剥离剂生产加工工艺制备技术大全
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2021/4/27
(1001124-0035-0001) 剥离制品和包含该剥离制品的粘合剂制品
(技术说明) 本发明涉及一种剥离制品和包含该剥离制品的粘合剂制品，所述剥离制品包含其上有剥离材料的基材；其中所述的剥离材料包含含有烯烃和(甲基)丙烯酸烷基酯的聚合物，其中所述聚合物含有(a)约20－50％(重量)的(甲基)丙烯酸烷基酯，以剥离材料的总重量为基准，而且(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳原子数为2－30的烷基，或者所述聚合物含有(b)约25－50％(重量)的(甲基)丙烯酸烷基酯，以剥离材料的总重量为基准，而且(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳原子数为1－30的烷基。 ， (1001124-0096-0002) 在抗蚀剂剥离室中从衬底上除去抗蚀剂的方法
(技术说明) 提供在抗蚀剂剥离室中从半导体衬底上剥离抗蚀剂的方法。该方法包括产生包含活性组分的远程等离子体，并且在用活性组分除去抗蚀剂之前在剥离室里面冷却活性组分。活性组分可以通过穿过导热气体分配部件来冷却。通过冷却活性组分，避免了在衬底上的低k介电材料的损坏。 ， (1001124-0027-0003) 带有可剥离和复位粘合剂层的照相元件
(技术说明) 本发明涉及一种照相元件，该元件包含至少一层卤化银成像层，至少一双轴取向聚烯烃片材，和至少一包含可剥离粘合剂的层；其中所述的可剥离粘合剂使得所述照相元件在所述粘合剂层处能进行可剥离的分离，并且通过使用所述的至少一个包含可剥离粘合剂的层，能使所述照相元件的至少一个分离部件进行复位。 ， (1001124-0118-0004) 正型光致抗蚀剂剥离剂组合物
(技术说明) 本发明公开了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，它包括：a)占10-50重量％的有机胺；b)占0-70重量％的二甘醇单烷基醚；c)占20-90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01-10重量％的非离子表面活性剂。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物对经蚀刻处理等工艺而变质的光致抗蚀剂图案膜具有优异的溶解性和剥离性，并与水混合后作为清洗液(rinse)使用时，对铝或铜基板的腐蚀小、蒸发少，不仅对作业环境有利，而且稳定性高，并可用水进行清洗特别是低温剥离性能优异，因此具有很强的实用性。 ， (1001124-0097-0005) 光致抗蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置
(技术说明) 本发明提供一种可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸、没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种、以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，式(I)中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2 ， (1001124-0089-0006) 用于具有压敏粘合剂的自卷绕多层干粉涂漆装饰性层压材料的有差异的剥离体系
(技术说明) 自卷绕装饰性的干粉涂漆转移层压材料包括干粉涂漆层、在干粉涂漆层一侧的压敏粘合剂层和在与压敏粘合剂相对的一侧上与干粉涂漆层可剥离地接触的防粘衬层。防粘衬层具有接触干粉涂漆层的无光泽的防粘涂层。无光泽的防粘涂层可剥离地粘附至干粉涂漆层上以提供防护功能，当防粘衬层从干粉涂漆层上除去防粘衬层时也将装饰性无光泽修饰层转移至干粉涂漆层上。防粘衬层的相对侧具有当层压材料为自卷绕形式时接触压敏粘合剂的粘合剂防粘涂层。当层压材料退绕时防粘衬层优先从压敏粘合剂上剥离，而同时保持与无光泽防粘涂层的粘附，然后在退绕和施用至基材表面之后防粘衬层从干粉涂漆层上剥离。 ， (1001124-0115-0007) 抗饰剂剥离剂组合物及抗饰剂去除方法
(技术说明) 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种含有内酯类化合物，而且对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。 ， (1001124-0126-0008) 抗蚀膜剥离剂组合物
(技术说明) 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的*醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。 ， (1001124-0064-0009) 剥离性粘合剂组合物
(技术说明) ， (1001124-0037-0010) 带有副剥离件的拉伸剥离粘合剂制品
(技术说明) 一种将物体可除去地粘附在表面上的拉伸剥离的粘合剂制品，包括拉伸剥离的粘合带和副剥离件。所述粘合带包括具有与所述物体和表面粘合的相反主表面的粘性第一端部和非粘性的舌片部分。副剥离件具有带临时或可重新定位的粘合剂的相反粘合剂主表面，在将粘合带粘附在所述表面和物体上以前该剥离件能使粘合剂制品在所述表面和物体上重新定位。在除去过程中拉伸该粘合带时，副剥离件的粘结强度足以使其与所述物体和表面保持粘合接触。在从物体和表面上除去粘合带以后，从表面上轻轻地剥离或扭动副剥离件就可从该表面上除去之。 ， (1001124-0039-0011) 城市墙面字迹－纸片剥离剂
