涂层、陶瓷涂层、合金涂层、物涂层生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2021/4/27
0093-0001、 锌覆盖剂
摘要、 本发明公开一种用于锌及锌合金熔体处理的表面覆盖剂，其原料的重量百分比组成是：MgCl,2,·KCl85-95％，K,2,AlF,6,5-15％，它可在一定温度范围内，在锌水表面形成致密膜而隔绝锌水与大气、炉气的接触，从而防止其在工艺过程中氧化、吸气。将其应用到锌及锌合金相关生产工艺中，可显著提高产品的使用性能指标，且本发明的覆盖剂造价低廉、使用简便、效果良好。
0212-0002、 成膜装置及成膜方法
摘要、 提供一种超微粒子膜制造装置及使用超微粒子的膜形成方法，使用电弧加热来形成超微粒子，无论是否施加电弧电压都可以将生成的超微粒子高效率地吸入到运送管中，获得稳定的膜。通过电弧加热进行蒸发，将构成超微粒子的蒸发材料(8)连接设置在一个电极上，同时作为另一个电极在前端区域设置多个带有放电部的棒(17)，配置各棒(17)，使得对蒸发材料(8)的方向分别朝向不同的方向。
0129-0003、 一种超薄镀层热镀锌产品生产方法及装置
一种超薄镀层热镀锌产品生产方法，以气体喷吹控制镀层厚度，在喷吹之前，在压缩机与气刀喷嘴之间通过加热装置对气体加热。加热装置包括加热器23和温度传感器24；加热器23置于输气管道外或输气管道内，温度传感器24置于输气管道内。本发明克服了现有气刀法的缺陷，易于实现镀层厚度的减薄，确保镀层厚度均匀，并能实现正常镀层与超薄镀层的快速切换。
0186-0004、 高真空磁过滤弧源
摘要、 高真空磁过滤弧源属于等离子体和材料表面技术领域，包括弧源屏蔽1、阴极靶2、引弧磁体3、触发机构4、水冷阳极7、主弧电源11、辅助阳极电源5、辅助阳极10、磁场线圈6、离化阳极8和离化电源9，真空度为10，-1,，a～10，-3,，a量级，启动触发机构4产生金属弧斑，启动辅助阳极10及电源5产生预备弧等离子体，启动主弧电源11产生稳定的等离子体，在磁场线圈6产生的磁过滤磁场的引导下经过离化电源9施加的电场的作用，二次离化和过滤金属液滴。阴极靶2由阴极、阳极与触发极组成阳极外绕有磁场线圈6。本发明的有益效果是液滴滤除90％，真空度达到10，-3,，a量级，适合于镀膜、离子注入等设备广泛用于电子、工具、建筑玻璃和装饰的高级镀膜领域。
0014-0005、 用共溅射法沉积赫斯勒合金薄膜的方法
摘要、 本发明公开了一种用共溅射法沉积赫斯勒合金薄膜的方法。通过利用一沉积装置的共溅射，该赫斯勒合金薄膜具有通常的结构式X2YZ或XYZ，该沉积装置具有放置在反应室中一基板台上的基板、以及放置在远离该基板的靶架上的靶。赫斯勒合金薄膜的各组元以单靶和双合金靶中的一种的形式放置在该靶架上。因此，易于制造具有优异磁性能的赫斯勒合金薄膜。
0101-0006、 陶瓷复合钢管的制造工艺
摘要、 本发明涉及一种钢的表面涂层新技术领域特别涉及的是陶瓷复合钢管的制造工艺。本发明解决了已有陶瓷复合钢管原料成本高陶瓷层与铁层存在间隙的缺陷。本发明的技术方案是：陶瓷复合钢管的制造工艺，原料包括Al、SiO,2，制造方法包括烘料、配料、混料、装料和点火烧结，其特征是Al+纯钛铁矿(FeTiO,3,)物料中同时加入添加剂SiO,2，烘干混匀后的物料填入钢管，无须预热，点燃后在离心力的作用下进行反应烧结，钢管内壁形成致密陶瓷镀层。本产品可广泛用于冶金、矿山、电力、煤炭等行业的粉料、泥浆、尾矿输送。
0157-0007、 H+离子刻蚀金刚石核制备(001)高取向金刚石薄膜...
