镀膜、镀膜设备、进行镀膜、镀膜工艺生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2021/4/27
0055-0001、 压力梯度化学蒸汽渗透和沉积的设备及工艺和制品
摘要、 本发明涉及用化学蒸汽渗透和在一个多孔架内沉积一种粘结材料的方法以制造高温复合材料的领域。更详细地，本发明涉及强制一个反应气体渗透进一个多孔骨架内的压力梯度工艺，实施此工艺的设备以及其最终制品。本发明特别适合于大量（数百件）飞机制动板的同时ＣＶＩ／ＣＶＤ工艺过程。
0212-0002、 表面合金化的高温合金
摘要、 提供一种表面合金化的构件，此构件包括具有扩散防护层，扩散防护层富含硅和铬。靠近扩散防护层产生了富含硅和铬及任意选择钛或铝的富集层。活性气体处理可用来在构件最外层表面上产生增强保护膜。
0013-0003、 镀膜形成方法和镀膜形成装置
本发明提供了一种镀膜形成方法和镀膜形成装置，这种方法和装置能够在膜形成表面不引起刻痕提高成品率，能保持稳定放电以连续形成质地均匀、厚度一致的镀膜，镀膜通过沿长度方向连续运送带状基质形成，这样它构成了放电区的一部分，在基质运送过程中，由滚筒将构成放电区一部分的基质的横断面形状改变为弯曲形状。
0121-0004、 带薄膜基板的制造方法和制造装置
摘要、 本发明的目的是提供一种用比较小的生产设备就可以以良好的效率连续地制造防反射滤光片等的大型带薄膜基板的带薄膜基板的制造方法和制造装置。$为了达到上述目的的本发明提供下述的一种带薄膜的基板的制造方法：$在成膜区域的前后，设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第１和第２储料室的成膜室，在该成膜室的前后，分别设有具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室，在该成膜室中成膜对象基板正在成膜期间，把下一成膜对象基板组送入投入室，先排好气，同时，把前次成膜完毕的成膜对象基板组从取出室内取出来，其特征是，边使该成膜对象基板通过该成膜区域边使之形成膜。$作为用来实施这种带薄膜的基板的制造方法的装置提供一种带薄膜的基板的制造装置，其特征是具有：在成膜区域的前后，具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第１和第２储料室的成膜室；在该成膜室的前后，分别具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室；该成膜室、该投入室和该取出室分别独立地具有可排气的排气装置；该成膜室具有成膜粒子产生源、使该成膜对象基板通过成膜区域的装置和把该成膜对象基板组从第１储料室中顺次取出到该通过装置中去，并从该通过装置中取入到第２储料室中去的装置。$本发明的带薄膜基板的制造方法，是一种连续地以良好的效率生产制造大型的带薄膜基板的制造方法，具有成膜区域无浪费、比现有的方法高数倍的生产率，且制造成本可以非常低的特征。
0072-0005、 卷材形式的镀金属薄膜的生产方法
摘要、 由非导电薄膜通过依次无电金属化和流电金属化生产镀金属薄膜的方法，包括使非导电薄膜在连续“卷装进出”过程中进行以下操作：$ａ）涂覆可金属化底漆，$ｂ）干燥涂覆的底漆，$ｃ）调整涂覆的底漆，$ｄ）可选地活化涂覆的底漆，$ｅ）用无电化学金属化浴处理，$ｆ）可选地用第一冲洗液体处理，$ｇ）用流电金属化浴处理，$ｈ）用第二冲洗液体处理，$ｉ）可选地加热处理已经金属化的薄膜。
0176-0006、 带有涂层的铣刀及其制备方法
摘要、 本发明披露了一种在湿或干的条件下，用于铣削有或没有原始表面的低和中等合金钢的带有涂层的铣削刀具。所述刀具的特征在于：包含有硬质合金体和涂层，所述的硬质合金体包含低含量的立方碳化物和熔合大量Ｗ的粘结相；所述的涂层包含柱状晶粒的TiC,x,N,y,O,z,层，k－Ａl,２,Ｏ,３,内层以及，优选的ＴiＮ顶层。所述各层利用ＣＶＤ法进行沉积。
0150-0007、 一种铬硅铝三元共渗方法及设备
摘要、 本发明提供了一种铬硅铝三元共渗方法和设备。所涉及铬硅铝共渗剂的组成为*合金粉、石英粉、卤化物催渗剂、废铝渣粉、铝钒土熟料，其配比为（重量百分比）：１．５～１５*合金粉、２～５废铝渣粉、０．５～６石英粉、０．２～３卤化物催渗剂、９５．８～７１底料。本发明渗剂配方合理且价廉易得，便于控制渗层厚度和铬硅铝含量。渗件表面光洁度好，耐蚀能力好且易于焊接加工。
