-0003) 一种新型的拆换式研磨机研磨液入口组件
(技术说明) 本实用新型公开了一种新型的拆换式研磨机研磨液入口组件，它包括研磨机后壁板，在研磨机后壁板的研磨液流径孔处设有拆卸式耐磨入口零件，耐磨入口零件通过锁母螺纹连接锁定在研磨机后壁板的开孔上。这种拆换式研磨机研磨液入口组件，极大的简化了维修过程，节省人工费用，也节省时间。原来每次拆卸研磨盘时，基本上都需要将全部的聚氨酯材质的盘完全用切割机破坏，才可以在拆卸完全部研磨盘后拆换研磨机的后壁板，现在只需要将锁母拆下，在不需要拆去全部研磨盘的情况下，就可以将耐磨入口零件进行拆卸更换。
(1006210-0048-0004) 磁盘用研磨液组合物
(技术说明) 本发明涉及含有氧化铝、水、过氧化物及有机酸的磁盘用研磨液组合物，包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的被研磨基板的研磨方法，及包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。研磨液组合物可以适用于制造高质量的硬盘等的磁盘基板。
(1006210-0081-0005) 液晶面板表面的研磨装置及研磨方法
(技术说明) 一种液晶面板表面的研磨装置，包括：装载被研磨液晶面板的旋转台；用于研磨液晶面板的磨石；磨石支撑构件，该磨石支撑构件支撑上述磨石，并将磨石一边旋转，一边下降到上述被研磨液晶面板的表面；驱动上述磨石旋转的磨石旋转驱动电动机；检测上述磨石对液晶面板表面的研磨压的研磨压检测器；控制器，该控制器包含显示研磨压检测器检测的研磨压数据的研磨压数据显示部、寄存所述研磨压数据的多个存储器和从上述多个存储器中选择读取最适研磨压数据的存储器选择电路；根据上述存储器选择电路选择的最适研磨压数据，驱动调整所述磨石在液晶面板表面上研磨压的研磨压调整电动机。
(1006210-0101-0006) 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法
(技术说明) 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法。提供了一种用于液晶显示设备的研磨机轮以及制造液晶显示设备的方法。在用于研磨基板的研磨机轮中形成两个研磨表面来对基板进行研磨，以提高研磨特性、增加研磨机轮的寿命、并且缩短研磨时间。该方法包括：将相互接合的基板切割成多个单位液晶显示板；在研磨操作台上加载单位液晶显示板；使用研磨机轮对液晶显示板的预定区域进行研磨，该研磨机轮包括用于主研磨的第一研磨表面和用于次研磨的第二研磨表面的两个研磨表面；以及卸载经过研磨的液晶显示板。
(1006210-0106-0007) 研磨液组合物
(技术说明) 本发明提供一种研磨液组合物，以及使用该研磨液组合物的基板的研磨方法。所述研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b)表面活性剂为以通式(1)或(2)所示的磺酸或其盐，且(c)研磨液组合物的pH值为特定范围。该研磨液组合物例如适合用于磁盘、光盘、光磁盘等盘状记录介质用的基板的研磨。
(1006210-0013-0008) 研磨体浸泡在处理手指溶液中的可盖紧的容器
(技术说明) 处理手指的容器有一双层密封，它们与容器内壁可以是压配合和／或非压配合联结，内密封的顶面紧贴一凸肩，并固定其下面的海绵体。海绵体可吸附杯体内盛放的用来处理手指的液体。孔有一可替换的衬里，在密封上开有插入手指的可张紧的窄缝，所以没有液体流出或蒸发。海绵体的顶面被密封盖住，该密封在周边上用弹簧圈固定住，弹簧圈紧贴一模板上或位于杯体内壁的槽内，从而被固定住。
(1006210-0094-0009) 金属研磨液材料、金属研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
(技术说明) 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
(1006210-0137-0010) 氧化硅用研磨剂、添加液以及研磨方法
