离子镀膜生产加工制备工艺技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2021/4/27
(1000984-0027-0001)多功能离子镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种作为电镀用的离子镀膜机特别涉及一种物理气相沉积的多功能离子镀膜机。本实用新型由主机、电器控制柜和电源柜三大部分组成。其特征是把空心阴极*和磁控电弧蒸发源都装在同一真空室中，因而具有空心阴极离子镀和磁控电弧离子镀两种源的蒸发方式为一体，工艺性能可靠，结构简单、操作方便，且噪音小。本实用新型可镀单质膜，镀化合物膜还可镀复合膜，且膜层致密均匀、附着力强、工艺重复性好、无污染，可广泛适用于机械、电子、造船、轻工、国防工业等。
(1000984-0020-0002)一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
(资料说明）一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器，它包括单片机、触摸显示单元、A/D转换单元、D/A转换单元、放大器单元、驱动单元、继电器单元和开关量输入单元。该控制器可由现场操作者通过触摸显示屏输入制定的镀膜生产工艺，控制器按照工艺流程，通过控制真空多弧离子镀膜机的真空压强、电弧源电流、镀膜室温度、工件负偏压、充气流量以及真空泵、电磁阀门等设备，实现镀膜机的智能一体化控制，使真空镀膜工艺得到稳定保证镀膜质量和设备安全。
(1000984-0037-0003)柱状靶等离子镀膜机
(资料说明）本实用新型是一种柱状靶等离子镀膜机。主要是采用在柱状靶与真空室之间通入低电压大电流电源，在一定真空条件下通入氩气或反应气体，引弧装置使引弧丝与柱靶侧面短时间接触，产生火花，使气体电离形起柱靶产生电弧，并环绕柱靶内磁场环绕柱靶侧面作斑点状加速旋转放电，电弧环并能随靶内磁场沿靶轴来回移动，使靶镀料金属气化蒸发，在工作架负偏压作用下离化的镀料离子在工件上成膜。加入不同的反应气体能作多种反应性离子镀。经试验被镀工件膜层均匀牢固。
(1000984-0059-0004)汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
(资料说明）汽轮机低压末级叶片的复合离子镀膜方法，它涉及一种离子镀膜方法。本发明是这样实现的：a.用清洗剂对叶片进行清洗；b.用超声波对叶片进行清洗；c.然后预热除去清洗剂和水渍；d.用铝箔将不需要进行渗层处理的部位密封起来，放入离子束复合表面处理机内；e.用含有Cr和N的离子束轰击叶片，形成过渡层；g.将Cr、N低能离子沉积，形成工作层。本发明的叶片离子镀膜后，叶片表面形成一层保护膜提高了叶片的耐蚀性，叶片的表面硬度提高5倍以上，耐膜性提高10倍以上高周疲劳提高50～70MPa，低周疲劳循环次数提高了1000次以上。它具有工艺简单、成本低、安全可靠的优点。
(1000984-0054-0005)蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
(资料说明）本实用新型公开了一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机，镀膜室由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，另一部分是可以开合移动的前门，两个前门的中央分别装入旋转磁控柱状弧源，利用柱弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发，离化进行离子镀膜。两个前门一开一合，轮换与固定体扣合进行镀膜，整机结构简单、操作简便、镀膜均匀区大、成本低廉。适用于表面镀膜和离子渗金属技术，尤其适于镀氮化钛涂层。
(1000984-0029-0006)多蒸发离化源离子镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种多蒸发离化源离子镀膜机，属于离子镀表面沉积技术。该镀膜室为筒式结构，室壁与镀膜室底座焊接或螺接，镀膜室置于底座上。加热器焊封在镀膜室底座或侧盖的中心或四周。镀膜室的另一端有密封盖或门。多个(二个以上）蒸发离化源沿筒体轴线方向等距离布置在室壁的四周。真空排气系统与镀膜室相联。蒸发离化源由磁铁、靶材、引弧丝、冷却水套等组成。本实用新型设计的镀膜机构简单、通用性强，可以用于大型工件镀层。
(1000984-0032-0007)多弧型离子镀膜机
(资料说明）一种多弧型离子镀膜机，其镀膜室为简式结构，室壁与镀膜室底焊接，镀膜室立于镀膜室底座上，镀膜室底上的法兰盘上装有加热器，镀膜室的顶部有带有转动架和工件架的上盖，室壁上开有门，蒸发离化源均布在室壁四周，真空排气系统与镀膜室并排相连。这种镀膜机的高度可大大降低，无需大型特殊厂房还可制成大型镀膜机。
(1000984-0050-0008)多用途蚌形双室离子镀膜机