0010-0008、 溅射离子泵
摘要、 在两个阴极之间已配置了构成多单元阳极的阳极的溅射离子泵中，把阳极的长度Ｌ和直径Ｄ之比特定于某一范围之内以提高排气速度。解决方法的特征是本发明的超高真空用的溅射离子泵，在设阳极的长度为Ｌ、阳极的直径为Ｄ时，把各阴极与阳极构成为使之满足0.015≤L/D≤0.8。另外，各阴极与阳极，在设一方的阴极与阳极的间隔为G,1，另一方的阴极与阳极的间隔为G,2,时,被构成为使之满足0.01，L/(G,1,+G,2,)1。
0214-0009、 氧化铟膜的形成方法,具有氧化铟膜的衬底及半导体元件
摘要、 在导电衬底上形成氧化铟膜的成膜方法，把所述衬底和相反电极浸入至少包含*盐离子和铟离子的水溶液中，在所述衬底和相反电极之间通电流，由此在所述衬底上形成所述氧化铟膜。利用无电淀积工艺形成氧化铟膜的水溶液，至少包含*盐离子，铟离子和酒石酸盐。利用所述的水溶液，通过无电淀积工艺，在衬底上形成氧化铟膜的成膜方法。利用所述成膜方法，制成半导体元件和光生伏打元件的衬底。
0093-0010、 薄膜、制备该薄膜的方法和设备、以及包括该薄膜的电子元件
摘要、 一种形成薄膜的方法，包括下列步骤：将液态的沉积材料加到加热表面上；加热和蒸发位于，加热表面上的沉积材料，同时将沉积材料移动；以及将沉积材料沉积在沉积表面上。将该沉积材料加到加热表面上的使蒸发的沉积材料不能到达沉积表面的位置处。
0183-0011、 耐蚀、耐磨性优良的表面改性金属部件及其制法
0069-0012、 等离子体处理装置
0095-0013、 一种酸性化学镀镍溶液及其施镀的方法
0078-0014、 用于热喷涂的纳米结构的进料
0127-0015、 带多个气体入口和独立质流控制回路的反应室的分布板
0140-0016、 涂敷的车削刀片
0200-0017、 树脂铬酸盐组合物和表面处理金属板
0073-0018、 将热喷涂层粘合到非粗糙铝表面的方法
0081-0019、 一种磁控溅射镀吸收膜工艺
0119-0020、 尺寸可控的纳米级银颗粒镶嵌在钛酸钡薄膜中的制备方法
0057-0021、 处理底物的设备
0036-0022、 淀积膜形成装置和方法
0161-0023、 外延圆筒反应器用的冷却系统和操作方法
0008-0024、 用于处理金属的组合物及方法
0088-0025、 在导向套筒内表面形成硬质碳膜的方法
0171-0026、 用于生产感应操作计数系统的方法
0033-0027、 非理想阻挡层涂层序列组合物
0011-0028、 高渗氮性能弹簧及其制备方法
0184-0029、 电缆桥架热喷锌(铝)制作方法
0101-0030、 聚合物、金属或陶瓷表面的改性
0137-0031、 医用植入物的离子束增强沉积羟基磷灰石镀层的制备方法
0139-0032、 硬质复合材料及其制备方法
0132-0033、 植物葫芦表面镀膜工艺方法
0154-0034、 金属的双色成型制法
0090-0035、 金属表面高温超声浸镀方法
0059-0036、 真空镀膜设备的基片支架
0092-0037、 非导电底板的无电流敷镀金属的方法
0001-0038、 在真空室内放有一个装蒸发物的坩埚的真空镀膜设备
0052-0039、 具有优良玻璃膜及磁性能的晶粒取向电工钢板的生产工艺
0049-0040、 一种表面覆铝的钢材、铁基工件及其覆铝方法
0120-0041、 离子氮碳共渗和中温离子渗硫复合处理方法
0136-0042、 带电镀涂层的轧制成型的结构型钢
0149-0043、 化学沉积用活化催化溶液和化学沉积方法
0112-0044、 金黄色膜常温磷化粉
0215-0045、 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
0061-0046、 现场吸气泵系统和方法
0029-0047、 稳定的氧化钛基气相沉积材料
0182-0048、 用于制造耐蚀、耐磨性优良合金的材料
0107-0049、 多弧离子镀合金涂层的制备方法
0116-0050、 用于制造圆锯、摩擦锯和排锯的锯片以及切割和剃齿装置的基板材料
0201-0051、 使用二(*丁基氨基)硅烷淀积二氧化硅和氧氮化硅