摘要、 本发明涉及一种采用H，+,，离子刻蚀技术生长具有高品质特性的、(001)高取向的金刚石薄膜制备方法。该方法采用微波等离子体化学气相沉积或热灯丝辅助的化学气相沉积设备和工艺进行，首先在单晶硅衬底上施加负直流偏压，以*和氢气为原料气体，由偏压成核、偏压刻蚀和织构生长金刚石薄膜三个步骤进行，在单晶硅衬底上生长出(001)高取向的金刚石薄膜。本发明制备的金刚石薄膜厚度小于2微米，具有低晶界密度和杂质浓度、表面光滑、(001)高取向、低应力和高附着力等优点，在力学、光学、电学和热学等领域有广泛的应用。
0104-0008、 铝材的着色覆膜形成方法
摘要、 本发明提供一种无公害的、耐久性、外观性良好的铝材覆膜形成方法，其依次包括以下工序：(A)使由铝或铝合金构成的铝材与含有或不含氨或胺类的热水或水蒸气接触的勃姆石处理工序(B,1,)浸渍到含有水溶性或水分散性的含氧酸盐类的至少一种的第一水溶液或第一水分散液中进行第一无机电镀处理的工序(C,1,)通过以铝材作为阴极进行恒定电流直流电解或交流电解，析出金属或金属氧化物进行着色的电解着色处理工序，或者(C,2,)利用染料对铝材着色的着色处理工序，以及(D)进而涂敷涂料以形成覆膜的面漆涂覆工序。
0046-0009、 离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺
摘要、 本发明离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴，其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中，加入一个中低能束离子源，利用真空电弧原理从金属阴极电弧源发射出的金属离子流，快速沉积于利用辉光加热的工件表面，然后由中低能离子束注入碳或氮，使其沉积层与工件基体形成扩散层和镀层，把多弧离子镀沉积速度快和离子束注入反冲形成伪扩散层有机结合起来，在较低温度的工件表面快速形成金属碳、氮化合物硬层涂层。
0160-0010、 一种花卉的无氰仿金电镀方法
摘要、 本发明涉及到一种无氰电镀仿金的技术领域，具体的讲，涉及到一种在花卉表面进行无氰电镀仿金的方法，同时也适用于树叶或甲虫进行无氰电镀仿金。一种花卉的无氰仿金电镀方法，其特征是它按如下程序进行：清洗处理→粗化处理→敏化处理→活化处理→还原处理→化学镀铜→光亮镀铜→电镀仿金→钝化处理→涂保护膜。所述的无氰仿金电镀液按下列配方比配制：*(CuSO,4,·5H,2,O)45g/L、硫酸锌(ZnSO,4,·2H,2,O)15g/L、氯化亚锡(SnC,12,·2H,2,O)5g/L、焦磷酸钾(K,4,P,2,O,7,)320g/L、酒石酸钾钠(KNaC,4,H,4,O,6,)35g/L、*钾(K,3,C,6,H,5,O,7,)20g/L、氨三乙酸25g/L。该方法符合环保要求且成本极低，可实现大规模生产。
0151-0011、 表面处理装置
0145-0012、 一种聚酯基导电网布的制备方法
0047-0013、 双辉放电无氢渗碳共渗装置及工艺
0187-0014、 镀膜装置及镀膜方法
0041-0015、 镀覆组合物
0200-0016、 潜艇的表面防腐工艺方案
0001-0017、 利用等离子体连续聚合系统的喷镀装置
0108-0018、 提高TiAl合金抗高温氧化的铬改性铝化物涂层的制备
0003-0019、 金属体的表面处理方法以及金属物品
0051-0020、 一种低温氧化清洁生产工艺
0024-0021、 薄膜沉积装置
0099-0022、 电子部件的制造方法及该电子部件，无电敷镀方法
0086-0023、 一种具有优良抗热冲击性能的绝缘金属基板的制备方法
0181-0024、 多阶段离子化金属电浆制程
0058-0025、 通过使用三(二甲基氨基)硅烷的原子层沉积形成含硅薄膜的方法
0159-0026、 陶瓷内衬复合铜管制造方法
0126-0027、 一种铝及铝合金化学镀镍镀前浸镍液
0111-0028、 形成含铝物理气相沉积靶的方法;溅射薄膜;和靶的构成
0161-0029、 双面溅射的平面磁控溅射阴极
0013-0030、 用于生产有机发光装置的热物理蒸汽沉积源
0074-0031、 真空蒸镀聚合装置及采用该装置的有机被膜的形成方法
0166-0032、 阻止在金属沉积薄膜上产生凸起的方法
0113-0033、 制备三维选择性金属化部件的方法和三维选择性金属化部件
0150-0034、 溅射靶及其制造方法
0033-0035、 用负载于沸石的铁和锰基催化剂纯化有机金属化合物或杂原子有机化合物的方法
0012-0036、 钢铁零件表面氧化方法
