101805741.1 单晶硅晶片及单晶硅的制造方法
202106772.4 快速热退火、由其制造的硅晶片以及直拉法拉晶设备
301810808.3 消除自动掺杂和背面晕圈的外延硅晶片
403104264.3 热处理硅晶片的方法及用该方法制造的硅晶片
502802101.0 直径300mm及300mm以上的单晶硅晶片及其制造方法
698103730.5 晶片处理装置、晶片处理方法和绝缘体上硅晶片制造方法
799126769.9 用浅沟隔离工艺在绝缘体上硅晶片上集成衬底接触的方法
898809399.5 氧沉积成核中心的分布受控的硅晶片的制备方法
998803695.9 理想的氧沉淀硅晶片及氧外扩散较小的工艺
1098804760.8 硅晶片的腐蚀方法
1198812108.5 硅晶片研磨之后的清洗工艺
1298811936.6 利用不溶阳极进行硅晶片的铜金属化
1399810607.0 无氧淀析的切氏硅晶片
1499810597.X 制备理想析氧硅晶片的工艺
1599814199.2 一种具有内部吸杂的外延硅晶片及其制备方法
1600804681.6 测量硅晶片的波度的方法与系统
1700806719.8 埋置绝缘层上硅晶片顶层中制作有半导体元件的半导体器件的制造方法
1800806788.0 硅晶片处理装置
1999808750.5 测绘在硅晶片表面上金属杂质浓度的工艺方法
2000808977.9 有本征吸气的外延硅晶片的制造方法
2100810546.4 抛光混合物和减少硅晶片中的铜混入的方法
2201801087.3 硅晶片的加强材料和利用这种材料制造集成电路芯片的方法
2301101708.2 制作在硅晶片上的薄膜无源元件的包装方法
2401123301.X 具有受控缺陷分布的硅晶片、其制法及丘克拉斯基提拉机
2598248899.8 消除硅晶片加工后表面残留应力的热处理装置
2601821308.1 硅晶片应用的助焊和填缝材料，和用其制造的层状电子组件
2702804192.5 硅晶片的制造方法及硅晶片以及SOI晶片
2803136894.8 低温下使硅晶片氧化的方法及其使用的设备
29200410048116.9 光学平台及其制造方法、光学组件、硅晶片基板及晶片
30200410005410.1 硅晶片及其制造方法
3103801601.X 旋转式硅晶片清洗装置
3203808958.0 单晶硅的制造方法及单晶硅以及硅晶片
33200410103734.9 用于蚀刻硅晶片的高纯度碱蚀刻溶液及硅晶片的碱蚀刻方法
3403810538.1 单晶硅晶片及外延片以及单晶硅的制造方法
3503816590.2 外延生长用硅晶片及外延晶片及其制造方法
36200410096681.2 硅晶片以及用于制造硅晶片的方法
37200380102309.1 硅晶片的制造方法
3803825534.0 用于硅晶片二次抛光的淤浆组合物
39200510108610.4 硅晶片激光加工方法和激光束加工装置
40200480011173.8 硅晶片及其制造方法、以及硅单晶生长方法
41200480014676.0 加工硅晶片的方法
42200510120429.5 快速热退火以及由其制造的硅晶片
43200480018582.0 硅晶片的制造方法
44200480018575.0 加工硅晶片的方法
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