0104-0052、 高温部件的磨蚀/腐蚀防护涂层
0125-0053、 一种锆材预膜方法及其设备
0181-0054、 金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法
0006-0055、 一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备
0094-0056、 等离子体渗碳处理金属工件的装置及其方法
0155-0057、 大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置
0097-0058、 一种硬碳膜
0038-0059、 在金属表面涂覆磷酸盐涂层的方法
0158-0060、 链条零件热处理的“快速气体渗碳”方法
0028-0061、 用于等离子体处理的设备和方法
0024-0062、 热塑性塑料的金属涂敷
0146-0063、 能快速生长氧化镁膜的膜生长方法及其生长装置
0064-0064、 合成树脂成型物及其制造方法
0142-0065、 利用等离子体处理大面积衬底基片的系统
0077-0066、 用于化学蒸气淀积反应器的气体喷射装置
0098-0067、 旋转靶柱型磁控溅射器
0204-0068、 一种可锻铸铁管件的镀锌方法及其专用设备
0099-0069、 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
0148-0070、 一种金属零件面硬化的方法
0122-0071、 类金刚石与金刚石复合膜作新型光学增透膜
0195-0072、 有机场致发光元件
0186-0073、 细晶质的和/或快速磷酸盐转化涂层的组合物和方法
0054-0074、 一种金属表面防锈处理剂及其使用方法
0157-0075、 淀积膜的方法和溅射设备
0034-0076、 奥氏体不锈钢之渗碳方法及由其制得之奥氏体不锈钢制品
0004-0077、 金属制件内腔化学镀镍装置
0205-0078、 彩色斑锡合金及其制备方法
0035-0079、 薄膜制备方法和淀积设备
0109-0080、 制造金属复合材料的方法和装置
0172-0081、 等离子体增强化学汽相淀积装置和进行所述淀积的方法
0041-0082、 使外科用针钝化的方法
0207-0083、 涂布多孔涂层的方法和设备以及电解电容器的阴极膜
0026-0084、 具有两个溅镀用阴极的、用于对平的基片进行镀膜的设备
0130-0085、 制备铁-磷酸盐转化表面的方法
0106-0086、 金属有机化学气相淀积装置和淀积方法
0015-0087、 碳钢波纹填料整体渗铝或多元共渗的方法
0020-0088、 形成透明保护膜的结构物及其制造方法
0163-0089、 带状复合材料及其制备方法与装置
0023-0090、 基质镀膜装置用的蒸发舟
0047-0091、 含有肟加速剂的磷酸锌涂料组合物
0080-0092、 镀银
0039-0093、 微波等离子体处理装置及其处理方法
0173-0094、 自行车表面镀钛金工艺
0206-0095、 在物品上覆盖保护性和装饰性涂层的方法
0208-0096、 浸蚀装置、浸蚀方法及用该方法制得的线路板
0197-0097、 一种生长高定向BCN纳米管材料的方法
0005-0098、 γ射线辐照制备金属镍薄膜的方法
0103-0099、 用可溶性模具制造纯金属腔体结构的方法
0133-0100、 生长氮氧硅薄膜的方法
0165-0101、 使金属锅体具有高硬度、耐蚀、不沾性的表面加工方法
0187-0102、 表面硬化钛材料、钛材料的表面硬化方法及钟表外装饰品和装饰品
0022-0103、 直接分解式渗碳工艺
0019-0104、 直接沉积含金属的图案化膜的方法
0084-0105、 溅射方法和溅射设备
0105-0106、 环形分隔电镀槽支架爬行升降机构
0115-0107、 具有高温保护涂层系统的金属构件及其涂覆方法
0075-0108、 硅钢连续退火炉陶瓷复合涂层炉底辊
0185-0109、 一种海洋船舶防腐、防止海生物附着寄生镀层及热喷镀工艺
0031-0110、 新型稀土锌铝合金镀层材料及其热浸镀工艺
0213-0111、 敷钛锌板及制造工艺
0152-0112、 在玻璃上形成氧化锡涂层的方法