0135-0037、 碳纤维编织物表面涂敷SIC保护层的方法
0142-0038、 电子薄膜材料生长的加热器
0062-0039、 一种计算机及电器设备铝合金壳体的表面处理方法
0146-0040、 内燃机气缸工作表面的表面层以及施加该表面层的方法
0171-0041、 一种固体电解质晶体材料及其晶体薄膜制备方法
0203-0042、 一种器件级纳米硅薄膜及其制备工艺
0158-0043、 潜艇的表面防腐工艺方法
0071-0044、 炉内加热固态扩散镁或镁合金制品表面合金化方法
0109-0045、 用于有机电致发光镀膜机的坩锅式蒸发源
0112-0046、 加工配套元件部件及其使用方法
0102-0047、 具有梯度组成的耐磨氮化铬镀层
0125-0048、 溅镀—薄膜于—塑料制品上的方法及其塑料制品
0007-0049、 轴承部件、轴承部件的热处理方法以及滚动轴承
0035-0050、 一种保护电极基体耐高温熔体侵蚀的陶瓷涂层及其制备方法
0065-0051、 气氛热处理助剂及其用法
0194-0052、 纳米膜抗污光干涉彩色不锈钢的制作方法
0029-0053、 镍磷合金镀液及其镀覆方法
0026-0054、 用于优先化学气相沉积的方法和系统
0091-0055、 一种马氏体不锈钢化学钝化工艺
0110-0056、 一种含碳金属合金基体表面碳化物涂层的制备方法
0122-0057、 采用定形粒状运动的自动控制系统
0083-0058、 模块化的喷射器和排放装置
0192-0059、 用于黑色金属制件表面的除锈磷化剂
0037-0060、 一种粉末包埋渗铝剂以及包埋渗铝方法
0006-0061、 金属镀覆方法、预处理剂以及使用它们制得的半导体晶片和半导体器件
0162-0062、 一种钛合金化学镀厚镍的方法
0079-0063、 一种镀渗复合多元共渗高合金镍基耐蚀合金的方法
0088-0064、 薄膜形成方法、具有薄膜的物品、光学膜、介电体覆盖电极及等离子体放电处理装...
0179-0065、 在扫描探针显微镜悬臂及其针尖上沉积薄膜的方法
0076-0066、 金属镀液
0096-0067、 气相沉积镀膜与真空热处理在线结合的复合镀膜设备
0156-0068、 渗镀二硅化钼梯度材料制造技术
0141-0069、 真空等离子束表面熔覆耐磨蚀涂层的方法
0066-0070、 真空井式无罐离子渗碳多用炉
0128-0071、 镀锌层扩散退火处理的金属薄板和其制备方法
0016-0072、 透明导电膜、其形成方法与具有该透明导电膜的物品
0018-0073、 铜-树脂复合材料的生产方法
0132-0074、 一种陶瓷制品的多弧离子镀膜方法
0172-0075、 绒面氧化锌透明导电薄膜及其制备方法
0215-0076、 钢铁表面敏化发黑剂及使用该发黑剂的发黑工艺方法
0118-0077、 高温不锈钢涂覆系统
0201-0078、 潜艇的表面防腐工艺方案
0114-0079、 用于用来对衬底进行涂覆的装置的小船式汽化器
0107-0080、 一种金属表面热处理方法
0189-0081、 钛合金表面抗氧化的铝-铜-铁-铬准晶涂层的制备
0072-0082、 铬钼合金钢离子渗镍抗硫工艺
0190-0083、 动态薄膜厚度监控系统及方法
0019-0084、 合金化热镀锌钢板及其制造方法
0208-0085、 一种激光熔覆金属间化合物/陶瓷复合涂层及制备方法
0063-0086、 镀锌钢板和它的制造方法,以及冲压成形制品的制造方法
0213-0087、 铟锡氧化物靶材的制备方法
0087-0088、 热浸镀高Al的Zn-Al-Mg合金的钢板
0025-0089、 真空电弧蒸镀方法及装置
0064-0090、 具有有机涂层的钢板和其制造方法
0090-0091、 溶液镁源的制备方法
0075-0092、 用于化学沉积槽电解质的电渗析再生系统
0131-0093、 一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法
0198-0094、 表面层贫钴的梯度硬质合金上进行金刚石涂层的方法
0040-0095、 用于无电电镀溶液的稳定剂及该稳定剂的使用方法
0069-0096、 活塞环表面复合镀工艺
0078-0097、 用于超硬材料表面金属化处理的生产工艺
0123-0098、 在聚合物基底上沉积IO或ITO薄膜的方法
0002-0099、 利用等离子体的耐腐蚀亲水性多层膜形成的方法
0197-0100、 CVD用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
0103-0101、 阻止取代的环四硅氧烷聚合的稳定剂