(技术说明) 本发明的研磨剂是用以研磨多晶硅上的氧化硅膜的研磨剂，含有研磨粒、多晶硅研磨抑制剂及水。作为所述研磨抑制剂，优选使用：(1)以由丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺及其α-取代衍生物所组成的组中的任一种N-单取代衍生物或N，N-二取代衍生物作为骨架的水溶性高分子、(2)聚*、(3)炔系二醇的氧化乙烯加成物、(4)具有炔键的水溶性有机化合物、(5)烷氧基化直链脂肪醇的任一种，或者(6)聚乙烯吡咯烷酮或含有乙烯吡咯烷酮的共聚物。本发明是提供一种氧化硅用研磨剂以及使用该氧化硅用研磨剂的研磨方法，该研磨剂于半导体制造方法中可高速研磨多晶硅膜上的氧化硅膜，并且在多晶硅膜露出时可抑制对多晶硅膜的研磨。
(1006210-0039-0011) 彩色滤光片研磨液组合物
(1006210-0035-0012) 彩色滤光片研磨液组合物
(1006210-0047-0013) 研磨液组合物
(1006210-0010-0014) 液晶显示器面板的研磨装置
(1006210-0119-0015) 金属用研磨液
(1006210-0128-0016) 用于化学机械抛光的系统、方法与研磨液
(1006210-0082-0017) 抛光方法及研磨液
(1006210-0022-0018) 金属用研磨液及研磨方法
(1006210-0110-0019) 在增稠剂存在下研磨矿物材料的方法，获得的含水悬浮液及其用途
(1006210-0025-0020) 研磨液的制造装置
(1006210-0034-0021) 水性金刚石研磨液及其制备方法和用途
(1006210-0040-0022) 高精度液体静压金刚石刀具研磨机
(1006210-0021-0023) 无机研磨剂废液的再生处理装置
(1006210-0077-0024) 研磨液组合物
(1006210-0122-0025) 金属用研磨液以及研磨方法
(1006210-0092-0026) 金属用研磨液以及研磨方法
(1006210-0057-0027) 研磨液及研磨方法
(1006210-0129-0028) 陶瓷研磨液
(1006210-0124-0029) 研磨液及研磨方法
(1006210-0066-0030) 半导体芯片化学机械研磨后清洗液
(1006210-0045-0031) 一种改进型化学机械研磨液容器
(1006210-0117-0032) 研磨液及研磨方法
(1006210-0053-0033) 一种非标尺寸有源矩阵液晶显示器及其研磨制造方法
(1006210-0074-0034) 化学机械研磨浆液组合物及其使用方法
(1006210-0038-0035) 研磨液组合物
(1006210-0037-0036) 使用包含锆化合物的水溶液在水介质中分散和/或研磨和/或浓缩碳酸钙的方法
(1006210-0011-0037) 制造液晶显示器面板的具有旋转缓冲器的研磨装置
(1006210-0087-0038) 一种不锈钢表面快速化学研磨抛光浴液及方法
(1006210-0107-0039) 金属用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法
(1006210-0132-0040) 化学机械研磨机台中研磨液及去离子水输送管的配置方法
(1006210-0004-0041) 研磨液组合物
(1006210-0031-0042) 研磨液组合物
(1006210-0133-0043) 一种化学机械研磨机台化学液供给装置
(1006210-0029-0044) 用于化学机械抛光研磨液组合物的氧化剂
(1006210-0002-0045) 金属研磨液材料、金属研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
(1006210-0126-0046) 化学机械研磨方法与研磨液组合物
(1006210-0115-0047) 研磨液及研磨方法
(1006210-0130-0048) 玻璃基板用研磨液组合物
(1006210-0030-0049) 研磨液供应装置的气泡抑制器
(1006210-0019-0050) 水溶性防锈晶体研磨液
(1006210-0050-0051) 磁盘用研磨液试剂盒
(1006210-0111-0052) 在粘结剂存在下研磨矿物材料的方法，获得的含水悬浮液及其用途
(1006210-0083-0053) 铈类研磨材料及研磨材料浆液和铈类研磨材料的制造方法
(1006210-0100-0054) 硅片研磨液
(1006210-0072-0055) 含有被埋入的液态微量成分的研磨垫及其制造方法
(1006210-0102-0056) CMP用研磨液及其制备方法以及基板的研磨方法