(资料说明）本实用新型公开了一种多用途蚌形双室离子镀膜机，应用于表面等离子体气相沉积领域。其特征是，两个镀膜室分别由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合的前门。在镀膜室的顶部分别安装柱状弧源或柱状磁控溅射靶，镀膜室壁上分别安装平面弧源或平面磁控溅射靶。根据需要可单独开启一种镀膜源镀单层金属膜或化合物膜，也可以开启任何一对柱状源和平面源镀多层膜或合金膜。
(1000984-0069-0009)低压反应离子镀方法制备碳锗合金膜
(资料说明）本发明是低压反应离子镀方法制备碳锗合金(Gex
(1000984-0085-0010)双面一次成膜真空离子溅镀机
(资料说明）本实用新型公开了一种双面一次成膜真空离子溅镀机，包括溅镀室、安装在溅镀室内的溅射发生器、分别与溅镀室的进口和出口密封连接的若干个真空过渡室、贯穿于真空过渡室和溅镀室的工件输送线，所述溅镀室包括第一溅镀室和第二溅镀室，第一溅镀室内的溅射发生器安装在工件输送线的上方，第二溅镀室内的溅射发生器安装在工件输送线的下方；该溅镀机可以对工件的两个面同时进行镀膜大大提高了生产效率。
(1000984-0080-0011)纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
(1000984-0003-0012)用于离子镀膜的冷U阴极装置
(1000984-0025-0013)分立双室离子镀膜机
(1000984-0041-0014)复合真空离子镀膜设备
(1000984-0073-0015)多通道线圈过滤器离子复合镀膜装置和方法
(1000984-0013-0016)电弧离子镀沉积氮化钛铌硬质薄膜技术
(1000984-0072-0017)可发生负离子的表面镀膜液状混成涂料及其制备方法
(1000984-0051-0018)等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
(1000984-0014-0019)低温离子镀制备金属基润滑薄膜的方法
(1000984-0046-0020)高温立式双端离子镀膜机
(1000984-0044-0021)多弧型离子镀膜机
(1000984-0010-0022)离子镀膜前工件处理工艺及除油、去污清洗剂
(1000984-0056-0023)加有离子源的有机蒸发镀膜装置
(1000984-0008-0024)气相离子镀膜方法与其装置
(1000984-0092-0025)一种利用电弧离子镀沉积高质量薄膜的装置
(1000984-0063-0026)霍尔源激励磁控溅射增强型多弧离子镀膜方法
(1000984-0028-0027)离子镀膜装置
(1000984-0062-0028)等离子体CVD薄膜形成设备以及制造镀覆有CVD薄膜的塑料容器的方法
(1000984-0009-0029)可防止浪费蒸发材料的离子镀膜装置
(1000984-0001-0030)利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置
(1000984-0024-0031)可移式等离子箱单室大批量镀膜的方法
(1000984-0094-0032)瓷砖表面离子镀膜设备用的镀件架
(1000984-0047-0033)旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
(1000984-0011-0034)一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备
(1000984-0039-0035)双端磁控溅射离子镀膜机
(1000984-0090-0036)一种真空离子镀膜夹具
(1000984-0083-0037)平面离子源增强沉积镀膜机
(1000984-0093-0038)视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机
(1000984-0055-0039)离子束溅射镀膜机
(1000984-0077-0040)质子交换膜燃料电池不锈钢双极板离子镀膜改性方法
(1000984-0036-0041)等离子镀膜装置
(1000984-0023-0042)脉冲式等离子体镀膜方法
(1000984-0089-0043)改进的等离子真空镀膜装置
(1000984-0004-0044)等离子体加速器法离子镀膜装置
(1000984-0049-0045)用于大面积辅助镀膜的无栅离子源
(1000984-0026-0046)钛铝涂层用多弧离子镀膜机
(1000984-0087-0047)一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极
(1000984-0067-0048)利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