0116-0102、 装饰品的表面处理方法、装饰品和钟表
0030-0103、 非水体系储氢合金粉的化学镀铜工艺
0053-0104、 钝化法热浸镀铝及铝合金工艺
0143-0105、 高光电导增益氮化碳薄膜制备方法
0175-0106、 陶瓷内衬复合铜管制造方法
0134-0107、 一种高速生长硅基薄膜的低成本技术
0039-0108、 化学镀镍前铝合金的活化溶液
0021-0109、 超声起雾效应制备薄膜的大面积沉积设备
0023-0110、 用于金属工件热处理炉的电加热方法
0017-0111、 具有化学泳涂作用的快速无水磷化液
0043-0112、 镁和/或镁合金制部件的制造方法
0195-0113、 彩色涂层不锈钢的制作方法
0004-0114、 热轧钢带热镀锌的方法及设备
0038-0115、 采用含钛有机金属材料的化学汽相淀积含硅氮化钛的工艺
0106-0116、 铜或铜合金基体上镍基自熔合金涂层的制备方法
0211-0117、 一种能阻碍元素双向扩散的富铼高熔点合金层的制备方法
0209-0118、 一种高强度高韧性的差速器十字轴的加工工艺
0060-0119、 薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法
0022-0120、 复合热处理方法
0036-0121、 一种具有扩散障的渗铝金属构件及渗铝方法
0210-0122、 真空蒸镀用掩模和用该掩模制造的有机电致发光显示面板
0105-0123、 铜或铜合金基体上镍基自熔合金涂层的制备方法
0008-0124、 有机材料蒸发源
0144-0125、 一种陶瓷涂层的制备方法
0137-0126、 包括钛和锆的物理汽相淀积靶件和使用方法
0055-0127、 精密叶片热锻模具PCVD等离子体渗镀复合强化方法
0216-0128、 气相沉积
0092-0129、 氧化镁粒子聚集物
0052-0130、 三价铬彩虹色钝化液
0077-0131、 高性能的化学镀镍-磷合金溶液的配制方法
0139-0132、 用金属涂覆超级磨料的方法
0174-0133、 双马来酰亚胺树脂-玻璃纤维复合材料的金属化方法
0100-0134、 陶瓷内衬钢管的制造方法
0098-0135、 电子部件的制造方法及该电子部件
0049-0136、 真空室内在线更换基片的装置
0050-0137、 镀覆方法
0168-0138、 滑动性出色的热浸镀锌合金钢板
0191-0139、 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法
0032-0140、 用氢化的吸气剂合金纯化有机金属化合物或杂原子有机化合物的方法
0155-0141、 通用小汽油机的摇臂热处理工艺
0011-0142、 阻止燃气轮机叶片表面腐蚀的涂层配方与工艺
0153-0143、 一种熔剂法热浸镀低铝锌合金用水熔剂及其使用方法
0031-0144、 涂覆硬质被膜工具
0119-0145、 真空等离子渗硫方法
0165-0146、 制备超薄保护涂层的方法
0117-0147、 涂层硬质合金体及其使用方法
0094-0148、 大功率柴油发动机曲轴轴颈的修复方法
0070-0149、 高温气体渗氮淬火时效或等温淬火工艺
0154-0150、 一种硼碳氮三元共渗方法
0147-0151、 合金铸铁活塞环离子氮化处理技术
0009-0152、 CVD装置
0173-0153、 采用多量子阱制备绿光氮化镓基LED外延片
0202-0154、 潜艇的表面防腐工艺方案
0010-0155、 镀膜装置
0206-0156、 一种耐腐蚀涂层钢轨生产工艺
0054-0157、 钢铁热浸镀铝锌合金工艺
0127-0158、 无电解镀金液
0133-0159、 一种表面处理源
0204-0160、 通过化学气相淀积产生的增强氧化铝层
0205-0161、 就地确定膜层厚度的方法
0044-0162、 铜底基的选择性沉积方法
0148-0163、 发光器件制作系统和制作方法
0061-0164、 制造压电元件的方法
0180-0165、 碳纤维表面涂复碳化硅的工艺和装置
0034-0166、 一种镁合金制品表面改性方法
0170-0167、 涂有碳化物的钢质制品及其制造方法
0184-0168、 制备耐高温磨损涂层的方法
0059-0169、 蒸发源的制造方法
0085-0170、 感应加热镁合金表面合金化改性方法
0048-0171、 一种常温下制备化合物薄膜的方法
0178-0172、 透明导电薄膜用靶、透明导电薄膜及其制造方法、显示器用电极材料、有机电致发...
