上光剂生产加工工艺制备技术大全
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上光剂生产加工工艺制备技术大全
作者:百创科技    金属矿产来源:本站原创    点击数:    更新时间:2021/4/27
(1001055-0007-0001) 一种清洁上光剂
(技术说明) 一种清洁上光剂,属软性乳化型清洁上光剂。它含4%~6%的蜡,13%~24%的润滑剂,15%~25%的填充剂,25%~35%的200#溶剂汽油和40%的软水,2%~2.5%的季胺盐型阳离子表面活性剂和2%~2.5%的18醇。这种清洁上光剂集清洁上光功能为一体,去污力强,上光性好,使用方便,易去垢,不吸尘,经日晒雨淋仍能保持光亮,且耐热达40℃不会分离。它适用于汽车、电镀、玻璃、等制品表面的清洁上光。 , (1001055-0044-0002) 透明调色剂、包括该调色剂的显影剂、上光单元和图像形成装置
(技术说明) 透明调色剂、包括该调色剂的显影剂、上光单元和图像形成装置。一种用于与彩色调色剂图像一起形成透明调色剂图像的透明调色剂,其中构成该透明调色剂的热塑性树脂是由在下述条件下通过熔融混合结晶聚酯树脂和非晶态树脂而获得的树脂制成,该条件为:假设T0(℃)是使由通过熔融混合所述结晶聚酯树脂和所述非晶态树脂一段时间t0(分钟)而获得的树脂形成的20μm厚的膜的表观反射率Y为1.5%的温度,熔融混合温度为T(℃)并且熔融混合时间为t(分钟),则将T(℃)预定为从T0到(T0+30),将t(分钟)预定为从t0到(10×t0),并且使热塑性树脂的粘度为103Pa·s的温度Tα为70℃到110℃。 , (1001055-0061-0003) 用于蚀刻后去除基片上沉积的光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射物质的组合物和方法
(技术说明) 用于将光致抗蚀剂和/或牺牲性抗反射涂层(SARC)材料从其上具有这些物质的基片去除的组合物和方法。该组合物包括碱组分,例如与碱金属碱或碱土金属碱组合的季铵碱,或与氧化剂组合的强碱。该组合物可用于水性介质中,例如与螯合剂、表面活性剂和/或共溶剂类物质一道使用,从而在集成电路制造中实现光致抗蚀剂和/或SARC材料的高效去除,而对基片上的金属类物质例如铜、铝和/或钴合金没有不良影响,对半导体结构中使用的SiOC基介电材料也没有损害。 , (1001055-0028-0004) 一种上光剂及其制造方法
(技术说明) 本发明公开一种上光剂及其制造方法,它由复合蜡、氟化烷烃、表面活性剂、水溶性高分子聚合物(稳定剂)和水等组份构成,通过加温、剪切均质及乳化等工序最终加工而成,它上光快捷,使用方便,持续时间长,且抗尘、防水。 , (1001055-0002-0005) 一种气雾剂型含高分子组分的去污、上光、保护剂
(技术说明) 本发明涉及一种基于非蜡物质的抛光组合物。由聚二甲基硅氧烷6~9份、抗静电剂0.8~1.2份、香精0.2份、溶剂汽油80~90份及高分子材料溶液3~6份组成。经喷涂去污后的材料表面不仅能形成一层光亮的有机硅树脂膜还能形成一层具韧性和弹性的高分子保护层,并对材料表面微小损伤及擦痕有填平、修补作用,达到去污、上光、保护一次完成的目的。适用于车辆、皮革、家具、家用电器、电镀件及金属等材料表面去污、上光、保护。 , (1001055-0021-0006) 高效去污上光剂及其制作方法
(技术说明) 一种高效去污上光剂及其制作方法,使用的原材料及其重量配合顺序为石蜡10—30、十二烷基苯磺酸钠/壬基*聚氧乙烯醚(1∶1)5—15、*5—15、硬脂酰胺2—20、凡士林/白油20—50、蓖麻油5—10、细粒碳酸钙5—25水10—50;生产时,先将石蜡与硬脂酰胺混熔,再加一半水,表面活性剂、*,凡士林等油脂,加温进行乳化,最后将乳化后产品和另一半水及细粒碳酸钙倒入三滚机中研磨即成。本发明产品去污上光性能好,成本低。 , (1001055-0016-0007) 一种多用途金属上光剂
(技术说明) 一种多用途金属上光剂,其技术方案是:本发明属改性丙烯酸系上光剂,它利用丙烯酸树脂材料具有的色浅(呈水白色),光亮,粘接牢等优点,经改性后,使得它对油墨的亲合力更好、附着力牢、耐高温蒸煮、不泛黄、耐拉伸、抗冲压、光亮、透明等各项指标均优于现有同类产品水平。 , (1001055-0066-0008) 荧光增白剂在造纸纤维上的固定
(技术说明) 本发明涉及增加纸浆亮度的方法、由该方法制备的纸浆和使用所述纸浆的方法。 , (1001055-0052-0009) 基体上可见光活性的光催化剂薄膜及其制备方法
(技术说明) , (1001055-0039-0010) 一种基于敏化剂基质的多波段荧光红外上转换材料
(技术说明) 一种基于敏化剂基质的多波段荧光红外上转换材料,其敏化剂和基质是YbF3 , (1001055-0027-0011) 一种车辆清洗上光剂
(1001055-0046-0012) 在基材上形成杂氮纳米二氧化钛光催化活性剂涂层的方法
(1001055-0017-0013) 透明液体上光剂
(1001055-0045-0014) 在基材上形成纳米二氧化钛光催化活性剂涂层的方法
(1001055-0065-0015) 用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物
(1001055-0049-0016) 上光膜用乳液型粘着剂、制法及其用途
(1001055-0014-0017) 多用清洁上光剂及其配制方法
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(1001055-0003-0020) 耐冲洗型上光剂
(1001055-0013-0021) 去污上光剂
(1001055-0018-0022) 抗静电去污上光剂
(1001055-0015-0023) 去污抗静电上光喷雾剂
(1001055-0024-0024) 石蜡微细分散组合物和毛发化妆料以及上光剂
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