(1000984-0095-0049)一种等离子体蒸发镀膜机
(1000984-0031-0050)离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
(1000984-0058-0051)一种用于离子镀膜室的分度回转工作台装置
(1000984-0078-0052)一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置
(1000984-0068-0053)等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置
(1000984-0018-0054)采用等离子体CVD法的蒸镀膜
(1000984-0042-0055)电弧蒸发和磁控溅射相结合的离子镀膜设备
(1000984-0016-0056)一种提高锂离子电池负极安全性的表面镀膜修饰方法
(1000984-0019-0057)溅射镀膜离子束辐照增强方法
(1000984-0035-0058)一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
(1000984-0084-0059)配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置
(1000984-0079-0060)自动镀膜多弧离子镀膜机
(1000984-0070-0061)使用等离子CVD法形成的化学蒸镀膜及其形成方法
(1000984-0002-0062)一种陶瓷制品的多弧离子镀膜方法
(1000984-0066-0063)等离子体沉积镀膜系统的废气过滤装置
(1000984-0043-0064)旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
(1000984-0086-0065)柱状阴极复合离子镀膜设备
(1000984-0081-0066)真空离子镀膜机
(1000984-0048-0067)制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机
(1000984-0022-0068)多弧离子镀钛铝铬硅钇氮化物多组元超硬反应膜的制备方法
(1000984-0034-0069)等离子镀膜机点弧自控装置
(1000984-0065-0070)离子注入复合镀膜设备
(1000984-0015-0071)等离子体镀膜装置及其镀膜方法
(1000984-0007-0072)离子镀膜装置
(1000984-0057-0073)一种新型的阴极电弧离子镀膜装置
(1000984-0040-0074)多弧型离子镀膜机
(1000984-0006-0075)磁控电弧离子镀膜法
(1000984-0088-0076)超大型等离子真空镀膜装置
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(1000984-0074-0078)氮离子束辅助电弧离子镀沉积TiAlN膜层新工艺
(1000984-0052-0079)新型离子镀膜设备
(1000984-0091-0080)瓷砖表面离子镀膜设备用的转运车
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(1000984-0076-0082)用于电镀铬和电解铬的三室双离子交换膜电解槽
(1000984-0021-0083)通过表面波等离子体形成蒸镀膜的方法及装置
(1000984-0075-0084)霍尔源激励磁控溅射增强型磁过滤多弧离子复合镀膜方法
(1000984-0082-0085)加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
(1000984-0017-0086)一种提高锂离子电池正极安全性的表面镀膜修饰方法
(1000984-0064-0087)脉冲偏压电弧离子镀钛/氮化钛纳米多层超硬薄膜的方法
(1000984-0045-0088)旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机
(1000984-0071-0089)一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法
(1000984-0038-0090)钽材制品离子电解镀膜
(1000984-0061-0091)一种配置气体离子源的真空离子镀膜机
(1000984-0033-0092)等离子体加速器法离子镀膜装置
(1000984-0053-0093)一种多用途柱状真空等离子体镀膜源
(1000984-0005-0094)一种钢铁表面离子镀固体润滑膜的方法
(1000984-0060-0095)多弧等离子镀膜工艺
制作方法 离子镀膜生产加工制备工艺技术 制作工艺离子镀膜生产加工制备工艺技术
配方比例 离子镀膜生产加工制备工艺技术 技术研究应用参考离子镀膜生产加工制备工艺技术