0164-0173、 一种用于不锈钢机件表面强化处理方法
0167-0174、 用于形成氧化钛膜的涂布剂、氧化钛膜的形成方法及该涂布剂的用途
0149-0175、 具有自动识别功能的有机发光镀膜机基片小挡板
0177-0176、 渗碳用气氛气发生装置和方法
0097-0177、 镀敷方法
0081-0178、 无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极
0120-0179、 一种用于镁及其合金防蚀耐磨镀层的制备方法
0020-0180、 改进低温表面硬化的方法
0136-0181、 钨金属化学气相沉积法中原子层沉积的方法
0073-0182、 物理气相沉积制备大面积氧化锌纳米线膜层的方法
0140-0183、 表面合金化的高温合金
0169-0184、 表面改性的不锈钢
0182-0185、 制备结晶氮化碳薄膜的方法及装置
0124-0186、 耐蚀、耐磨装饰涂层
0015-0187、 一种用于半导体激光器腔面蒸镀的非接触固定方式的夹具
0138-0188、 沉积金属和金属氧化物膜以及图案薄膜的方法
0056-0189、 一种制备氧化钒薄膜的方法
0199-0190、 潜艇的表面防腐工艺方法一
0188-0191、 吹管式内吹机
0121-0192、 绿色环保型常温磷化液的制备方法
0214-0193、 环保型金属表面合金处理液
0183-0194、 镀膜装置中的遮板
0115-0195、 金属层形成方法及金属箔基叠层产品
0193-0196、 透明涂层光干涉彩色不锈钢的制作方法
0027-0197、 一种镍磷合金化学镀层的化学镀液的制备方法及其制品
0163-0198、 基于表面纳米构筑的金属表面防腐蚀方法
0152-0199、 具有耐腐蚀性和耐磨性的涂层材料
0082-0200、 高电阻透明导电膜用溅射靶及高电阻透明导电膜的制造方法
0045-0201、 双辉放电渗镀金属碳氮化合物的装置及工艺
0176-0202、 对粘合在金属上的结构粘合剂做防腐蚀性表面处理
0042-0203、 防止含铅铜合金内铅溶出的表面处理方法
0080-0204、 复合元件及其制备方法
0130-0205、 一种油田采油或注液体介质用抗腐蚀油管或套管及其抗腐蚀处理方法
0067-0206、 一种制备硼靶的方法
0095-0207、 钢铁制品锌铝包埋共渗方法及其渗剂
0068-0208、 钢表面摩擦涂覆合金涂层
0084-0209、 等离子体辅助化学气相沉积装置脉冲电源的驱动电路
0207-0210、 锡镀层表面抗氧化剂及其使用工艺
0185-0211、 多离子束共溅射淀积纳米膜装置
0089-0212、 极小热滞形状记忆合金薄膜的制备方法
0057-0213、 复合机械镀铝锌工艺
0028-0214、 铝基机箱化学镀镍溶液
0005-0215、 抗反射涂层之氢化
0196-0216、 锌铝真空蒸发镀膜机
0217-0217、 溅射靶材
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摘要、 本发明公开一种用于锌及锌合金熔体处理的表面覆盖剂，其原料的重量百分比组成是：MgCl,2,·KCl85-95％，K,2,AlF,6,5-15％，它可在一定温度范围内，在锌水表面形成致密膜而隔绝锌水与大气、炉气的接触，从而防止其在工艺过程中氧化、吸气。将其应用到锌及锌合金相关生产工艺中，可显著提高产品的使用性能指标，且本发明的覆盖剂造价低廉、使用简便、效果良好。
0212-0002、 成膜装置及成膜方法
摘要、 提供一种超微粒子膜制造装置及使用超微粒子的膜形成方法，使用电弧加热来形成超微粒子，无论是否施加电弧电压都可以将生成的超微粒子高效率地吸入到运送管中，获得稳定的膜。通过电弧加热进行蒸发，将构成超微粒子的蒸发材料(8)连接设置在一个电极上，同时作为另一个电极在前端区域设置多个带有放电部的棒(17)，配置各棒(17)，使得对蒸发材料(8)的方向分别朝向不同的方向。
0129-0003、 一种超薄镀层热镀锌产品生产方法及装置
一种超薄镀层热镀锌产品生产方法，以气体喷吹控制镀层厚度，在喷吹之前，在压缩机与气刀喷嘴之间通过加热装置对气体加热。加热装置包括加热器23和温度传感器24；加热器23置于输气管道外或输气管道内，温度传感器24置于输气管道内。本发明克服了现有气刀法的缺陷，易于实现镀层厚度的减薄，确保镀层厚度均匀，并能实现正常镀层与超薄镀层的快速切换。