(1006210-0073-0057) 研磨液组合物
(1006210-0008-0058) 化学机械研磨后洗涤液组合物
(1006210-0134-0059) 计算机硬盘基板研磨用清洗液
(1006210-0036-0060) 化学机械研磨浆液与化学机械平坦化方法
(1006210-0068-0061) 研磨液组合物
(1006210-0070-0062) 用于水性悬浮液中矿物质研磨和/或分散的助剂，所形成的水性悬浮液及其用途
(1006210-0005-0063) 一种用于铜制程的化学机械研磨液组合物
(1006210-0020-0064) 研磨浆液及其用途
(1006210-0012-0065) 牙粉中使用的流体研磨剂悬浮液
(1006210-0054-0066) 研磨液再利用装置及其系统
(1006210-0097-0067) 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液
(1006210-0028-0068) 研磨液组合物
(1006210-0055-0069) 用于彩色光阻材料平面化的研磨浆液
(1006210-0096-0070) 半导体硅晶片水基研磨液
(1006210-0075-0071) 测量液晶显示面板研磨量的设备和方法
(1006210-0095-0072) 化学机械研磨机台的研磨液供应设备与研磨液混合方法
(1006210-0093-0073) 玻璃基板用研磨液组合物
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(1006210-0103-0076) 制造轻薄型液晶显示元件的液晶单元的研磨方法及其装置
(1006210-0044-0077) 研磨液清洗装置
(1006210-0123-0078) 金属用研磨液以及研磨方法
(1006210-0016-0079) 一种用于含液压轴承的研磨机的无刷主轴电机
(1006210-0064-0080) 研磨液组合物
(1006210-0059-0081) 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
(1006210-0014-0082) 独立安装在圆筒内的抗淹没排污研磨泵液位控制系统
(1006210-0089-0083) 研磨液组合物
(1006210-0069-0084) 用于水性悬浮液中矿物质研磨的助剂、所形成的水性悬浮液及其用途
(1006210-0121-0085) 金属钽及其合金专用研磨液及其制备方法
(1006210-0125-0086) 磁盘基板用研磨液组合物
(1006210-0027-0087) 研磨液组合物
(1006210-0052-0088) 带有用于提高浆液利用率的凹槽的研磨垫
(1006210-0060-0089) 用于从研磨的聚氨酯颗粒和多元醇液体的混合物中连续除去空气的设备和方法
(1006210-0006-0090) 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
(1006210-0067-0091) 研磨液组合物
(1006210-0023-0092) 金属研磨液材料、金属研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
(1006210-0062-0093) 研磨用磨料、研磨剂、研磨液、研磨液的制造方法、研磨方法以及半导体元件的制造方法
(1006210-0043-0094) 隔膜式研磨液挤压缸
(1006210-0127-0095) 一种用于硅晶片的研磨液
(1006210-0049-0096) 研磨液及研磨方法
(1006210-0056-0097) 化学机械研磨浆液及其使用方法
(1006210-0001-0098) 高悬浮力水溶性防锈研磨液
(1006210-0018-0099) 输送基片机械抛光研磨悬浮液的设备和方法
(1006210-0108-0100) 半导体基板用研磨液组合物
(1006210-0141-0101) 研磨盘刷供液体机构
(1006210-0007-0102) 液体状物料的循环粉碎研磨装置及其方法
(1006210-0026-0103) 镜片研磨加工装置的研磨液供给装置
(1006210-0079-0104) 研磨液组合物
(1006210-0136-0105) CMP用研磨液及研磨方法