0070-0113、 带结晶器的上拉铸造装置
0082-0114、 用含金属的后冲洗液进行磷酸盐化的方法
0169-0115、 用于铝合金的非铬酸盐缓蚀剂
0067-0116、 控制电镀镀层重量的方法和装置
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0153-0118、 铝或铝合金溅射靶
0135-0119、 太阳能真空管溅射选择性吸收涂层
0060-0120、 化学蒸汽渗透和沉积工艺用的设备
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0007-0122、 一种用于金属构件上的热喷涂陶瓷绝热层的金属附着层的沉积方法
0009-0123、 晶片表面平面化的方法
0128-0124、 金属表面处理方法、其处理的制冷剂压缩机用旋转轴和滑片以及该制冷剂压缩机
0164-0125、 使表面具有高硬度、不沾性及耐蚀性的表面加工方法
0209-0126、 溅射镀膜装置
0111-0127、 玻璃质热喷涂覆合层辊及其制法
0192-0128、 溅射靶,用其制成的抗铁磁材料膜和磁阻效应器件
0108-0129、 真空渗碳方法、设备及渗碳制品
0199-0130、 金属表面特种催化液及其催化合金加工工艺
0058-0131、 在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备
0174-0132、 热或温条件下使用的钢构件及其生产方法
0062-0133、 在至少一个底物表面上生成一层的方法和设备
0114-0134、 含稀土元素的粉芯铁基合金的热喷涂线材
0079-0135、 印制电路板的制造
0167-0136、 真空薄膜生长设备
0086-0137、 化学镀镍铬磷非晶态合金的溶液及其镀覆方法
0189-0138、 表面处理构件及表面处理方法
0124-0139、 一种非连续陶瓷增强剂增强的金属基复合材料的制备方法
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0190-0141、 用于半导体处理的气体注射系统
0175-0142、 溅射靶/底板组件的制造方法
0002-0143、 一种制备金属及合金薄膜的金属有机化学气相淀积法
0065-0144、 在光学基片上蒸镀镀膜的方法
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0177-0147、 带有涂层的车刀及其制备方法
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0083-0149、 在金属表面形成密实的粘结保护层的组合物和方法
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0198-0152、 椭圆陶瓷蒸发器
0117-0153、 磁控溅射方法
0144-0154、 光诱导绝缘体表面金属化方法
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0042-0156、 保持熔融金属的方法与设备
0003-0157、 带有铁铝扩散层的铁合金及其制备方法
0131-0158、 可防止浪费蒸发材料的离子镀膜装置
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0110-0160、 推拉门窗铜质型材的加工方法
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0050-0163、 密封装置
0076-0164、 化学处理性优良的润滑钢板及其制造方法
0134-0165、 金刚石红外增透滤光窗口及其制备方法
0193-0166、 一种抑制和减缓烃类高温裂解中焦炭形成与沉积的方法
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0066-0168、 碳化钨基硬质合金喷焊(涂)粉及其生产工艺
0159-0169、 一种立方织构镍基带的制造方法
0100-0170、 带有保护性涂层体系的高温合金元件
0126-0171、 铜表面生成黑色耸状氧化膜的方法