0186-0004、 高真空磁过滤弧源
摘要、 高真空磁过滤弧源属于等离子体和材料表面技术领域，包括弧源屏蔽1、阴极靶2、引弧磁体3、触发机构4、水冷阳极7、主弧电源11、辅助阳极电源5、辅助阳极10、磁场线圈6、离化阳极8和离化电源9，真空度为10，-1,，a～10，-3,，a量级，启动触发机构4产生金属弧斑，启动辅助阳极10及电源5产生预备弧等离子体，启动主弧电源11产生稳定的等离子体，在磁场线圈6产生的磁过滤磁场的引导下经过离化电源9施加的电场的作用，二次离化和过滤金属液滴。阴极靶2由阴极、阳极与触发极组成阳极外绕有磁场线圈6。本发明的有益效果是液滴滤除90％，真空度达到10，-3,，a量级，适合于镀膜、离子注入等设备广泛用于电子、工具、建筑玻璃和装饰的高级镀膜领域。
0014-0005、 用共溅射法沉积赫斯勒合金薄膜的方法
摘要、 本发明公开了一种用共溅射法沉积赫斯勒合金薄膜的方法。通过利用一沉积装置的共溅射，该赫斯勒合金薄膜具有通常的结构式X2YZ或XYZ，该沉积装置具有放置在反应室中一基板台上的基板、以及放置在远离该基板的靶架上的靶。赫斯勒合金薄膜的各组元以单靶和双合金靶中的一种的形式放置在该靶架上。因此，易于制造具有优异磁性能的赫斯勒合金薄膜。
0101-0006、 陶瓷复合钢管的制造工艺
摘要、 本发明涉及一种钢的表面涂层新技术领域特别涉及的是陶瓷复合钢管的制造工艺。本发明解决了已有陶瓷复合钢管原料成本高陶瓷层与铁层存在间隙的缺陷。本发明的技术方案是：陶瓷复合钢管的制造工艺，原料包括Al、SiO,2，制造方法包括烘料、配料、混料、装料和点火烧结，其特征是Al+纯钛铁矿(FeTiO,3,)物料中同时加入添加剂SiO,2，烘干混匀后的物料填入钢管，无须预热，点燃后在离心力的作用下进行反应烧结，钢管内壁形成致密陶瓷镀层。本产品可广泛用于冶金、矿山、电力、煤炭等行业的粉料、泥浆、尾矿输送。
0157-0007、 H+离子刻蚀金刚石核制备(001)高取向金刚石薄膜...
摘要、 本发明涉及一种采用H，+,，离子刻蚀技术生长具有高品质特性的、(001)高取向的金刚石薄膜制备方法。该方法采用微波等离子体化学气相沉积或热灯丝辅助的化学气相沉积设备和工艺进行，首先在单晶硅衬底上施加负直流偏压，以*和氢气为原料气体，由偏压成核、偏压刻蚀和织构生长金刚石薄膜三个步骤进行，在单晶硅衬底上生长出(001)高取向的金刚石薄膜。本发明制备的金刚石薄膜厚度小于2微米，具有低晶界密度和杂质浓度、表面光滑、(001)高取向、低应力和高附着力等优点，在力学、光学、电学和热学等领域有广泛的应用。
0104-0008、 铝材的着色覆膜形成方法
摘要、 本发明提供一种无公害的、耐久性、外观性良好的铝材覆膜形成方法，其依次包括以下工序：(A)使由铝或铝合金构成的铝材与含有或不含氨或胺类的热水或水蒸气接触的勃姆石处理工序(B,1,)浸渍到含有水溶性或水分散性的含氧酸盐类的至少一种的第一水溶液或第一水分散液中进行第一无机电镀处理的工序(C,1,)通过以铝材作为阴极进行恒定电流直流电解或交流电解，析出金属或金属氧化物进行着色的电解着色处理工序，或者(C,2,)利用染料对铝材着色的着色处理工序，以及(D)进而涂敷涂料以形成覆膜的面漆涂覆工序。
0046-0009、 离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺
摘要、 本发明离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴，其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中，加入一个中低能束离子源，利用真空电弧原理从金属阴极电弧源发射出的金属离子流，快速沉积于利用辉光加热的工件表面，然后由中低能离子束注入碳或氮，使其沉积层与工件基体形成扩散层和镀层，把多弧离子镀沉积速度快和离子束注入反冲形成伪扩散层有机结合起来，在较低温度的工件表面快速形成金属碳、氮化合物硬层涂层。
0160-0010、 一种花卉的无氰仿金电镀方法