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(资料说明）本实用新型涉及一种作为电镀用的离子镀膜机特别涉及一种物理气相沉积的多功能离子镀膜机。本实用新型由主机、电器控制柜和电源柜三大部分组成。其特征是把空心阴极*和磁控电弧蒸发源都装在同一真空室中，因而具有空心阴极离子镀和磁控电弧离子镀两种源的蒸发方式为一体，工艺性能可靠，结构简单、操作方便，且噪音小。本实用新型可镀单质膜，镀化合物膜还可镀复合膜，且膜层致密均匀、附着力强、工艺重复性好、无污染，可广泛适用于机械、电子、造船、轻工、国防工业等。
(1000984-0020-0002)一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
(资料说明）一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器，它包括单片机、触摸显示单元、A/D转换单元、D/A转换单元、放大器单元、驱动单元、继电器单元和开关量输入单元。该控制器可由现场操作者通过触摸显示屏输入制定的镀膜生产工艺，控制器按照工艺流程，通过控制真空多弧离子镀膜机的真空压强、电弧源电流、镀膜室温度、工件负偏压、充气流量以及真空泵、电磁阀门等设备，实现镀膜机的智能一体化控制，使真空镀膜工艺得到稳定保证镀膜质量和设备安全。
(1000984-0037-0003)柱状靶等离子镀膜机
(资料说明）本实用新型是一种柱状靶等离子镀膜机。主要是采用在柱状靶与真空室之间通入低电压大电流电源，在一定真空条件下通入氩气或反应气体，引弧装置使引弧丝与柱靶侧面短时间接触，产生火花，使气体电离形起柱靶产生电弧，并环绕柱靶内磁场环绕柱靶侧面作斑点状加速旋转放电，电弧环并能随靶内磁场沿靶轴来回移动，使靶镀料金属气化蒸发，在工作架负偏压作用下离化的镀料离子在工件上成膜。加入不同的反应气体能作多种反应性离子镀。经试验被镀工件膜层均匀牢固。
(1000984-0059-0004)汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
(资料说明）汽轮机低压末级叶片的复合离子镀膜方法，它涉及一种离子镀膜方法。本发明是这样实现的：a.用清洗剂对叶片进行清洗；b.用超声波对叶片进行清洗；c.然后预热除去清洗剂和水渍；d.用铝箔将不需要进行渗层处理的部位密封起来，放入离子束复合表面处理机内；e.用含有Cr和N的离子束轰击叶片，形成过渡层；g.将Cr、N低能离子沉积，形成工作层。本发明的叶片离子镀膜后，叶片表面形成一层保护膜提高了叶片的耐蚀性，叶片的表面硬度提高5倍以上，耐膜性提高10倍以上高周疲劳提高50～70MPa，低周疲劳循环次数提高了1000次以上。它具有工艺简单、成本低、安全可靠的优点。
(1000984-0054-0005)蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
(资料说明）本实用新型公开了一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机，镀膜室由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，另一部分是可以开合移动的前门，两个前门的中央分别装入旋转磁控柱状弧源，利用柱弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发，离化进行离子镀膜。两个前门一开一合，轮换与固定体扣合进行镀膜，整机结构简单、操作简便、镀膜均匀区大、成本低廉。适用于表面镀膜和离子渗金属技术，尤其适于镀氮化钛涂层。
(1000984-0029-0006)多蒸发离化源离子镀膜机
(资料说明）本实用新型涉及一种多蒸发离化源离子镀膜机，属于离子镀表面沉积技术。该镀膜室为筒式结构，室壁与镀膜室底座焊接或螺接，镀膜室置于底座上。加热器焊封在镀膜室底座或侧盖的中心或四周。镀膜室的另一端有密封盖或门。多个(二个以上）蒸发离化源沿筒体轴线方向等距离布置在室壁的四周。真空排气系统与镀膜室相联。蒸发离化源由磁铁、靶材、引弧丝、冷却水套等组成。本实用新型设计的镀膜机构简单、通用性强，可以用于大型工件镀层。
(1000984-0032-0007)多弧型离子镀膜机
(资料说明）一种多弧型离子镀膜机，其镀膜室为简式结构，室壁与镀膜室底焊接，镀膜室立于镀膜室底座上，镀膜室底上的法兰盘上装有加热器，镀膜室的顶部有带有转动架和工件架的上盖，室壁上开有门，蒸发离化源均布在室壁四周，真空排气系统与镀膜室并排相连。这种镀膜机的高度可大大降低，无需大型特殊厂房还可制成大型镀膜机。
(1000984-0050-0008)多用途蚌形双室离子镀膜机