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0196-0173、 金属材料表面化学镀镍方法
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0216-0176、 汽车离合器零件夹持盘及减振盘彩色热处理工艺
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0203-0209、 制造半导体器件的化学汽相淀积装置及其驱动方法
0043-0210、 用于处理转化覆层的金属表面的组合物及方法
0044-0211、 多层闪蒸器
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0178-0214、 带有涂层的切刀及其制备方法
0037-0215、 磁镀装置
0156-0216、 激光淬火前处理常温磷化新工艺
0217-0217、 带有整体后钝化的锌磷酸盐化法
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摘要、 本发明涉及用化学蒸汽渗透和在一个多孔架内沉积一种粘结材料的方法以制造高温复合材料的领域。更详细地，本发明涉及强制一个反应气体渗透进一个多孔骨架内的压力梯度工艺，实施此工艺的设备以及其最终制品。本发明特别适合于大量（数百件）飞机制动板的同时ＣＶＩ／ＣＶＤ工艺过程。
0212-0002、 表面合金化的高温合金
摘要、 提供一种表面合金化的构件，此构件包括具有扩散防护层，扩散防护层富含硅和铬。靠近扩散防护层产生了富含硅和铬及任意选择钛或铝的富集层。活性气体处理可用来在构件最外层表面上产生增强保护膜。
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本发明提供了一种镀膜形成方法和镀膜形成装置，这种方法和装置能够在膜形成表面不引起刻痕提高成品率，能保持稳定放电以连续形成质地均匀、厚度一致的镀膜，镀膜通过沿长度方向连续运送带状基质形成，这样它构成了放电区的一部分，在基质运送过程中，由滚筒将构成放电区一部分的基质的横断面形状改变为弯曲形状。
0121-0004、 带薄膜基板的制造方法和制造装置
摘要、 本发明的目的是提供一种用比较小的生产设备就可以以良好的效率连续地制造防反射滤光片等的大型带薄膜基板的带薄膜基板的制造方法和制造装置。$为了达到上述目的的本发明提供下述的一种带薄膜的基板的制造方法：$在成膜区域的前后，设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第１和第２储料室的成膜室，在该成膜室的前后，分别设有具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室，在该成膜室中成膜对象基板正在成膜期间，把下一成膜对象基板组送入投入室，先排好气，同时，把前次成膜完毕的成膜对象基板组从取出室内取出来，其特征是，边使该成膜对象基板通过该成膜区域边使之形成膜。$作为用来实施这种带薄膜的基板的制造方法的装置提供一种带薄膜的基板的制造装置，其特征是具有：在成膜区域的前后，具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第１和第２储料室的成膜室；在该成膜室的前后，分别具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室；该成膜室、该投入室和该取出室分别独立地具有可排气的排气装置；该成膜室具有成膜粒子产生源、使该成膜对象基板通过成膜区域的装置和把该成膜对象基板组从第１储料室中顺次取出到该通过装置中去，并从该通过装置中取入到第２储料室中去的装置。$本发明的带薄膜基板的制造方法，是一种连续地以良好的效率生产制造大型的带薄膜基板的制造方法，具有成膜区域无浪费、比现有的方法高数倍的生产率，且制造成本可以非常低的特征。
0072-0005、 卷材形式的镀金属薄膜的生产方法
摘要、 由非导电薄膜通过依次无电金属化和流电金属化生产镀金属薄膜的方法，包括使非导电薄膜在连续“卷装进出”过程中进行以下操作：$ａ）涂覆可金属化底漆，$ｂ）干燥涂覆的底漆，$ｃ）调整涂覆的底漆，$ｄ）可选地活化涂覆的底漆，$ｅ）用无电化学金属化浴处理，$ｆ）可选地用第一冲洗液体处理，$ｇ）用流电金属化浴处理，$ｈ）用第二冲洗液体处理，$ｉ）可选地加热处理已经金属化的薄膜。