摘要、 本发明涉及到一种无氰电镀仿金的技术领域，具体的讲，涉及到一种在花卉表面进行无氰电镀仿金的方法，同时也适用于树叶或甲虫进行无氰电镀仿金。一种花卉的无氰仿金电镀方法，其特征是它按如下程序进行：清洗处理→粗化处理→敏化处理→活化处理→还原处理→化学镀铜→光亮镀铜→电镀仿金→钝化处理→涂保护膜。所述的无氰仿金电镀液按下列配方比配制：*(CuSO,4,·5H,2,O)45g/L、硫酸锌(ZnSO,4,·2H,2,O)15g/L、氯化亚锡(SnC,12,·2H,2,O)5g/L、焦磷酸钾(K,4,P,2,O,7,)320g/L、酒石酸钾钠(KNaC,4,H,4,O,6,)35g/L、*钾(K,3,C,6,H,5,O,7,)20g/L、氨三乙酸25g/L。该方法符合环保要求且成本极低，可实现大规模生产。
0151-0011、 表面处理装置
0145-0012、 一种聚酯基导电网布的制备方法
0047-0013、 双辉放电无氢渗碳共渗装置及工艺
0187-0014、 镀膜装置及镀膜方法
0041-0015、 镀覆组合物
0200-0016、 潜艇的表面防腐工艺方案
0001-0017、 利用等离子体连续聚合系统的喷镀装置
0108-0018、 提高TiAl合金抗高温氧化的铬改性铝化物涂层的制备
0003-0019、 金属体的表面处理方法以及金属物品
0051-0020、 一种低温氧化清洁生产工艺
0024-0021、 薄膜沉积装置
0099-0022、 电子部件的制造方法及该电子部件，无电敷镀方法
0086-0023、 一种具有优良抗热冲击性能的绝缘金属基板的制备方法
0181-0024、 多阶段离子化金属电浆制程
0058-0025、 通过使用三(二甲基氨基)硅烷的原子层沉积形成含硅薄膜的方法
0159-0026、 陶瓷内衬复合铜管制造方法
0126-0027、 一种铝及铝合金化学镀镍镀前浸镍液
0111-0028、 形成含铝物理气相沉积靶的方法;溅射薄膜;和靶的构成
0161-0029、 双面溅射的平面磁控溅射阴极
0013-0030、 用于生产有机发光装置的热物理蒸汽沉积源
0074-0031、 真空蒸镀聚合装置及采用该装置的有机被膜的形成方法
0166-0032、 阻止在金属沉积薄膜上产生凸起的方法
0113-0033、 制备三维选择性金属化部件的方法和三维选择性金属化部件
0150-0034、 溅射靶及其制造方法
0033-0035、 用负载于沸石的铁和锰基催化剂纯化有机金属化合物或杂原子有机化合物的方法
0012-0036、 钢铁零件表面氧化方法
0135-0037、 碳纤维编织物表面涂敷SIC保护层的方法
0142-0038、 电子薄膜材料生长的加热器
0062-0039、 一种计算机及电器设备铝合金壳体的表面处理方法
0146-0040、 内燃机气缸工作表面的表面层以及施加该表面层的方法
0171-0041、 一种固体电解质晶体材料及其晶体薄膜制备方法
0203-0042、 一种器件级纳米硅薄膜及其制备工艺
0158-0043、 潜艇的表面防腐工艺方法
0071-0044、 炉内加热固态扩散镁或镁合金制品表面合金化方法
0109-0045、 用于有机电致发光镀膜机的坩锅式蒸发源
0112-0046、 加工配套元件部件及其使用方法
0102-0047、 具有梯度组成的耐磨氮化铬镀层
0125-0048、 溅镀—薄膜于—塑料制品上的方法及其塑料制品
0007-0049、 轴承部件、轴承部件的热处理方法以及滚动轴承
0035-0050、 一种保护电极基体耐高温熔体侵蚀的陶瓷涂层及其制备方法
0065-0051、 气氛热处理助剂及其用法
0194-0052、 纳米膜抗污光干涉彩色不锈钢的制作方法
0029-0053、 镍磷合金镀液及其镀覆方法
0026-0054、 用于优先化学气相沉积的方法和系统
0091-0055、 一种马氏体不锈钢化学钝化工艺
0110-0056、 一种含碳金属合金基体表面碳化物涂层的制备方法
0122-0057、 采用定形粒状运动的自动控制系统
0083-0058、 模块化的喷射器和排放装置
0192-0059、 用于黑色金属制件表面的除锈磷化剂
0037-0060、 一种粉末包埋渗铝剂以及包埋渗铝方法
0006-0061、 金属镀覆方法、预处理剂以及使用它们制得的半导体晶片和半导体器件
0162-0062、 一种钛合金化学镀厚镍的方法
0079-0063、 一种镀渗复合多元共渗高合金镍基耐蚀合金的方法
0088-0064、 薄膜形成方法、具有薄膜的物品、光学膜、介电体覆盖电极及等离子体放电处理装...