(1006210-0091-0106) CMP方法用研磨液及研磨方法
(1006210-0104-0107) 相互研磨水泥用液体添加剂
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(1006210-0061-0110) 研磨液及研磨方法
(1006210-0042-0111) 一种研磨机本体的浆液助流装置
(1006210-0032-0112) 研磨液
(1006210-0138-0113) 铝膜研磨用研磨液及使用其的铝膜研磨方法
(1006210-0109-0114) 金属用研磨液及研磨方法
(1006210-0090-0115) 半导体基板用研磨液组合物
(1006210-0080-0116) 研磨液组合物
(1006210-0120-0117) 轴承钢球的小液量研磨设备
(1006210-0063-0118) 研磨液组合物
(1006210-0135-0119) 研磨液
(1006210-0131-0120) 化学机械研磨系统及研磨液
(1006210-0116-0121) 研磨液及研磨方法
(1006210-0003-0122) 化学机械研磨浆液组合物及其使用方法
(1006210-0009-0123) 高速研磨金属层用化学机械研磨液组成物
(1006210-0058-0124) 一种用于存储器硬盘磁头背面研磨的研磨液
(1006210-0078-0125) 研磨液组合物
(1006210-0088-0126) 研磨液组合物
(1006210-0071-0127) 研磨液组合物
(1006210-0084-0128) 液晶聚合物的研磨
(1006210-0076-0129) 研磨液组合物
(1006210-0065-0130) 金属用研磨液及研磨方法
(1006210-0118-0131) 蚀刻液组合物、研磨用组合物及其制造方法以及研磨方法
(1006210-0139-0132) 液压钢珠研磨机
(1006210-0033-0133) 一种防止研磨液稀释的化学机械研磨系统及其机台
(1006210-0015-0134) 在液体静电显影剂制备中作为研磨剂的含酸Ａ－Ｂ嵌段共聚物
(1006210-0051-0135) 带有用于降低浆液消耗的凹槽排列的研磨垫
(1006210-0113-0136) 硬盘基板用研磨液组合物
(1006210-0099-0137) 液状组合物、其制造方法、低介电常数膜、研磨料及电子部件
(1006210-0112-0138) 玻璃基板用研磨液组合物
(1006210-0024-0139) 一种在人体皮肤组织上进行液体微研磨的装置
(1006210-0098-0140) 用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液
(1006210-0085-0141) 研磨液组合物
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(技术说明) 一种制造半导体器件的方法，其绝缘膜的抛光率有所改进，且能产生较少的缺陷。在这种制造方法中，将杂质引进第一绝缘膜，然后通过抛光第一绝缘膜表面而进行平面化。因此，在引进了杂质的第一绝缘膜的部分其抛光率改进了，而且在其中也不易产生缺陷。
(1006210-0041-0002) 轴承钢球的小液量研磨设备
(技术说明) 本实用新型公开了一种轴承钢球的小液量研磨设备，包括研磨机床、大液箱、小液箱、循环泵以及输液系统，所述研磨机床上的研磨液回流出口与大液箱之间还连接有小液箱，小液箱与大液箱之间设有转换阀；用它来实施小液量循环研磨液研磨法，以高效率地生产出高质量的轴承钢球。
(1006210-0046-0003) 一种新型的拆换式研磨机研磨液入口组件
(技术说明) 本实用新型公开了一种新型的拆换式研磨机研磨液入口组件，它包括研磨机后壁板，在研磨机后壁板的研磨液流径孔处设有拆卸式耐磨入口零件，耐磨入口零件通过锁母螺纹连接锁定在研磨机后壁板的开孔上。这种拆换式研磨机研磨液入口组件，极大的简化了维修过程，节省人工费用，也节省时间。原来每次拆卸研磨盘时，基本上都需要将全部的聚氨酯材质的盘完全用切割机破坏，才可以在拆卸完全部研磨盘后拆换研磨机的后壁板，现在只需要将锁母拆下，在不需要拆去全部研磨盘的情况下，就可以将耐磨入口零件进行拆卸更换。
(1006210-0048-0004) 磁盘用研磨液组合物