0176-0006、 带有涂层的铣刀及其制备方法
摘要、 本发明披露了一种在湿或干的条件下，用于铣削有或没有原始表面的低和中等合金钢的带有涂层的铣削刀具。所述刀具的特征在于：包含有硬质合金体和涂层，所述的硬质合金体包含低含量的立方碳化物和熔合大量Ｗ的粘结相；所述的涂层包含柱状晶粒的TiC,x,N,y,O,z,层，k－Ａl,２,Ｏ,３,内层以及，优选的ＴiＮ顶层。所述各层利用ＣＶＤ法进行沉积。
0150-0007、 一种铬硅铝三元共渗方法及设备
摘要、 本发明提供了一种铬硅铝三元共渗方法和设备。所涉及铬硅铝共渗剂的组成为*合金粉、石英粉、卤化物催渗剂、废铝渣粉、铝钒土熟料，其配比为（重量百分比）：１．５～１５*合金粉、２～５废铝渣粉、０．５～６石英粉、０．２～３卤化物催渗剂、９５．８～７１底料。本发明渗剂配方合理且价廉易得，便于控制渗层厚度和铬硅铝含量。渗件表面光洁度好，耐蚀能力好且易于焊接加工。
0010-0008、 溅射离子泵
摘要、 在两个阴极之间已配置了构成多单元阳极的阳极的溅射离子泵中，把阳极的长度Ｌ和直径Ｄ之比特定于某一范围之内以提高排气速度。解决方法的特征是本发明的超高真空用的溅射离子泵，在设阳极的长度为Ｌ、阳极的直径为Ｄ时，把各阴极与阳极构成为使之满足0.015≤L/D≤0.8。另外，各阴极与阳极，在设一方的阴极与阳极的间隔为G,1，另一方的阴极与阳极的间隔为G,2,时,被构成为使之满足0.01，L/(G,1,+G,2,)1。
0214-0009、 氧化铟膜的形成方法,具有氧化铟膜的衬底及半导体元件
摘要、 在导电衬底上形成氧化铟膜的成膜方法，把所述衬底和相反电极浸入至少包含*盐离子和铟离子的水溶液中，在所述衬底和相反电极之间通电流，由此在所述衬底上形成所述氧化铟膜。利用无电淀积工艺形成氧化铟膜的水溶液，至少包含*盐离子，铟离子和酒石酸盐。利用所述的水溶液，通过无电淀积工艺，在衬底上形成氧化铟膜的成膜方法。利用所述成膜方法，制成半导体元件和光生伏打元件的衬底。
0093-0010、 薄膜、制备该薄膜的方法和设备、以及包括该薄膜的电子元件
摘要、 一种形成薄膜的方法，包括下列步骤：将液态的沉积材料加到加热表面上；加热和蒸发位于，加热表面上的沉积材料，同时将沉积材料移动；以及将沉积材料沉积在沉积表面上。将该沉积材料加到加热表面上的使蒸发的沉积材料不能到达沉积表面的位置处。
0183-0011、 耐蚀、耐磨性优良的表面改性金属部件及其制法
0069-0012、 等离子体处理装置
0095-0013、 一种酸性化学镀镍溶液及其施镀的方法
0078-0014、 用于热喷涂的纳米结构的进料
0127-0015、 带多个气体入口和独立质流控制回路的反应室的分布板
0140-0016、 涂敷的车削刀片
0200-0017、 树脂铬酸盐组合物和表面处理金属板
0073-0018、 将热喷涂层粘合到非粗糙铝表面的方法
0081-0019、 一种磁控溅射镀吸收膜工艺
0119-0020、 尺寸可控的纳米级银颗粒镶嵌在钛酸钡薄膜中的制备方法
0057-0021、 处理底物的设备
0036-0022、 淀积膜形成装置和方法
0161-0023、 外延圆筒反应器用的冷却系统和操作方法
0008-0024、 用于处理金属的组合物及方法
0088-0025、 在导向套筒内表面形成硬质碳膜的方法
0171-0026、 用于生产感应操作计数系统的方法
0033-0027、 非理想阻挡层涂层序列组合物
0011-0028、 高渗氮性能弹簧及其制备方法
0184-0029、 电缆桥架热喷锌(铝)制作方法
0101-0030、 聚合物、金属或陶瓷表面的改性
0137-0031、 医用植入物的离子束增强沉积羟基磷灰石镀层的制备方法
0139-0032、 硬质复合材料及其制备方法
0132-0033、 植物葫芦表面镀膜工艺方法
0154-0034、 金属的双色成型制法
0090-0035、 金属表面高温超声浸镀方法
0059-0036、 真空镀膜设备的基片支架
0092-0037、 非导电底板的无电流敷镀金属的方法
0001-0038、 在真空室内放有一个装蒸发物的坩埚的真空镀膜设备
0052-0039、 具有优良玻璃膜及磁性能的晶粒取向电工钢板的生产工艺