0179-0065、 在扫描探针显微镜悬臂及其针尖上沉积薄膜的方法
0076-0066、 金属镀液
0096-0067、 气相沉积镀膜与真空热处理在线结合的复合镀膜设备
0156-0068、 渗镀二硅化钼梯度材料制造技术
0141-0069、 真空等离子束表面熔覆耐磨蚀涂层的方法
0066-0070、 真空井式无罐离子渗碳多用炉
0128-0071、 镀锌层扩散退火处理的金属薄板和其制备方法
0016-0072、 透明导电膜、其形成方法与具有该透明导电膜的物品
0018-0073、 铜-树脂复合材料的生产方法
0132-0074、 一种陶瓷制品的多弧离子镀膜方法
0172-0075、 绒面氧化锌透明导电薄膜及其制备方法
0215-0076、 钢铁表面敏化发黑剂及使用该发黑剂的发黑工艺方法
0118-0077、 高温不锈钢涂覆系统
0201-0078、 潜艇的表面防腐工艺方案
0114-0079、 用于用来对衬底进行涂覆的装置的小船式汽化器
0107-0080、 一种金属表面热处理方法
0189-0081、 钛合金表面抗氧化的铝-铜-铁-铬准晶涂层的制备
0072-0082、 铬钼合金钢离子渗镍抗硫工艺
0190-0083、 动态薄膜厚度监控系统及方法
0019-0084、 合金化热镀锌钢板及其制造方法
0208-0085、 一种激光熔覆金属间化合物/陶瓷复合涂层及制备方法
0063-0086、 镀锌钢板和它的制造方法,以及冲压成形制品的制造方法
0213-0087、 铟锡氧化物靶材的制备方法
0087-0088、 热浸镀高Al的Zn-Al-Mg合金的钢板
0025-0089、 真空电弧蒸镀方法及装置
0064-0090、 具有有机涂层的钢板和其制造方法
0090-0091、 溶液镁源的制备方法
0075-0092、 用于化学沉积槽电解质的电渗析再生系统
0131-0093、 一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法
0198-0094、 表面层贫钴的梯度硬质合金上进行金刚石涂层的方法
0040-0095、 用于无电电镀溶液的稳定剂及该稳定剂的使用方法
0069-0096、 活塞环表面复合镀工艺
0078-0097、 用于超硬材料表面金属化处理的生产工艺
0123-0098、 在聚合物基底上沉积IO或ITO薄膜的方法
0002-0099、 利用等离子体的耐腐蚀亲水性多层膜形成的方法
0197-0100、 CVD用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
0103-0101、 阻止取代的环四硅氧烷聚合的稳定剂
0116-0102、 装饰品的表面处理方法、装饰品和钟表
0030-0103、 非水体系储氢合金粉的化学镀铜工艺
0053-0104、 钝化法热浸镀铝及铝合金工艺
0143-0105、 高光电导增益氮化碳薄膜制备方法
0175-0106、 陶瓷内衬复合铜管制造方法
0134-0107、 一种高速生长硅基薄膜的低成本技术
0039-0108、 化学镀镍前铝合金的活化溶液
0021-0109、 超声起雾效应制备薄膜的大面积沉积设备
0023-0110、 用于金属工件热处理炉的电加热方法
0017-0111、 具有化学泳涂作用的快速无水磷化液
0043-0112、 镁和/或镁合金制部件的制造方法
0195-0113、 彩色涂层不锈钢的制作方法
0004-0114、 热轧钢带热镀锌的方法及设备
0038-0115、 采用含钛有机金属材料的化学汽相淀积含硅氮化钛的工艺
0106-0116、 铜或铜合金基体上镍基自熔合金涂层的制备方法
0211-0117、 一种能阻碍元素双向扩散的富铼高熔点合金层的制备方法
0209-0118、 一种高强度高韧性的差速器十字轴的加工工艺
0060-0119、 薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法
0022-0120、 复合热处理方法
0036-0121、 一种具有扩散障的渗铝金属构件及渗铝方法
0210-0122、 真空蒸镀用掩模和用该掩模制造的有机电致发光显示面板
0105-0123、 铜或铜合金基体上镍基自熔合金涂层的制备方法
0008-0124、 有机材料蒸发源
0144-0125、 一种陶瓷涂层的制备方法
0137-0126、 包括钛和锆的物理汽相淀积靶件和使用方法
0055-0127、 精密叶片热锻模具PCVD等离子体渗镀复合强化方法
0216-0128、 气相沉积
0092-0129、 氧化镁粒子聚集物
0052-0130、 三价铬彩虹色钝化液
0077-0131、 高性能的化学镀镍-磷合金溶液的配制方法
0139-0132、 用金属涂覆超级磨料的方法
0174-0133、 双马来酰亚胺树脂-玻璃纤维复合材料的金属化方法
0100-0134、 陶瓷内衬钢管的制造方法
0098-0135、 电子部件的制造方法及该电子部件
0049-0136、 真空室内在线更换基片的装置
0050-0137、 镀覆方法
0168-0138、 滑动性出色的热浸镀锌合金钢板
0191-0139、 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法
0032-0140、 用氢化的吸气剂合金纯化有机金属化合物或杂原子有机化合物的方法
0155-0141、 通用小汽油机的摇臂热处理工艺
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0154-0150、 一种硼碳氮三元共渗方法
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0009-0152、 CVD装置
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0202-0154、 潜艇的表面防腐工艺方案
0010-0155、 镀膜装置
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0054-0157、 钢铁热浸镀铝锌合金工艺
0127-0158、 无电解镀金液
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0048-0171、 一种常温下制备化合物薄膜的方法
0178-0172、 透明导电薄膜用靶、透明导电薄膜及其制造方法、显示器用电极材料、有机电致发...
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0217-0217、 溅射靶材
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