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(技术说明) 本发明涉及一种剥离制品和包含该剥离制品的粘合剂制品，所述剥离制品包含其上有剥离材料的基材；其中所述的剥离材料包含含有烯烃和(甲基)丙烯酸烷基酯的聚合物，其中所述聚合物含有(a)约20－50％(重量)的(甲基)丙烯酸烷基酯，以剥离材料的总重量为基准，而且(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳原子数为2－30的烷基，或者所述聚合物含有(b)约25－50％(重量)的(甲基)丙烯酸烷基酯，以剥离材料的总重量为基准，而且(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳原子数为1－30的烷基。 ， (1001124-0096-0002) 在抗蚀剂剥离室中从衬底上除去抗蚀剂的方法
(技术说明) 提供在抗蚀剂剥离室中从半导体衬底上剥离抗蚀剂的方法。该方法包括产生包含活性组分的远程等离子体，并且在用活性组分除去抗蚀剂之前在剥离室里面冷却活性组分。活性组分可以通过穿过导热气体分配部件来冷却。通过冷却活性组分，避免了在衬底上的低k介电材料的损坏。 ， (1001124-0027-0003) 带有可剥离和复位粘合剂层的照相元件
(技术说明) 本发明涉及一种照相元件，该元件包含至少一层卤化银成像层，至少一双轴取向聚烯烃片材，和至少一包含可剥离粘合剂的层；其中所述的可剥离粘合剂使得所述照相元件在所述粘合剂层处能进行可剥离的分离，并且通过使用所述的至少一个包含可剥离粘合剂的层，能使所述照相元件的至少一个分离部件进行复位。 ， (1001124-0118-0004) 正型光致抗蚀剂剥离剂组合物
(技术说明) 本发明公开了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，它包括：a)占10-50重量％的有机胺；b)占0-70重量％的二甘醇单烷基醚；c)占20-90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01-10重量％的非离子表面活性剂。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物对经蚀刻处理等工艺而变质的光致抗蚀剂图案膜具有优异的溶解性和剥离性，并与水混合后作为清洗液(rinse)使用时，对铝或铜基板的腐蚀小、蒸发少，不仅对作业环境有利，而且稳定性高，并可用水进行清洗特别是低温剥离性能优异，因此具有很强的实用性。 ， (1001124-0097-0005) 光致抗蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置
(技术说明) 本发明提供一种可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸、没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种、以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，式(I)中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2 ， (1001124-0089-0006) 用于具有压敏粘合剂的自卷绕多层干粉涂漆装饰性层压材料的有差异的剥离体系
(技术说明) 自卷绕装饰性的干粉涂漆转移层压材料包括干粉涂漆层、在干粉涂漆层一侧的压敏粘合剂层和在与压敏粘合剂相对的一侧上与干粉涂漆层可剥离地接触的防粘衬层。防粘衬层具有接触干粉涂漆层的无光泽的防粘涂层。无光泽的防粘涂层可剥离地粘附至干粉涂漆层上以提供防护功能，当防粘衬层从干粉涂漆层上除去防粘衬层时也将装饰性无光泽修饰层转移至干粉涂漆层上。防粘衬层的相对侧具有当层压材料为自卷绕形式时接触压敏粘合剂的粘合剂防粘涂层。当层压材料退绕时防粘衬层优先从压敏粘合剂上剥离，而同时保持与无光泽防粘涂层的粘附，然后在退绕和施用至基材表面之后防粘衬层从干粉涂漆层上剥离。 ， (1001124-0115-0007) 抗饰剂剥离剂组合物及抗饰剂去除方法
(技术说明) 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种含有内酯类化合物，而且对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。 ， (1001124-0126-0008) 抗蚀膜剥离剂组合物
(技术说明) 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的*醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。 ， (1001124-0064-0009) 剥离性粘合剂组合物
(技术说明) ， (1001124-0037-0010) 带有副剥离件的拉伸剥离粘合剂制品
(技术说明) 一种将物体可除去地粘附在表面上的拉伸剥离的粘合剂制品，包括拉伸剥离的粘合带和副剥离件。所述粘合带包括具有与所述物体和表面粘合的相反主表面的粘性第一端部和非粘性的舌片部分。副剥离件具有带临时或可重新定位的粘合剂的相反粘合剂主表面，在将粘合带粘附在所述表面和物体上以前该剥离件能使粘合剂制品在所述表面和物体上重新定位。在除去过程中拉伸该粘合带时，副剥离件的粘结强度足以使其与所述物体和表面保持粘合接触。在从物体和表面上除去粘合带以后，从表面上轻轻地剥离或扭动副剥离件就可从该表面上除去之。 ， (1001124-0039-0011) 城市墙面字迹－纸片剥离剂
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