(技术说明) 本发明涉及含有氧化铝、水、过氧化物及有机酸的磁盘用研磨液组合物，包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的被研磨基板的研磨方法，及包括使用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法。研磨液组合物可以适用于制造高质量的硬盘等的磁盘基板。
(1006210-0081-0005) 液晶面板表面的研磨装置及研磨方法
(技术说明) 一种液晶面板表面的研磨装置，包括：装载被研磨液晶面板的旋转台；用于研磨液晶面板的磨石；磨石支撑构件，该磨石支撑构件支撑上述磨石，并将磨石一边旋转，一边下降到上述被研磨液晶面板的表面；驱动上述磨石旋转的磨石旋转驱动电动机；检测上述磨石对液晶面板表面的研磨压的研磨压检测器；控制器，该控制器包含显示研磨压检测器检测的研磨压数据的研磨压数据显示部、寄存所述研磨压数据的多个存储器和从上述多个存储器中选择读取最适研磨压数据的存储器选择电路；根据上述存储器选择电路选择的最适研磨压数据，驱动调整所述磨石在液晶面板表面上研磨压的研磨压调整电动机。
(1006210-0101-0006) 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法
(技术说明) 液晶显示设备用研磨机轮和用其制造液晶显示设备的方法。提供了一种用于液晶显示设备的研磨机轮以及制造液晶显示设备的方法。在用于研磨基板的研磨机轮中形成两个研磨表面来对基板进行研磨，以提高研磨特性、增加研磨机轮的寿命、并且缩短研磨时间。该方法包括：将相互接合的基板切割成多个单位液晶显示板；在研磨操作台上加载单位液晶显示板；使用研磨机轮对液晶显示板的预定区域进行研磨，该研磨机轮包括用于主研磨的第一研磨表面和用于次研磨的第二研磨表面的两个研磨表面；以及卸载经过研磨的液晶显示板。
(1006210-0106-0007) 研磨液组合物
(技术说明) 本发明提供一种研磨液组合物，以及使用该研磨液组合物的基板的研磨方法。所述研磨液组合物含有二氧化硅、酸、表面活性剂和水，其中(a)25℃时酸在水中的溶解度大于等于1g/100g饱和水溶液，(b)表面活性剂为以通式(1)或(2)所示的磺酸或其盐，且(c)研磨液组合物的pH值为特定范围。该研磨液组合物例如适合用于磁盘、光盘、光磁盘等盘状记录介质用的基板的研磨。
(1006210-0013-0008) 研磨体浸泡在处理手指溶液中的可盖紧的容器
(技术说明) 处理手指的容器有一双层密封，它们与容器内壁可以是压配合和／或非压配合联结，内密封的顶面紧贴一凸肩，并固定其下面的海绵体。海绵体可吸附杯体内盛放的用来处理手指的液体。孔有一可替换的衬里，在密封上开有插入手指的可张紧的窄缝，所以没有液体流出或蒸发。海绵体的顶面被密封盖住，该密封在周边上用弹簧圈固定住，弹簧圈紧贴一模板上或位于杯体内壁的槽内，从而被固定住。
(1006210-0094-0009) 金属研磨液材料、金属研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
(技术说明) 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
(1006210-0137-0010) 氧化硅用研磨剂、添加液以及研磨方法
(技术说明) 本发明的研磨剂是用以研磨多晶硅上的氧化硅膜的研磨剂，含有研磨粒、多晶硅研磨抑制剂及水。作为所述研磨抑制剂，优选使用：(1)以由丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺及其α-取代衍生物所组成的组中的任一种N-单取代衍生物或N，N-二取代衍生物作为骨架的水溶性高分子、(2)聚*、(3)炔系二醇的氧化乙烯加成物、(4)具有炔键的水溶性有机化合物、(5)烷氧基化直链脂肪醇的任一种，或者(6)聚乙烯吡咯烷酮或含有乙烯吡咯烷酮的共聚物。本发明是提供一种氧化硅用研磨剂以及使用该氧化硅用研磨剂的研磨方法，该研磨剂于半导体制造方法中可高速研磨多晶硅膜上的氧化硅膜，并且在多晶硅膜露出时可抑制对多晶硅膜的研磨。
(1006210-0039-0011) 彩色滤光片研磨液组合物
(1006210-0035-0012) 彩色滤光片研磨液组合物
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