0049-0040、 一种表面覆铝的钢材、铁基工件及其覆铝方法
0120-0041、 离子氮碳共渗和中温离子渗硫复合处理方法
0136-0042、 带电镀涂层的轧制成型的结构型钢
0149-0043、 化学沉积用活化催化溶液和化学沉积方法
0112-0044、 金黄色膜常温磷化粉
0215-0045、 氧化铟/氧化锡溅射靶材及其制造方法
0061-0046、 现场吸气泵系统和方法
0029-0047、 稳定的氧化钛基气相沉积材料
0182-0048、 用于制造耐蚀、耐磨性优良合金的材料
0107-0049、 多弧离子镀合金涂层的制备方法
0116-0050、 用于制造圆锯、摩擦锯和排锯的锯片以及切割和剃齿装置的基板材料
0201-0051、 使用二(*丁基氨基)硅烷淀积二氧化硅和氧氮化硅
0104-0052、 高温部件的磨蚀/腐蚀防护涂层
0125-0053、 一种锆材预膜方法及其设备
0181-0054、 金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法
0006-0055、 一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备
0094-0056、 等离子体渗碳处理金属工件的装置及其方法
0155-0057、 大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置
0097-0058、 一种硬碳膜
0038-0059、 在金属表面涂覆磷酸盐涂层的方法
0158-0060、 链条零件热处理的“快速气体渗碳”方法
0028-0061、 用于等离子体处理的设备和方法
0024-0062、 热塑性塑料的金属涂敷
0146-0063、 能快速生长氧化镁膜的膜生长方法及其生长装置
0064-0064、 合成树脂成型物及其制造方法
0142-0065、 利用等离子体处理大面积衬底基片的系统
0077-0066、 用于化学蒸气淀积反应器的气体喷射装置
0098-0067、 旋转靶柱型磁控溅射器
0204-0068、 一种可锻铸铁管件的镀锌方法及其专用设备
0099-0069、 溅射玻璃镀膜用镍基变形合金靶材
0148-0070、 一种金属零件面硬化的方法
0122-0071、 类金刚石与金刚石复合膜作新型光学增透膜
0195-0072、 有机场致发光元件
0186-0073、 细晶质的和/或快速磷酸盐转化涂层的组合物和方法
0054-0074、 一种金属表面防锈处理剂及其使用方法
0157-0075、 淀积膜的方法和溅射设备
0034-0076、 奥氏体不锈钢之渗碳方法及由其制得之奥氏体不锈钢制品
0004-0077、 金属制件内腔化学镀镍装置
0205-0078、 彩色斑锡合金及其制备方法
0035-0079、 薄膜制备方法和淀积设备
0109-0080、 制造金属复合材料的方法和装置
0172-0081、 等离子体增强化学汽相淀积装置和进行所述淀积的方法
0041-0082、 使外科用针钝化的方法
0207-0083、 涂布多孔涂层的方法和设备以及电解电容器的阴极膜
0026-0084、 具有两个溅镀用阴极的、用于对平的基片进行镀膜的设备
0130-0085、 制备铁-磷酸盐转化表面的方法
0106-0086、 金属有机化学气相淀积装置和淀积方法
0015-0087、 碳钢波纹填料整体渗铝或多元共渗的方法
0020-0088、 形成透明保护膜的结构物及其制造方法
0163-0089、 带状复合材料及其制备方法与装置
0023-0090、 基质镀膜装置用的蒸发舟
0047-0091、 含有肟加速剂的磷酸锌涂料组合物
0080-0092、 镀银
0039-0093、 微波等离子体处理装置及其处理方法
0173-0094、 自行车表面镀钛金工艺
0206-0095、 在物品上覆盖保护性和装饰性涂层的方法
0208-0096、 浸蚀装置、浸蚀方法及用该方法制得的线路板
0197-0097、 一种生长高定向BCN纳米管材料的方法
0005-0098、 γ射线辐照制备金属镍薄膜的方法
0103-0099、 用可溶性模具制造纯金属腔体结构的方法
0133-0100、 生长氮氧硅薄膜的方法
0165-0101、 使金属锅体具有高硬度、耐蚀、不沾性的表面加工方法