(资料说明）本实用新型公开了一种多用途蚌形双室离子镀膜机，应用于表面等离子体气相沉积领域。其特征是，两个镀膜室分别由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合的前门。在镀膜室的顶部分别安装柱状弧源或柱状磁控溅射靶，镀膜室壁上分别安装平面弧源或平面磁控溅射靶。根据需要可单独开启一种镀膜源镀单层金属膜或化合物膜，也可以开启任何一对柱状源和平面源镀多层膜或合金膜。
(1000984-0069-0009)低压反应离子镀方法制备碳锗合金膜
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(1000984-0085-0010)双面一次成膜真空离子溅镀机
(资料说明）本实用新型公开了一种双面一次成膜真空离子溅镀机，包括溅镀室、安装在溅镀室内的溅射发生器、分别与溅镀室的进口和出口密封连接的若干个真空过渡室、贯穿于真空过渡室和溅镀室的工件输送线，所述溅镀室包括第一溅镀室和第二溅镀室，第一溅镀室内的溅射发生器安装在工件输送线的上方，第二溅镀室内的溅射发生器安装在工件输送线的下方；该溅镀机可以对工件的两个面同时进行镀膜大大提高了生产效率。
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(1000984-0003-0012)用于离子镀膜的冷U阴极装置
(1000984-0025-0013)分立双室离子镀膜机
(1000984-0041-0014)复合真空离子镀膜设备
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(1000984-0013-0016)电弧离子镀沉积氮化钛铌硬质薄膜技术
(1000984-0072-0017)可发生负离子的表面镀膜液状混成涂料及其制备方法
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(1000984-0044-0021)多弧型离子镀膜机
(1000984-0010-0022)离子镀膜前工件处理工艺及除油、去污清洗剂
(1000984-0056-0023)加有离子源的有机蒸发镀膜装置
(1000984-0008-0024)气相离子镀膜方法与其装置
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(1000984-0063-0026)霍尔源激励磁控溅射增强型多弧离子镀膜方法
(1000984-0028-0027)离子镀膜装置
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(1000984-0047-0033)旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
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(1000984-0077-0040)质子交换膜燃料电池不锈钢双极板离子镀膜改性方法
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(1000984-0026-0046)钛铝涂层用多弧离子镀膜机
(1000984-0087-0047)一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极
(1000984-0067-0048)利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
(1000984-0095-0049)一种等离子体蒸发镀膜机
(1000984-0031-0050)离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
(1000984-0058-0051)一种用于离子镀膜室的分度回转工作台装置
(1000984-0078-0052)一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置
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(1000984-0018-0054)采用等离子体CVD法的蒸镀膜
(1000984-0042-0055)电弧蒸发和磁控溅射相结合的离子镀膜设备
(1000984-0016-0056)一种提高锂离子电池负极安全性的表面镀膜修饰方法
(1000984-0019-0057)溅射镀膜离子束辐照增强方法
(1000984-0035-0058)一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
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制作方法 离子镀膜生产加工制备工艺技术 制作工艺离子镀膜生产加工制备工艺技术
配方比例 离子镀膜生产加工制备工艺技术 技术研究应用参考离子镀膜生产加工制备工艺技术
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