0187-0102、 表面硬化钛材料、钛材料的表面硬化方法及钟表外装饰品和装饰品
0022-0103、 直接分解式渗碳工艺
0019-0104、 直接沉积含金属的图案化膜的方法
0084-0105、 溅射方法和溅射设备
0105-0106、 环形分隔电镀槽支架爬行升降机构
0115-0107、 具有高温保护涂层系统的金属构件及其涂覆方法
0075-0108、 硅钢连续退火炉陶瓷复合涂层炉底辊
0185-0109、 一种海洋船舶防腐、防止海生物附着寄生镀层及热喷镀工艺
0031-0110、 新型稀土锌铝合金镀层材料及其热浸镀工艺
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0152-0112、 在玻璃上形成氧化锡涂层的方法
0070-0113、 带结晶器的上拉铸造装置
0082-0114、 用含金属的后冲洗液进行磷酸盐化的方法
0169-0115、 用于铝合金的非铬酸盐缓蚀剂
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0153-0118、 铝或铝合金溅射靶
0135-0119、 太阳能真空管溅射选择性吸收涂层
0060-0120、 化学蒸汽渗透和沉积工艺用的设备
0123-0121、 一种石英坩埚/管涂碳方法
0007-0122、 一种用于金属构件上的热喷涂陶瓷绝热层的金属附着层的沉积方法
0009-0123、 晶片表面平面化的方法
0128-0124、 金属表面处理方法、其处理的制冷剂压缩机用旋转轴和滑片以及该制冷剂压缩机
0164-0125、 使表面具有高硬度、不沾性及耐蚀性的表面加工方法
0209-0126、 溅射镀膜装置
0111-0127、 玻璃质热喷涂覆合层辊及其制法
0192-0128、 溅射靶,用其制成的抗铁磁材料膜和磁阻效应器件
0108-0129、 真空渗碳方法、设备及渗碳制品
0199-0130、 金属表面特种催化液及其催化合金加工工艺
0058-0131、 在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备
0174-0132、 热或温条件下使用的钢构件及其生产方法
0062-0133、 在至少一个底物表面上生成一层的方法和设备
0114-0134、 含稀土元素的粉芯铁基合金的热喷涂线材
0079-0135、 印制电路板的制造
0167-0136、 真空薄膜生长设备
0086-0137、 化学镀镍铬磷非晶态合金的溶液及其镀覆方法
0189-0138、 表面处理构件及表面处理方法
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0166-0140、 磷酸盐被膜形成处理前的金属表面预处理液及预处理方法
0190-0141、 用于半导体处理的气体注射系统
0175-0142、 溅射靶/底板组件的制造方法
0002-0143、 一种制备金属及合金薄膜的金属有机化学气相淀积法
0065-0144、 在光学基片上蒸镀镀膜的方法
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0168-0146、 纳米晶立方氮化硼薄膜及其制备方法
0177-0147、 带有涂层的车刀及其制备方法
0211-0148、 铬酸盐钝化及其储存稳定的浓缩溶液
0083-0149、 在金属表面形成密实的粘结保护层的组合物和方法
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0117-0153、 磁控溅射方法
0144-0154、 光诱导绝缘体表面金属化方法
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0042-0156、 保持熔融金属的方法与设备
0003-0157、 带有铁铝扩散层的铁合金及其制备方法
0131-0158、 可防止浪费蒸发材料的离子镀膜装置
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0076-0164、 化学处理性优良的润滑钢板及其制造方法
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